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a) 카테콜 유도체와 산화제를 혼합한 용액을 재료의 표면에 도포하되 재료에 따라 pH 조건, 상기 카테콜 유도체와 산화제의 당량비, 상기 카테콜 유도체의 농도를 조절하여 폴리도파민으로 코팅하는 단계; b) 상기 재료의 표면상에 형성된 폴리도파민 코팅층상에 이산화티탄층을 형성하는 단계 및c) 불소를 함유하는 화합물로 상기 이산화티탄층을 코팅하는 단계를 포함하되,상기 불소를 함유하는 화합물은 하기 화학식 A로 표시되는 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법[화학식 A] 상기 화학식 A에서, Y1 및 Y2는 서로 동일하거나 상이하며, 서로 독립적으로 수소 (H), phosphate기 (PO43-), thiol기 (SH), 할로겐 원자, hydroxyl기 (OH), trimethoxysilane기 ((CH3O)3Si) , triethoxysilane기 ((C2H5O)3Si), trichlorosilane기 ((Cl)3Si), trimethylsilane기 ((CH3)3Si), dimethylchlorosilane기 ((CH3)2SiCl), methyldichlorosilane기 ((CH3Cl2Si), tris(dimethylamino)silane기 (((CH3)2N)3Si), dimethyl(dimethylamino)silane기 (((CH3)2N)(CH3)2Si), silane기 (H3Si) 중에서 선택되는 어느 하나이되, 상기 Y1 및 Y2는 모두 수소는 아니며,상기 n은 1 내지 30의 정수이고, 상기 X1 내지 X4는 각각 서로 동일하거나 상이하며, 서로 독립적으로 수소, 중수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 알킬, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬, 탄소수 6 내지 12의 아릴, 탄소수 1 내지 5의 할로겐 치환된 알킬 중에서 선택되는 어느 하나이되, 상기 X1 내지 X4중 적어도 하나 이상은 불소 원자임
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제 1 항에 있어서,상기 재료는 고분자, 금속, 금속산화물, 금속 합금, 전자연마(electropolish) 처리된 금속, 세라믹, 유리, 실리콘, 고무 중에서 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 폴리도파민 코팅층은 하기 화학식 1로 표시되는 카테콜 유도체를 산화조건에서 산화 중합시킴으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법[화학식 1]상기 R1은 티올, 아민, 나이트릴, 알데하이드, 설피드릴, 이미다졸, 및 아자이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나이고, R2는 수소, 중수소, 할로겐원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 10에서 선택되는 알킬, 탄소수 3 내지 10에서 선택되는 시클로알킬, 탄소수 6 내지 12에서 선택되는 아릴, 탄소수 7 내지 20에서 선택되는 아릴알킬, 탄소수 1 내지 10에서 선택되는 할로겐화알킬, OH 및 COOH로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나임
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제 3 항에 있어서,상기 카테콜 유도체는 하기 화학식 2로 표시되는 도파민(dopamine)인 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법[화학식 2]
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제 3 항에 있어서,상기 카테콜 유도체는 물, 알코올, 카르복실산에서 선택되는 하나의 양성자성(protic) 용매 또는 이들의 혼합 용매상에서 산화 중합되어 재료의 표면이 폴리도파민으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 b) 단계의 이산화티탄층은 이산화티탄 전구체를 폴리도파민 코팅층상에 코팅한 후 물과 반응, 수증기와 반응 또는 수분을 포함하는 가스와 반응하거나, 대기중의 수분과 반응시킴으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 이산화티탄층은 이산화티탄 전구체로서 Ti(OR)4로 표시되는 유기 티타늄 화합물을 폴리도파민 코팅층상에 코팅한 후, 상대 습도가 40% 이상인 분위기에서 수분을 포함하는 가스 또는 대기중의 수분과 반응시킴으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법여기서, 상기 R은 탄소수 1 내지 8의 알킬기임
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제 1 항에 있어서,상기 화학식 A에서 치환기 X1 내지 X4는 모두 불소이거나, 또는 치환기 X1 내지 X4가 탄소를 포함하는 경우에 탄소자리에 결합된 수소가 모두 불소로 치환된 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 화학식 A로 표시되는 화합물은 표면장력이 20 mN/m 이하인 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 c) 단계는 불소를 함유하는 화합물을 포함하는 용액에 상기 이산화티탄층이 코팅된 재료를 담그는 딥(dip)코팅법 또는 기상 증착 코팅법에 의해 상기 불소를 함유하는 화합물이 상기 이산화티탄층에 코팅되는 것을 특징으로 하는 초소수성 표면의 제조방법
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제1항 내지 제7항 및 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 제조방법에 의해 제조되는, 초소수성 표면을 가지는 재료
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제 12 항에 있어서,상기 재료의 표면은 150°이상의 초소수성 표면의 접촉각을 나타내는 것을 특징으로 하는 초소수성 표면을 가지는 재료
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기판의 표면이 상기 제12항에 기재된 재료를 포함함으로써, 자기세정 및 결빙방지 특성을 갖는 기판
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