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탄소만을 가지는 4급 탄소 입체중심 화합물 제조용 촉매로, 상기 촉매는 하기 화학식 1로 표시되는 촉매:[화학식 1]
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제1항에 있어서, 상기 촉매는 2가 구리 화합물과 함께 키랄 리간드 구리 복합체를 형성하여 촉매 반응을 수행하는 것을 특징으로 하는 탄소만을 가지는 4급 탄소 입체중심 화합물 제조용 촉매
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제2항에 있어서, 촉매 반응 수행시 상기 촉매와 2가 구리 화합물의 몰비는 0
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제2항에 있어서, 상기 2가 구리 화합물은 CuCl2, Cu(OTf)2, Cu(PF6)2, Cu(SbF6)2, CuBr2 및 Cu(OAc)2로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인, 탄소만을 가지는 4급 탄소 입체중심 화합물 제조용 촉매
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하기 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법:아민 보호기로 보호된 (R)-페닐글리신 메틸 에스테르와 nBuMgCl을 반응시켜 아민 보호기로 보호된 (R)-2-부틸-2-히드록시-1-페닐헥실아민을 제조하는 단계(단계 1); 상기 아민 보호기로 보호된 (R)-2-부틸-2-히드록시-1-페닐헥실아민을 탈보호 반응시켜 (R)-2-부틸-2-히드록시-1-페닐헥실아민을 제조하는 단계(단계 2); 및 상기 (R)-2-부틸-2-히드록시-1-페닐헥실아민과 디메틸 피리딘-2,6-비스(카브이미데이트)를 반응시켜 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(단계 3):[화학식 1]
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제5항에 있어서, 상기 아민 보호기는 카복시벤질기, 카복시터셔리부틸옥시, 카복시에틸옥시 또는 카복시알릴옥시인, 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 1)의 아민 보호기로 보호된 (R)-페닐글리신 메틸 에스테르와 nBuMgCl의 몰비는 2 내지 10 당량인, 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 1)은 용매로서 디에틸 에테르, 테트라하이드로 퓨란 및 헥산으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 사용하여 수행되는, 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 1)은 25 내지 -78 ℃에서 수행되는, 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 2)의 탈보호 반응은 Pd/C의 존재 하에 수소 대기 중에서 수행되는, 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 3)의 (R)-2-부틸-2-히드록시-1-페닐헥실아민과 디메틸 피리딘-2,6-비스(카브이미데이트)의 몰비는 5:1 내지 2:1인, 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 3)은 용매로서 디클로로메탄 및 디클로로에탄으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 사용하여 수행되는, 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 3)은 0 내지 100 ℃에서 수행되는, 화학식 1로 표시되는 촉매의 제조방법
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