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0.1 ∼ 30 MHz의 반복률을 갖는 광섬유 레이저 시스템 및 이를 이용한 시편 가공

  • 기술번호 : KST2015115128
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 두 가지 방법을 통해 0.1 ~ 30 MHz의 반복률을 가지는 레이저를 생성한다. 첫 번째 방법은 레이저 펌핑 광을 출사하는 펌핑 광원, 상기 광원에서 출사되는 펌핑 광의 파장을 공진기로 입사시키는 파장분할기, 상기 파장분할기를 통해 입사하는 광을 이용하여 공진기 내부 공진 광을 증폭시키는 이터븀 첨가 광섬유, 공진기 내부의 편광을 조절하여 NPE(nonlinear polarization evolution)을 통한 편광 기반 모드잠금을 유발하는데 필요한 제 1파장판, 광차폐기, 제 2파장판, 혹은 광량 기반 모드잠금 현상을 유발하기 위해 필요한 포화광 흡수체를 이용하여 30 ~ 200 MHz의 반복률을 갖는 레이저 공진기를 구성하고, 상기 공진기에서 출력되는 레이저를 펄스추출기를 이용하여 0.1 ~ 30 MHz의 반복률을 가지는 레이저를 생성하는 것을 특징으로 한다. 두 번째 방법은 첫 번째 방법과는 달리 공진기 외부에 펄스추출기를 사용하지 않고, 공진기 자체적으로 0.1 ~ 30 MHz에 해당하는 펄스를 생성하는 것으로, 이를 위해 단일 모드 광섬유를 추가로 공진기 내에 연결하며, 이로 인해 발생한 과도한 분산을 보상하기 위한 분산 보상부를 삽입하고, 편광 기반 모드잠금과 광량 기반 모드잠금 방법을 동시에 적용하여 안정적인 모드잠금이 유지되도록 하는 것을 특징으로 한다. 또한, 0.1 ~ 30 MHz의 반복률을 갖는 레이저를 증폭단을 통해 증폭하여 가공에 적용함으로써, 높은 수율을 보이는 가공시스템을 구성할 수 있다.
Int. CL H01S 3/067 (2014.01) B23K 26/36 (2014.01)
CPC H01S 3/1115(2013.01) H01S 3/1115(2013.01) H01S 3/1115(2013.01) H01S 3/1115(2013.01)
출원번호/일자 1020110012349 (2011.02.11)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1268568-0000 (2013.05.22)
공개번호/일자 10-2012-0092350 (2012.08.21) 문서열기
공고번호/일자 (20130528) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.02.11)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김승우 대한민국 대전광역시 유성구
2 김영진 대한민국 경상남도 창원시 진해구
3 김윤석 대한민국 광주광역시 서구
4 유준호 대한민국 대전광역시 유성구
5 김승만 대한민국 인천광역시 남동구
6 박상욱 대한민국 경상남도 김해시 인제로 ***,
7 한승회 대한민국 대전광역시 동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인대한 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 부봉빌딩 *층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.02.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0099398-15
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.10.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.11.18 수리 (Accepted) 9-1-2011-0092236-73
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0357943-55
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.08.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0664978-18
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.09.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0764999-90
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2012-0764998-44
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.11.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0677704-77
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.01.09 수리 (Accepted) 1-1-2013-0024242-35
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.01.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0024244-26
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
12 등록결정서
Decision to grant
2013.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0339251-92
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1
삭제
2 2
레이저 광을 출사하는 광원;상기 광원에서 출사되는 광의 파장을 분할하는 파장분할기;상기 파장분할기에 출사되는 광을 증폭시키는 이터븀 첨가 광섬유;광섬유순환기;상기 광섬유순환기에서 출력되는 광으로부터 광량 기반 모드잠금을 유도하기 위한 포화광 흡수체; 및상기 포화광 흡수체를 투과한 광에서 일부 광을 차단하는 광차폐기;를 포함하여 30 ~ 200 MHz의 반복률을 갖는 레이저 공진기를 구성하고,상기 공진기에서 출력되는 레이저를 펄스추출기를 이용하여 일부 펄스만 선택적으로 투과시켜 최종적으로 0
3 3
제 2항에 있어서, 상기 펄스추출기는,전기광학 소자(Electro-optic devices), 음향광학 소자(Acousto-optic devices) 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 0
4 4
레이저 광을 출사하는 광원;상기 광원에서 출사되는 광의 파장을 분할하는 파장분할기;상기 파장분할기에 출사되는 광을 증폭시키는 이터븀 첨가 광섬유;상기 이터븀 첨가 광섬유에서 출력되는 광을 편광을 변환시키는 파장판;상기 파장판을 통과한 편광 중에서 일부 광을 차단하는 광차폐기;상기 광차폐기에서 출력되는 광으로부터 펄스광을 출력하는 포화광 흡수체;낮은 반복률 유도를 위한 단일모드광섬유분산을 보상하기 위한 분산보상부;를 포함하며,상기 포화광흡수체는 투과형 포화광 흡수체(transmitted saturable absorber)인 것을 특징으로 하는 0
5 5
삭제
6 6
레이저 광을 출사하는 광원;상기 광원에서 출사되는 광의 파장을 분할하는 파장분할기;상기 파장분할기에 출사되는 광을 증폭시키는 이터븀 첨가 광섬유;상기 이터븀 첨가 광섬유에서 출력되는 광을 편광을 변환시키는 파장판;상기 파장판을 통과한 편광 중에서 일부 광을 차단하는 광차폐기;광섬유순환기;상기 광섬유순환기에서 출력되는 광으로부터 펄스광을 출력하는 포화광 흡수체;낮은 반복률 유도를 위한 단일모드광섬유; 및분산을 보상하기 위한 분산보상부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 0
7 7
제 6항에 있어서, 상기 분산보상부는,한쌍의 회절격자, 한쌍의 프리즘, 미세구조 광섬유 중 어느 하나 또는 둘 이상을 적용하여 구성된 것을 특징으로 하는 0
8 8
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.