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회절격자 구조의 3차 분산을 이용한 U자형 처프 펄스발생기

  • 기술번호 : KST2015114713
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 처프 펄스 광 증폭장치(CPA)나 광 매개형 처프 펄스 증폭장치(OPCPA)에 사용되는 펄스 신장계과 펄스 압축계로 구성된 처프 펄스 발생기에 있어서, 상기 처프 펄스 발생기는 입력신호(원 신호광)가 먼저 회절격자 반평행 구조(굴절형)를 거치고, 상기 회절격자 반평행 구조를 거친 신호가 다시 회절격자 평행 구조를 거치도록 한 회절격자 반평행 구조와 회절격자 평행 구조가 직렬로 이루어지고; 상기 입력신호(원 신호광)는 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 1 회절격자로 입사되어 반사되고, 상기 제 1 회절격자에서 반사된 광은 두 개의 렌즈를 통과하며, 상기 두 개의 렌즈를 통과된 광은 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 2 회절격자로 입사되어 다시 반사되고, 상기 제 2 회절격자에서 반사된 광은 거울로 입사되어 높이만 변경되어 반사되며, 상기 거울에서 반사된 광은 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 2 회절격자, 상기 두 개의 렌즈 및 제 1 회절격자를 통해 반사되고; 상기 제 1 회절격자를 통해 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 1 회절격자로 입사, 반사되고, 상기 제 1 회절격자에서 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 2 회절격자로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자에서 반사된 광은 거울로 입사되어 높이만 변경되어 다시 반사되며, 상기 거울에서 반사된 광은 제 2 회절격자, 제 1 회절격자를 통해 출력됨을 특징으로 한다.따라서 본 발명에서는 회절격자 반평행구조와 회절격자 평행구조의 직렬 구성 등을 이용하여 2차 분산은 상쇄시키면서 3차 분산을 극대화할 수 있는 구조를 가진 처프 펄스 발생기(펄스 신장계 및 펄스 압축계)를 제공함으로써 기존의 선형 처프를 주는 펄스 신장계와 달리 U자형 처핑된 광을 용이하게 생성할 수 있다.처프 펄스 발생기, 펄스 신장계, 펄스 압축계, 3차 분산
Int. CL G02F 1/35 (2006.01) G02B 5/18 (2006.01)
CPC G02F 1/39(2013.01) G02F 1/39(2013.01) G02F 1/39(2013.01) G02F 1/39(2013.01) G02F 1/39(2013.01)
출원번호/일자 1020060063089 (2006.07.05)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0784834-0000 (2007.12.05)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20071214) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.07.05)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 공홍진 대한민국 대전 유성구
2 이동원 대한민국 대전 유성구
3 백두현 대한민국 서울 광진구
4 이신욱 대한민국 서울 서초구
5 김태형 대한민국 부산 연제구
6 전병구 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 공인복 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로**길*-**, 대송빌딩 *층(특허법인 대한(서초분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.07.05 수리 (Accepted) 1-1-2006-0483468-03
2 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent
2007.02.14 수리 (Accepted) 1-1-2007-0135982-76
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.03.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.04.11 수리 (Accepted) 9-1-2007-0019665-73
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.08.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0428052-71
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.09.21 수리 (Accepted) 1-1-2007-0689230-54
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.09.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0689228-62
8 등록결정서
Decision to grant
2007.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0649981-33
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
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처프 펄스 광 증폭장치(CPA)나 광 매개형 처프 펄스 증폭장치(OPCPA)에 사용되는 펄스 신장계과 펄스 압축계로 구성된 처프 펄스 발생기에 있어서,상기 처프 펄스 발생기는 입력신호(원 신호광)가 먼저 회절격자 반평행 구조(굴절형)를 거치고, 상기 회절격자 반평행 구조를 거친 신호가 다시 회절격자 평행 구조를 거치도록 한 회절격자 반평행 구조와 회절격자 평행 구조가 직렬로 이루어지고;상기 입력신호(원 신호광)는 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 1 회절격자(111)로 입사되어 반사되고, 상기 제 1 회절격자(111)에서 반사된 광은 두 개의 렌즈(113)(114)를 통과하며, 상기 두 개의 렌즈(113)(114)를 통과된 광은 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 2 회절격자(112)로 입사되어 다시 반사되고, 상기 제 2 회절격자(112)에서 반사된 광은 거울(115)로 입사되어 높이만 변경되어 반사되며, 상기 거울(115)에서 반사된 광은 회절격자 반평행구조(굴절형)의 제 2 회절격자(112), 상기 두 개의 렌즈(114)(113) 및 제 1 회절격자(111)를 통해 반사되고;상기 제 1 회절격자(111)를 통해 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 1 회절격자(141)로 입사, 반사되고, 상기 제 1 회절격자(141)에서 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 2 회절격자(142)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자(142)에서 반사된 광은 거울(143)로 입사되어 높이만 변경되어 다시 반사되며, 상기 거울(143)에서 반사된 광은 제 2 회절격자(142), 제 1 회절격자(141)를 통해 출력됨을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기기
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처프 펄스 광 증폭장치(CPA)나 광 매개형 처프 펄스 증폭장치(OPCPA)에 사용되는 펄스 신장계과 펄스 압축계로 구성된 처프 펄스 발생기에 있어서,상기 처프 펄스 발생기는 입력신호(원 신호광)가 먼저 회절격자 반평행 구조(오프너-트리플릿형)를 거치고, 상기 회절격자 반평행 구조를 거친 신호가 다시 회절격자 평행 구조를 거치도록 한 회절격자 반평행 구조와 회절격자 평행 구조가 직렬로 이루어지고;상기 입력신호(원 신호광)는 회절격자 반평행구조(오프너-트리플릿형)의 회절격자(131)로 입사되어 반사되고, 상기 회절격자(131)에서 반사된 광은 제 2 구형거울(133)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 구형거울(133)에서 반사된 광은 제 1 구형 거울(132)로 입사, 반사된 후, 다시 제 2 구형 거울(133)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 구형 거울(133)에서 반사된 광은 회절격자(131)로 입사, 반사되어 프리즘(134)으로 입사되어 높이만 변경되어 반사되고, 상기 프리즘(134)에서 반사된 광은 회절격자(131), 제 2 구형거울(133), 제 1 구형거울(132)을 거쳐 다시 제 2 구형거울(133), 회절격자(131)를 통해 출력되며;상기 제 1 회절격자(131)를 통해 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 1 회절격자(141)로 입사, 반사되고, 상기 제 1 회절격자(141)에서 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 2 회절격자(142)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자(142)에서 반사된 광은 거울(143)로 입사되어 높이만 변경되어 다시 반사되며, 상기 거울(143)에서 반사된 광은 제 2 회절격자(142), 제 1 회절격자(141)를 통해 출력됨을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
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처프 펄스 광 증폭장치(CPA)나 광 매개형 처프 펄스 증폭장치(OPCPA)에 사용되는 펄스 신장계과 펄스 압축계로 구성된 처프 펄스 발생기에 있어서,상기 펄스 신장계는 입력신호(원 신호광)가 먼저 회절격자 반평행 구조(반사형)를 거치고, 상기 회절격자 반평행 구조를 거친 신호가 다시 회절격자 평행 구조를 거치도록 한 회절격자 반평행 구조와 회절격자 평행 구조가 직렬로 이루어지고;상기 입력신호(원 신호광)는 회절격자 반평행구조(반사형)의 제 1 회절격자(121)로 입사되어 반사되고, 상기 제 1 회절격자(131)에서 반사된 광은 두 개의 실린더형 거울(123)(124)을 거쳐 제 2 회절격자(122)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자(122)에서 반사된 광은 프리즘(125)으로 입사되어 높이만 변경되어 반사되고, 상기 프리즘(125)에서 반사된 광은 제 2 회절격자(122), 실린더형 거울(124)(123) 및 제 1 회절격자(121)를 통해 출력되며;상기 제 1 회절격자(121)를 통해 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 1 회절격자(141)로 입사, 반사되고, 상기 제 1 회절격자(141)에서 반사된 광은 회절격자 평행구조의 제 2 회절격자(142)로 입사, 반사되며, 상기 제 2 회절격자(142)에서 반사된 광은 거울(143)로 입사되어 높이만 변경되어 다시 반사되며, 상기 거울(143)에서 반사된 광은 제 2 회절격자(142), 제 1 회절격자(141)를 통해 출력됨을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
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제 2항에 있어서,상기 회절격자 반평행구조(오프너-트리플릿형)에 사용되는 회절격자는 1차 회절을 이용하고, 회절격자의 그루브 수가 1740line/mm이며, 입사각이 62
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제 2항에 있어서,상기 회절격자 반평행구조(오프너-트리플릿형)에 사용되는 회절격자는 -1차 회절을 이용하고, 회절격자의 그루브 수가 850line/mm이며, 입사각이 5
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제 1 항에 있어서,상기 굴절형 회절격자 반평행구조에서는 대응분리거리는 2f - s1 - s2로 나타내며, f는 렌즈(113)(114)의 초점거리, s1 및 s2는 각 렌즈(113)(114)와 회절격자(111)(112)간 거리를 가리키는 것을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
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제 3 항에 있어서,상기 반사형 회절격자 반평행구조에서는 대응분리거리는 2f - s1 - s2로 나타내며, f는 실린더형 거울(123)(124)의 초점거리, s1 및 s2는 각 실린더형 거울(123)(124)과 회절격자(121)(122)간 거리를 가리키는 것을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
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제 2 항에 있어서,상기 오프너-트리플릿형 회절격자 반평행구조에서는 대응분리거리는 2(R - s)로 나타내며, R은 제 2 구형거울(133)의 반경, s는 제 2 구형거울(133)에서 회절격자간 거리를 가리키는 것을 특징으로 하는 처프 펄스 발생기
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