1 |
1
처프 펄스 광 증폭장치(CPA)나 광 매개형 처프 펄스 증폭장치(OPCPA)에 사용되는 펄스 신장계과 펄스 압축계로 구성된 처프 펄스 발생기에 있어서,상기 처프 펄스 발생기는 입력신호(원 신호광)가 먼저 회절격자 반평행 구조(굴절형)를 거치고, 상기 회절격자 반평행 구조를 거친 신호가 다시 회절격자 평행 구조를 거치도록 한 회절격자 반평행 구조와 회절격자 평행 구조가 직렬로 이루어지고;상기 입력신호(원 신호광)는 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 1 회절격자(111)로 입사되어 반사되고, 상기 제 1 회절격자(111)에서 반사된 광은 두 개의 렌즈(113)(114)를 통과하며, 상기 두 개의 렌즈(113)(114)를 통과된 광은 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 2 회절격자(112)로 입사되어 다시 반사되고, 상기 제 2 회절격자(112)에서 반사된 광은 거울(115)로 입사되어 높이만 변경되어 반사되며, 상기 거울(115)에서 반사된 광은 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 2 회절격자(112), 상기 두 개의 렌즈(114)(113) 및 제 1 회절격자(111)를 통해 반사되고;상기 제 1 회절격자(111)를 통해 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 1 회절격자(141)로 입사, 반사되고, 상기 제 1 회절격자(141)에서 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 2 회절격자(142)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자(142)에서 반사된 광은 거울(143)로 입사되어 높이만 변경되어 다시 반사되며, 상기 거울(143)에서 반사된 광은 제 2 회절격자(142), 제 1 회절격자(141)를 통해 출력됨을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기기
|
2 |
2
처프 펄스 광 증폭장치(CPA)나 광 매개형 처프 펄스 증폭장치(OPCPA)에 사용되는 펄스 신장계과 펄스 압축계로 구성된 처프 펄스 발생기에 있어서,상기 처프 펄스 발생기는 입력신호(원 신호광)가 먼저 회절격자 반평행 구조(오프너-트리플릿형)를 거치고, 상기 회절격자 반평행 구조를 거친 신호가 다시 회절격자 평행 구조를 거치도록 한 회절격자 반평행 구조와 회절격자 평행 구조가 직렬로 이루어지고;상기 입력신호(원 신호광)는 회절격자 반평행구조(오프너-트리플릿형)의 회절격자(131)로 입사되어 반사되고, 상기 회절격자(131)에서 반사된 광은 제 2 구형거울(133)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 구형거울(133)에서 반사된 광은 제 1 구형 거울(132)로 입사, 반사된 후, 다시 제 2 구형 거울(133)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 구형 거울(133)에서 반사된 광은 회절격자(131)로 입사, 반사되어 프리즘(134)으로 입사되어 높이만 변경되어 반사되고, 상기 프리즘(134)에서 반사된 광은 회절격자(131), 제 2 구형거울(133), 제 1 구형거울(132)을 거쳐 다시 제 2 구형거울(133), 회절격자(131)를 통해 출력되며;상기 제 1 회절격자(131)를 통해 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 1 회절격자(141)로 입사, 반사되고, 상기 제 1 회절격자(141)에서 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 2 회절격자(142)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자(142)에서 반사된 광은 거울(143)로 입사되어 높이만 변경되어 다시 반사되며, 상기 거울(143)에서 반사된 광은 제 2 회절격자(142), 제 1 회절격자(141)를 통해 출력됨을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
|
3 |
3
처프 펄스 광 증폭장치(CPA)나 광 매개형 처프 펄스 증폭장치(OPCPA)에 사용되는 펄스 신장계과 펄스 압축계로 구성된 처프 펄스 발생기에 있어서,상기 펄스 신장계는 입력신호(원 신호광)가 먼저 회절격자 반평행 구조(반사형)를 거치고, 상기 회절격자 반평행 구조를 거친 신호가 다시 회절격자 평행 구조를 거치도록 한 회절격자 반평행 구조와 회절격자 평행 구조가 직렬로 이루어지고;상기 입력신호(원 신호광)는 회절격자 반평행구조(반사형)의 제 1 회절격자(121)로 입사되어 반사되고, 상기 제 1 회절격자(131)에서 반사된 광은 두 개의 실린더형 거울(123)(124)을 거쳐 제 2 회절격자(122)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자(122)에서 반사된 광은 프리즘(125)으로 입사되어 높이만 변경되어 반사되고, 상기 프리즘(125)에서 반사된 광은 제 2 회절격자(122), 실린더형 거울(124)(123) 및 제 1 회절격자(121)를 통해 출력되며;상기 제 1 회절격자(121)를 통해 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 1 회절격자(141)로 입사, 반사되고, 상기 제 1 회절격자(141)에서 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 2 회절격자(142)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자(142)에서 반사된 광은 거울(143)로 입사되어 높이만 변경되어 다시 반사되며, 상기 거울(143)에서 반사된 광은 제 2 회절격자(142), 제 1 회절격자(141)를 통해 출력됨을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
|
4 |
4
제 2항에 있어서,상기 회절격자 반평행구조(오프너-트리플릿형)에 사용되는 회절격자는 1차 회절을 이용하고, 회절격자의 그루브 수가 1740line/mm이며, 입사각이 62
|
5 |
5
제 2항에 있어서,상기 회절격자 반평행구조(오프너-트리플릿형)에 사용되는 회절격자는 -1차 회절을 이용하고, 회절격자의 그루브 수가 850line/mm이며, 입사각이 5
|
6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 굴절형 회절격자 반평행구조에서는 대응분리거리는 2f - s1 - s2로 나타내며, f는 렌즈(113)(114)의 초점거리, s1 및 s2는 각 렌즈(113)(114)와 회절격자(111)(112)간 거리를 가리키는 것을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
|
7 |
7
제 3 항에 있어서,상기 반사형 회절격자 반평행구조에서는 대응분리거리는 2f - s1 - s2로 나타내며, f는 실린더형 거울(123)(124)의 초점거리, s1 및 s2는 각 실린더형 거울(123)(124)과 회절격자(121)(122)간 거리를 가리키는 것을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
|
8 |
8
제 2 항에 있어서,상기 오프너-트리플릿형 회절격자 반평행구조에서는 대응분리거리는 2(R - s)로 나타내며, R은 제 2 구형거울(133)의 반경, s는 제 2 구형거울(133)에서 회절격자간 거리를 가리키는 것을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
|
9 |
9
삭제
|
10 |
10
삭제
|
11 |
11
삭제
|
12 |
12
삭제
|