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물, 회수대상물질, 고용해도 염, 저용해도 염을 포함하는 원료에서 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치에 있어서,제1흐름파이프(10)를 통해 상기 원료를 공급받아 가열하는 전처리부탱크(110)와, 상기 전처리부탱크(110) 내 구비되어 고온의 기체를 공급하는 고온기체공급부(120)를 포함하는 전처리부(100);상기 전처리부(100)에서 고온의 기체가 공급된 상기 원료를 제2흐름파이프(20)를 통해 공급받아 고온의 기체를 제거하는 기체제거부(200); 및상기 기체제거부(200)로부터 고온의 기체가 제거된 상기 원료를 제3흐름파이프(30)를 통해 공급받아 저용해도 염 입자를 제거하되, 저용해도 염 입자가 제거된 상기 원료를 제4흐름파이프(40)를 통해 회수대상물질 회수부(400)로 공급하는 저용해도 염 입자제거부(300);를 포함하는 것을 특징으로 하는 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치
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상기 제 1항에 있어서,상기 전처리부(100)는상기 전처리부탱크(110) 상부 일면에 상기 제1흐름파이프(10)와 연결되어 형성되며, 상기 전처리부탱크(110)로 상기 원료를 공급하는 원료공급부(11);상기 전처리부탱크(110) 상부 타면에 저온기체배출파이프(12)와 연결되어 형성되며, 저온의 기체를 상기 전처리부탱크(110)로부터 배출하는 저온기체배출부(13);상기 전처리부탱크(110) 하부 일면에 상기 제2흐름파이프(20)와 연결되어 형성되며, 고온의 기체가 공급된 상기 원료를 상기 전처리부탱크(110)로부터 배출하는 원료배출부(21);를 포함하는 것을 특징으로 하는 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치
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제 2항에 있어서,상기 전처리부(100)는상기 전처리부탱크(110) 내 공급된 상기 원료를 상기 전처리부탱크(110) 하부에서 상기 원료공급부(11)로 순환시켜 분사하는 순환파이프(14)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치
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제 3항에 있어서,상기 순환파이프(14)는상기 전처리부탱크(110) 내 공급된 상기 원료를 순환시키는 순환펌프(130)를 구비하는 것을 특징으로 하는 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치
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제 2항에 있어서,상기 원료공급부(11)는액적으로 분사하는 것을 특징으로 하는 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치
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제 1항에 있어서,상기 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치는상기 전처리부(100)가 상부에 형성되고, 상기 기체제거부(200)가 하부에 형성되어 수직으로 하나의 몸체를 이루는 통합부(1)를 포함하는 것을 특징으로 하는 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치
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제 1항 또는 제 6항에 있어서,상기 기체제거부(200)는상기 기체제거부(200) 내 스팀을 공급하는 스팀공급부(210)가 구비되는 것을 특징으로 하는 원료 내 회수대상물질을 회수하는 공정에 구비되는 저용해도 염 제거장치
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