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상판 및 하판의 결합에 의해 제조될 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,상판의 유전체층, 하판의 유전체층 및 격벽, 및 상판과 하판의 봉착재 중 적어도 하나가 유기 단량체, 유기 올리고머 또는 중합이 가능한 관능기를 가지는 실록산계 올리고머를 중합 및 경화시켜 얻은 3차원망목 구조의 화합물로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 1항에 있어서, 상기 실록산계 올리고머에 중합이 가능한 관능기를 가지는 유기 단량체 또는 유기 올리고머를 첨가하여 경화시켜 얻은 3차원망목구조의 화합물로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 3차원 망목구조는 25℃ 내지 300℃ 이하의 온도에서 경화되어 얻은 것임을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 관능기는 할로겐원자, 히드록시기, 글리시독시기, 아민기, 비닐기, 에폭시기, (메트)아크릴기, 아미노기 및 머캅토, 시아노기, 치환된 아미노기, 니트로기 및 이미드기의 군에서 선택되는 적어도 1종의 것을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 2항에 있어서, 올리고머 분자량은 100 내지 10,000 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 격벽은 백색안료를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상판 또는 하판은 소다석회 유리를 포함하는 저온유리 기판 또는 금속 기판인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널
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8 |
8
상판 및 하판의 결합에 의해 제조될 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서,유기 단량체, 유기 올리고머 또는 중합이 가능한 관능기를 가지는 실록산계 올리고머를 중합 및 경화시켜 3차원 망목구조를 형성하여 상판의 유전체층, 하판의 유전체층 및 격벽, 및 상판과 하판의 봉착재 중 적어도 하나를 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 실록산계 올리고머에 중합이 가능한 관능기를 가지는 유기 단량체 또는 유기 올리고머를 첨가하고 경화시켜 3차원망목구조를 형성하여 상판의 유전체층, 하판의 유전체층 및 격벽, 및 상판과 하판의 봉착재 중 적어도 하나를 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 8항 또는 제 9항에 있어서, 경화는 25℃ 내지 300℃ 이하의 온도에서 수행되어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 8항 또는 제 9항에 있어서, 관능기는 할로겐원자, 히드록시기, 글리시독시기, 아민기, 비닐기, 에폭시기, (메트)아크릴기, 아미노기 및 머캅토, 시아노기, 치환된 아미노기, 니트로기 및 이미드기의 군에서 선택되는 적어도 1종의 것을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 9항에 있어서, 올리고머 분자량은 100 내지 10,000 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 8항 또는 제 9항에 있어서, 유전체층은 재료를 도포하는 단계와 25℃ 내지 300℃ 이하의 온도에서 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 8항 또는 제 9항에 있어서, 격벽은 방전공간을 형성하는 단계와 25℃ 내지 300℃ 이하의 온도에서 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 8항 또는 제 9항에 있어서, 격벽은 백색안료를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 8항 또는 제 9항에 있어서, 봉착재는 상판 또는 하판에 재료를 디스펜스하여, 25℃ 내지 300℃이하의 온도에서 경화되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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제 8항 또는 제 9항에 있어서, 경화단계 이후에 미중합 단량체 또는 올리고머를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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18
제 8항 또는 제 9항에 있어서, 상판 또는 하판은 소다석회 유리를 포함하는 저온유리 기판 또는 금속 기판인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
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