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플라즈마 장치 및 기판 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015115367
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치를 제공한다. 이 플라즈마 발생 장치는 진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들, 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들, 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원, 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원, 및 제1 그룹의 안테나와 제1 RF 전원 사이에 배치되어 제1 RF 전원의 전력을 제1 그룹의 안테나에 전력을 분배하는 제1 전력 분배부를 포함한다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) H05H 1/36 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110104792 (2011.10.13)
출원인 한국과학기술원, 주식회사 윈텔
등록번호/일자 10-1246191-0000 (2013.03.15)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130321) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020120145015;
심사청구여부/일자 Y (2011.10.13)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
2 윈텔코퍼레이션 주식회사 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전광역시 유성구
2 이진원 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이평우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)(특허법인 누리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
2 윈텔코퍼레이션 주식회사 경기도 용인시 기흥구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.10.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0801771-66
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status		 2011.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-5034839-20
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.05.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.06.21 수리 (Accepted) 9-1-2012-0048778-65
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.11.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0671735-42
6 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2012.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-1035865-16
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-1035893-84
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.12.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-1035889-01
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
10 등록결정서
Decision to grant		 2013.03.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0147324-23
11 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2013.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0377922-53
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2017-5043333-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.10.15 수리 (Accepted) 4-1-2018-5207644-37
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들;상기 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 상기 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들;상기 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원;상기 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원; 및상기 제1 그룹의 안테나와 상기 제1 RF 전원 사이에 배치되어 상기 제1 RF 전원의 전력을 상기 제1 그룹의 안테나에 분배하는 제1 전력 분배부를 포함하고,상기 제1 그룹의 안테나들은 상기 진공 용기의 상판의 중심을 기준으로 일정한 반경의 원주의 주위에 대칭적으로 되고,상기 제2 그룹의 안테나는 상기 상판의 중심에 배치되고,상기 제1 전력 분배부는:제1 전력 분배 라인; 및상기 제1 전력 분배 라인을 감싸고 접지되는 제1 도전성 외피를 포함하고,상기 제1 그룹의 안테나의 일단은 상기 제1 전력 분배라인의 일단에 연결되고, 상기 제1 그룹의 안테나의 타단은 상기 제1 도전성 외피의 일단에 연결되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
2 2
제1 항에 있어서,상기 제1 전력 분배부의 입력단과 상기 제1 그룹의 안테나 사이의 거리는 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
3 3
제1 항에 있어서,상기 제2 RF 전원과 상기 제2 그룹의 안테나 사이에 배치되는 상기 제2 전력 분배부를 더 포함하고,상기 제2 전력 분배부는:제2 전력 분배 라인; 및상기 제2 전력 분배 라인을 감싸고 접지되는 제2 도전성 외피를 포함하고,상기 제2 전력 분배부의 입력단과 상기 제2 그룹의 안테나 사이의 거리는 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
4 4
제1 항에 있어서,상기 유전체 튜브들의 길이 방향으로 이격되어 배치되는 토로이드 형태의 영구 자석들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
5 5
제4 항에 있어서,상기 영구 자석들의 전부 또는 일부를 고정하고 상기 영구 자석들이 배치되는 평면을 이동시키는 이동부를 더 포함하고,상기 이동부는 주어진 조건(L,ω,R)에 대하여, 자속밀도(B0)에 대한 플라즈마 밀도(n0)의 비(B0/n0)가 일정하도록 이동시키고, B0는 상기 유전체 튜브들의 중심에서 자속 밀도의 세기이고, R은 유전체 튜브의 반경이고, 유전체 튜브의 길이는 L/2이고, ω는 상기 제1 RF 전원의 각주파수이고, n0은 플라즈마의 밀도인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
6 6
제5 항에 있어서,상기 이동부는:상기 진공 용기에 고정 결합하고 상기 유전체 튜브들이 배치된 평면에 수직하게 연장되는 적어도 하나의 지지 기둥; 및상기 영구 자석들이 장착되고 상기 지지 기둥에 삽입되어 상기 지지 기둥을 따라 이동 가능한 영구 자석 고정판을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
7 7
제1 항에 있어서,상기 유전체 튜브들의 일단에 각각 장착되는 금속 뚜껑들; 및상기 유전체 튜브들에 가스를 공급하는 가스 분배부를 더 포함하고,상기 가스 분배부는 상기 원주의 주위에 대칭적으로 배치되는 상기 유전체 튜브들에 동일한 길이를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
8 8
제1 항에 있어서,상기 제1 전력 분배부는:상기 제1 RF 전원으로터 전력을 공급받는 동축 케이블 형태의 입력 브랜치;상기 입력 브랜치와 연결되고 3 갈래로 갈라지는 동축 케이블 형태의 3 웨이(way) 브랜치; 및상기 3 웨이 브랜치에 연결되어 2 갈래로 갈라지는 동축 케이블 형태의 T 브랜치들을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
9 9
제8 항에 있어서,상기 안테나들을 고정하고 상기 상판에 고정되는 고정판들; 및상기 고정판과 상기 T 브랜치들의 외측 도선을 연결하는 접지 라인을 더 포함하고,상기 고정판들의 일단은 상기 안테나들을 통하여 상기 T 브랜치들의 내측 도선에 연결되고, 상기 고정판들의 타단은 상기 접지 라인에 연결되고,상기 접지 라인의 길이는 모든 안테나들에 대하여 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
10 10
제1 항에 있어서,상기 유전체 튜브들의 일단에 각각 장착되는 금속 뚜껑들을 더 포함하고,상기 유전체 튜브들의 길이(L/2=π/kz)은조건을 만족하고,R은 상기 유전체 튜브들의 반경이고,B0는 상기 유전체 튜브들의 중심에서 자속 밀도의 세기이고, μ0는 투자율이이고, ω는 상기 제1 RF 전원의 각주파수이고, n0은 플라즈마의 밀도이고,kz는 헬리콘 웨이브의 파수(wave number)이고,상기 유전체 튜브들의 길이는 L/2 이고,e는 전자의 전하량인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
11 11
제1 항에 있어서,상기 제1 RF 전원의 구동 주파수는 상기 제2 RF 전원의 구동 주파수와 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
12 12
제8 항에 있어서,상기 입력 브렌치는 원통 형상이고, 상기 3 웨이 브랜치는 사각형 형상이고, 상기 T 브랜치는 사각형 형상이고,상기 제1 전력 분배 라인은 파이프 형상이고, 그 내부에 냉매가 흐르고, 상기 냉매는 상기 제1 룹의 안테나들에 제공되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
13 13
진공 용기에 형성된 복수의 관통홀들에 각각 장착되는 복수의 유전체 튜브들;상기 진공 용기에 배치되는 대칭성에 따라 제1 그룹 및 제2 그룹으로 분류되고 상기 유전체 튜브들의 외측에 각각 장착되는 안테나들;상기 제1 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제1 RF 전원;상기 제2 그룹의 안테나에 전력을 공급하는 제2 RF 전원; 및상기 제1 그룹의 안테나와 상기 제1 RF 전원 사이에 배치되어 상기 제1 RF 전원의 전력을 상기 제1 그룹의 안테나에 분배하는 제1 전력 분배부를 포함하고,상기 안테나들은 상기 진공 용기의 사각형의 상판에 매트릭스 형태로 배치되고,상기 제1 그룹의 안테나는 외곽을 따라 배치되고,상기 제2 그룹의 안테나는 상기 제1 그룹의 안테나로 둘러싸이도록 내측에 배치되고,상기 제1 전력 분배부는:제1 전력 분배 라인; 및상기 제1 전력 분배 라인을 감싸고 접지되는 제1 도전성 외피를 포함하고,상기 제1 그룹의 안테나의 일단은 상기 제1 전력 분배라인의 일단에 연결되고, 상기 제1 그룹의 안테나의 타단은 상기 제1 도전성 외피의 일단에 연결되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치
14 14
제13 항에 있어서,상기 제2 그룹의 안테나와 상기 제2 RF 전원 사이에 배치되어, 상기 제2 RF 전원의 전력은 상기 제2 그룹의 안테나에 분배하는 제2 전력 분배부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
15 15
제 1항 또는 제13항에 있어서,상기 관통홀들의 하부에 배치된 그리드들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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1 지식경제부 한국과학기술원 전자정보디바이스산업원천기술개발 고밀도 플라즈마를 이용한 10nm급 반도체 및 10세대 디스플레이용 핵심원천 기술개발