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금속층;상기 금속층 상에 형성되고, 광학 이득(optical gain) 특성을 가지며, 상기 금속층에 의해 표면에 전기장을 집중시키는 유전체층; 및상기 유전체층 상에 형성되고, 상기 유전체층 표면과 상호 작용하여 공진기를 형성하는 복수의 나노 와이어를 포함하는 평판 공진기
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제1항에 있어서, 상기 유전체층은, 상기 유전체층 내부에 존재하는 적어도 하나 이상의 모드(mode) 중에서, 여타의 모드와 비교하여 상기 유전체층의 표면에 전기장을 많이 형성시키는 TE1 모드에 상응하는 두께를 갖는 평판 공진기
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제2항에 있어서,상기 복수의 나노 와이어는, 상기 유전체층의 표면에 상기 TE1 모드를 차단(cut-off)하여 상기 TE1 모드를 반사시키는 거울 영역을 제공하는, 평판 공진기
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성장 기판 상에 유전체층 및 금속층을 차례로 형성하여 공진기 구조물을 형성하는 단계; 상기 공진기 구조물의 금속층과 실리콘 기판 사이에 솔더 포일을 삽입하여 상기 공진기 구조물을 상기 실리콘 기판 상에 접합하는 단계; 상기 실리콘 기판 상에 접합된 상기 공진기 구조물로부터 상기 성장 기판을 제거하여 상기 유전체층을 노출시키는 단계; 및상기 노출된 유전체층 상에 복수의 나노 와이어를 형성하는 단계를 포함하는 평판 공진기의 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 공진 구조물을 형성하는 단계는, 상기 성장 기판 상에 광학 이득(optical gain) 특성을 가지며, 상기 금속층에 의해 표면에 전기장을 집중시키는 유전체 물질로 이루어진 상기 유전체층을 형성하는 단계; 및 상기 유전체층 상에 은(Ag)으로 이루어진 상기 금속층을 형성하는 단계를 포함하는 평판 공진기의 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 유전체층을 형성하는 단계는,상기 유전체층 내부에 존재하는 적어도 하나 이상의 모드(mode) 중에서, 여타의 모드와 비교하여 상기 유전체층의 표면에 전기장을 많이 집중시키는 TE1 모드가 발생되는 두께로 상기 유전체층을 형성하는, 평판 공진기의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 복수의 나노 와이어는, 상기 유전체층의 표면에 상기 TE1 모드를 차단(cut-off)하여 상기 TE1 모드를 반사시키는 거울 영역을 제공하는, 평판 공진기의 제조 방법
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