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전계 방출 장치 및 이의 구동 방법

  • 기술번호 : KST2015112603
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 전계 방출 효율을 증가시키기 위한 전계 방출 장치 및 이의 구동 방법이 개시된다. 전계 방출 장치는 음극과, 상기 음극의 제1 면에 형성되며 상기 음극과 전기적으로 연결된 전계 방출 첨단부와, 상기 전계 방출 첨단부와 마주보도록 형성된 제1 양극과, 상기 음극의 상기 제1 면에 대향하는 제2 면에 형성된 축전층 및 상기 축전층을 사이에 두고 상기 제2 면과 마주보는 제2 양극을 포함한다. 전계 방출이 일어나는 음극에 강유전체 축전층을 설치함으로써 축전층을 형성하지 않은 종래의 전계 방출 장치에 비해 동일한 크기의 전기장 하에서 전계방출효율을 향상시킬 수 있다. 전계 방출, 축전층 ,첨단부, 전계 방출 장치
Int. CL G09G 3/22 (2011.01) C01B 31/02 (2011.01) H01J 1/30 (2011.01)
CPC H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01) H01J 1/304(2013.01)
출원번호/일자 1020060092071 (2006.09.22)
출원인 삼성전자주식회사, 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2008-0027405 (2008.03.27) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최준호 대한민국 경기 용인시 기흥구
2 추창웅 대한민국 경기 수원시 영통구
3 하재국 대한민국 경기 용인시 기흥구
4 윤춘섭 대한민국 대전 유성구
5 안상진 대한민국 서울특별시 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박영우 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***, *층 **세기특허법률사무소 (역삼동, 세일빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.09.22 수리 (Accepted) 1-1-2006-0685326-11
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.06.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5132663-40
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
음극; 상기 음극의 제1 면에 형성되며 상기 음극과 전기적으로 연결된 전계 방출 첨단부; 상기 전계 방출 첨단부와 마주보도록 형성된 제1 양극;상기 음극의 상기 제1 면에 대향하는 제2 면에 형성된 축전층; 및 상기 축전층을 사이에 두고 상기 제2 면과 마주보는 제2 양극을 포함하는 전계 방출 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 축전층은 강유전체로 이루어진 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 강유전체는 페롭 스카이트 구조의 결정구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 축전층의 두께는 10nm 내지 1㎛ 인 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 전계 방출 첨단부는 몰리브덴, 텅스텐, 탄소 나노튜브 중에서 선택된 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 음극은 니켈(Ni), 질화 티타늄(TiN), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
7 7
제1항에 있어서, 상기 제1 양극은 인듐 틴 옥사이드로 이루어진 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 제2 양극은 플래티넘, 금, 구리 중에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
9 9
제1항에 있어서, 상기 음극, 상기 제1 양극 및 제2 양극에 전압을 인가하는 전원 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
10 10
제9항에 있어서, 상기 전원장치는 상기 음극 및 상기 제1 양극에 제1 전압을 공급하는 제1 전압공급장치;상기 제1 전압공급장치에 연결되고, 상기 음극 및 상기 제1 양극에 인가되는 상기 제1 전압의 크기 및 타이밍을 조절하여 방전 단계를 제어하는 제1 전압제어장치;상기 음극 및 상기 제2 양극에 제2 전압을 공급하는 제2 전압공급장치; 및상기 제2 전압공급장치에 연결되고, 상기 음극 및 상기 제2 양극에 인가되는 상기 제2 전압의 크기 및 타이밍을 조절하여 축전 단계를 제어하는 제2 전압제어장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치
11 11
제10항에 있어서, 상기 전원장치는 상기 제1 및 제2 전압제어장치에 연결되어 상기 축전단계 및 상기 방전단계를 제어하는 제3 전압제어장치를 더 포함하는 전계 방출 장치
12 12
음극, 상기 음극의 제1 면에 형성되며 상기 음극과 전기적으로 연결된 전계 방출 첨단부, 상기 전계 방출 첨단부와 마주보도록 형성된 제1 양극, 상기 음극의 상기 제1 면에 대향하는 제2 면에 형성된 축전층 및 상기 축전층을 사이에 두고 상기 제2 면과 마주보는 제2 양극을 포함하는 전계 방출 장치의 구동 방법에 있어서, 상기 음극과 상기 제2 양극에 전압을 인가하여 상기 축전층의 양단에 전하를 축전시키는 축전 단계; 및상기 음극과 상기 제1 양극에 전압을 인가하여 상기 전계 방출 첨단부로부터 상기 제1 양극 방향으로 전계를 방출시키는 방전 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 장치의 구동 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20080211375 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2008211375 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.