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낮은 열팽창 계수를 갖는 신규한 폴리아미드이미드

  • 기술번호 : KST2015116260
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 [화학식 A]로 표시되는, 두 개의 치환기 R 및 R＇가 고리그룹A와 고리그룹B 중 한쪽의 고리그룹A에만 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 비대칭 디카르복실산 유도체를 포함하는 폴리아미드이미드에 관한 것이다. 본 발명에 의해 제조된 고분자는 유기 용매에 대한 충분한 용해도와 높은 열적 안정성, 높은 유리전이온도, 높은 투명도 및 낮은 열팽창계수를 가질 수 있어, 플렉시블 디스플레이의 핵심 기판소재로의 요구조건을 만족시킬 뿐만 아니라 다양한 유연성 전자정보소자 물질로 응용이 가능하다.[화학식 A]
Int. CL C07D 403/10 (2006.01) C08G 73/14 (2006.01) C07F 1/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120155221 (2012.12.27)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1529496-0000 (2015.06.11)
공개번호/일자 10-2014-0085064 (2014.07.07) 문서열기
공고번호/일자 (20150622) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020140085838;
심사청구여부/일자 Y (2012.12.27)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상율 대한민국 대전 유성구
2 김선달 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 공간 대한민국 대전광역시 서구 둔산서로 ***, *층(둔산 *동, 산업은행B/D)
2 맹성재 대한민국 대전광역시 서구 청사로 *** (둔산동) 수협빌딩 *층(RnD특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-1086054-89
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
3 [서류송달대표자선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Representative for Transmittal of Document] Report on Agent (Representative)		 2014.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2014-0269345-08
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0450321-51
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.07.08 수리 (Accepted) 1-1-2014-0642184-48
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.07.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0642196-96
7 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2014.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2014-0644105-09
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.08.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-0759720-21
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.08.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0759717-94
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
13 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0885475-53
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.02.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0143788-23
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.02.11 수리 (Accepted) 1-1-2015-0143795-43
16 등록결정서
Decision to grant		 2015.06.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0387883-65
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 [화학식 A]로 표시되는, 두 개의 치환기 R 및 R＇가 고리그룹A와 고리그룹B 중 한쪽의 고리그룹A에만 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 비대칭 디카르복실산 유도체, 이의 알카리금속 염 또는 이의 알카리토금속 염
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서,상기 L1은 단일결합이고,상기 R과 R＇는 각각 불소를 포함하는 탄소수 1 내지 5의 알킬이고,상기 X1 내지 X3은 각각 동일하거나 상이하며, 수소, 할로겐, 트리플루오로메틸기, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어진 군으로 선택되며;상기 고리그룹 및 는 각각 치환되지 않은 탄소수 6 내지 12의 아릴렌인 것을 특징으로 하는 디카르복실산 유도체, 이의 알카리금속 염 또는 이의 알카리토금속 염
5 5
제 4 항에 있어서,하기 화학식 A-1로 표시되는 것을 특징으로 하는 디카르복실산 유도체, 이의 알카리금속 염 또는 이의 알카리토금속 염
6 6
하기 반응식 1을 통해 이루어지는, 화학식 A-2 의 디아민 화합물과 화학식 A-3의 화합물의 이미드화 반응에 의한 하기 [화학식 A]로 표시되는 디카르복실산 유도체의 제조방법[반응식 1] 상기 화학식 A-2 및 화학식 A-3 및 화학식 A에서 R, R＇, X1 내지 X3, L1 및 고리그룹 및 은 각각 제1항에서 정의한 바와 동일하다
7 7
제 6 항에 있어서,상기 반응식 1의 이미드화 반응은 빙초산에서 탈수화 반응으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 디카르복실산 유도체의 제조방법
8 8
하기 [화학식 B] 또는 [화학식C]로 표시되는 폴리아미드이미드
9 9
삭제
10 10
제 8 항에 있어서, 상기 L1은 단일결합인 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드
11 11
제 10 항에 있어서,상기 L2는 치환되지 않은 탄소수 1 내지 12의 알킬렌기, 치환되지 않은 탄소수 6 내지 12의 아릴렌기, 탄소수 1 내지 12의 할로겐화 알킬기로 치환된 탄소수 6 내지 16의 아릴렌기에서 선택되는 어느 하나이며,상기 R과 R＇는 각각 불소를 포함하는 탄소수 1 내지 5의 알킬이고,상기 X1 내지 X3은 각각 동일하거나 상이하며, 수소, 할로겐, 트리플루오로메틸기, 치환되지 않은 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 치환되지 않은 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 이루어진 군으로 선택되며,상기 고리그룹 및 는 각각 치환되지 않은 탄소수 6 내지 12의 아릴렌인 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 L2는 , , , , , , , 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드
13 13
제 12 항에 있어서,하기 화학식 B-1 또는 C-1 로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드
14 14
하기 반응식 2를 통해 이루어지는, 화학식 A의 비대칭 디카르복실산 유도체와 화학식 B-2의 디아민 단량체의 아미드화 중합반응에 의한 하기 화학식 B로 표시되는 폴리아미드이미드의 제조방법[반응식 2]상기 반응식 2에서 R, R＇, X1 내지 X3, L1, L2 , n 및 고리그룹 및 은 각각 제8항에서 정의한 바와 동일하다
15 15
하기 반응식 3을 통해 이루어지는, a) 화학식 A-3의 트라이멜리틱 무수물과 화학식 B-2의 디아민 화합물을 이미드화 반응함으로써 화학식 C-3의 디카르복실산 유도체를 제조하는 단계; 및 b) 하기 반응식 4를 통해 이루어지는, 상기 화학식 C-3의 디카르복실산 유도체와 화학식 A-2의 디아민 화합물을 아미드화 중합반응을 시키는 단계;를 포함하는 화학식 C로 표시되는 폴리아미드이미드의 제조방법[반응식 3][반응식 4]상기 반응식 3 및 반응식 4 에서 R, R＇, X1 내지 X3, L1, L2 , n 및 고리그룹 및 은 각각 제8항에서 정의한 바와 동일하다
16 16
제 14 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 화학식 B-2로 표시되는 디아민은 2,2'-비스트리플루오로메틸벤지딘, 2,6-비스트리플루오로메틸벤지딘, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-아미노벤질아민, m-아미노벤질아민, 4,4'-다이아미노다이페닐메탄, 3,4'-다이아미노다이페닐메탄, 3,3'-다이아미노다이페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐에탄, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-다이아미노다이페닐 에테르, 3,3'-다이아미노다이페닐 에테르, 2,4'-다이아미노다이페닐 에테르, 2,2'-다이아미노다이페닐 에테르, 2,3'-다이아미노다이페닐 에테르, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 비스(3-아미노페닐)설파이드, 3,4-다이아미노페닐설파이드, 비스(4-아미노페닐)술폭사이드, 비스(3-아미노페닐)술폭사이드, 3,4-다이아미노페닐술폭사이드, 비스(4-아미노페닐)술폰, 비스(3-아미노페닐)술폰, 3,4-다이아미노페닐술폰, 4,4'-다이아미노벤조페논, 3,4'-다이아미노벤조페논, 3,3'-다이아미노벤조페논, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]에테르, 1,4-비스[4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,3-비스[4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 4,4'-비스[3-(4-아미노페녹시)벤조일]다이페닐에테르, 4,4'-비스[3-(3-아미노페녹시)벤조일]다이페닐에테르, 4,4'-비스[4-(4-아미노-알파,알파-다이메틸벤질)페녹시]벤조페논, 4,4'-비스[4-(4-아미노-알파,알파-다이메틸벤질)페녹시]다이페닐술폰, 비스[4-{4-(4-아미노페녹시)페녹시}페닐]술폰, 1,4-비스[4-(4-아미노페녹시)-알파,알파-다이메틸벤질]벤젠, 1,3-비스[4-(4-아미노페녹시)-알파,알파-다이메틸벤질]벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 1,3-디아미노나프탈렌, 1,4-디아미노나프탈렌, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-디트리플루오로메틸-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디트리플루오로메틸-4,4'-디아미노비페닐, 5-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 6-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 9,9-비스(4-아미노페닐)-10-히드로안트라센, 2,7-디아미노플루오렌, 9,9-디메틸-2,7-디아미노플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 4,4'-메틸렌-비스(2-클로로아닐린), 2,2',5,5'-테트라클로로-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-디클로로-4,4'-디아미노-5,5'-디메톡시비페닐, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 1,4,4'-(p-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 4,4'-(m-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 2,2'-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-비스[(4-아미노-2-트리플루오로메틸)페녹시]-옥타플루오로비페닐 중에서 선택되어지는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드의 제조방법
17 17
제 16 항에 있어서,상기 폴리아미드이미드를 제조하기 위해 사용되는 디아민은 화학식 B-2로 표시되는 디아민에 추가적으로, 상기 화학식 B-2의 디아민과 상이한 디아민으로서, 2,2'-비스트리플루오로메틸벤지딘, 2,6-비스트리플루오로메틸벤지딘, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-아미노벤질아민, m-아미노벤질아민, 4,4'-다이아미노다이페닐메탄, 3,4'-다이아미노다이페닐메탄, 3,3'-다이아미노다이페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐에탄, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-다이아미노다이페닐 에테르, 3,3'-다이아미노다이페닐 에테르, 2,4'-다이아미노다이페닐 에테르, 2,2'-다이아미노다이페닐 에테르, 2,3'-다이아미노다이페닐 에테르, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 비스(3-아미노페닐)설파이드, 3,4-다이아미노페닐설파이드, 비스(4-아미노페닐)술폭사이드, 비스(3-아미노페닐)술폭사이드, 3,4-다이아미노페닐술폭사이드, 비스(4-아미노페닐)술폰, 비스(3-아미노페닐)술폰, 3,4-다이아미노페닐술폰, 4,4'-다이아미노벤조페논, 3,4'-다이아미노벤조페논, 3,3'-다이아미노벤조페논, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]에테르, 1,4-비스[4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,3-비스[4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 4,4'-비스[3-(4-아미노페녹시)벤조일]다이페닐에테르, 4,4'-비스[3-(3-아미노페녹시)벤조일]다이페닐에테르, 4,4'-비스[4-(4-아미노-알파,알파-다이메틸벤질)페녹시]벤조페논, 4,4'-비스[4-(4-아미노-알파,알파-다이메틸벤질)페녹시]다이페닐술폰, 비스[4-{4-(4-아미노페녹시)페녹시}페닐]술폰, 1,4-비스[4-(4-아미노페녹시)-알파,알파-다이메틸벤질]벤젠, 1,3-비스[4-(4-아미노페녹시)-알파,알파-다이메틸벤질]벤젠, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 1,3-디아미노나프탈렌, 1,4-디아미노나프탈렌, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-디트리플루오로메틸-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디트리플루오로메틸-4,4'-디아미노비페닐, 5-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 6-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 9,9-비스(4-아미노페닐)-10-히드로안트라센, 2,7-디아미노플루오렌, 9,9-디메틸-2,7-디아미노플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 4,4'-메틸렌-비스(2-클로로아닐린), 2,2',5,5'-테트라클로로-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-디클로로-4,4'-디아미노-5,5'-디메톡시비페닐, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 1,4,4'-(p-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 4,4'-(m-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 2,2'-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-비스[(4-아미노-2-트리플루오로메틸)페녹시]-옥타플루오로비페닐, 1,1-메타크실릴렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 헵타메틸렌디아민, 옥타메틸렌디아민, 노나메틸렌디아민, 1,4-디아미노시클로헥산, 이소포론디아민, 테트라히드로디시클로펜타디에닐렌디아민, 헥사히드로-4,7-메타노인다닐렌디메틸렌디아민, 트리시클로[6
18 18
제 14 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 아미드화 중합반응은 디아민 단량체와 디카르복실산 단량체를 유기 용매에 용해시켜 80 내지 200 ℃ 에서 교반함으로써 아미드화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 폴리아미드이미드의 제조방법
19 19
제 18 항에 있어서,상기 유기용매는 N,N-다이메틸포름아마이드(DMF), N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸피롤리돈(NMP) 및 다이메틸술폭사이드(DMSO)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리아미드이미드의 제조방법
20 20
제 8 항, 제 10 항 내지 제 13 항에서 선택되는 어느 한 항에 기재된 폴리아미드이미드를 극성 비양성자성 유기용매 또는 페놀류 용매에 용해시킨 후에 상기용매를 건조함으로써 제조되는 필름
21 21
제 20 항에 있어서, 상기 극성 비양성자성 유기용매는 N,N-다이메틸포름아마이드(DMF), N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸피롤리돈(NMP), 다이메틸술폭사이드(DMSO), 테트라하이드로퓨란(THF) 중에서 선택되는 어느 하나이고, 페놀류 용매는 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 필름
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1 EP02940015 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
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3 JP28502560 JP 일본 FAMILY
4 JP29125019 JP 일본 FAMILY
5 JP30199822 JP 일본 FAMILY
6 KR101518240 KR 대한민국 FAMILY
7 US20160194449 US 미국 FAMILY
8 US20180066110 US 미국 FAMILY
9 WO2014104557 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 EP2940015 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
2 EP2940015 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
3 JP2016502560 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP2017125019 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 JP2018199822 JP 일본 DOCDBFAMILY
6 JP6087446 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 US2016194449 US 미국 DOCDBFAMILY
8 US2018066110 US 미국 DOCDBFAMILY
9 WO2014104557 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 한국연구재단 한국과학기술원 기초과학연구사업 기능성 거대 단분자의 합성 및 응용연구