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대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015116914
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요약 본 발명은 지지체 제작단계, 가변체 제작단계, 열처리 단계 및 3차원 미세광학구조 형성단계를 포함하여 이루어지며, 본 발명의 목적은 상기의 과정을 통해 사용자의 요구사항에 따라 여러 형태의 3차원 미세광학구조를 생산할 수 있는 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법을 제공하는 것이다.
Int. CL G02B 5/00 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) B81B 1/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020140024849 (2014.03.03)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1547155-0000 (2015.08.19)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150826) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.03.03)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 김재준 대한민국 대구광역시 동구
3 금동민 대한민국 대구광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.03.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0206321-03
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.09.24 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.10.14 수리 (Accepted) 9-1-2014-0083535-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0885095-17
8 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-5002869-44
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.02.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0172700-07
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.02.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0172692-18
11 등록결정서
Decision to grant
2015.06.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0425363-16
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1
기판(100)의 상측으로 간격을 두고 돌출 형성되는 복수의 지지체(200)가 상기 기판(100)의 상측에 배치되는 지지체 제작단계(S10);열처리에 의해 형상이 변형되는 물질로 이루어진 가변체(300)가 인접한 상기 지지체(200)의 사이에 배치되되, 상기 가변체(300)의 일측이 상기 지지체(200)의 측면 높이까지 이어지도록 형성되는 가변체 제작단계(S30);상기 기판에 열을 가하는 열처리 단계(S40); 및상기 열처리 단계(S40)에 의해 상기 가변체(300)의 형상이 변형되어, 3차원 미세광학구조가 형성되는 3차원 미세광학구조 형성단계(S50);를 포함하며,상기 가변체(300)는 인접한 상기 지지체(200)사이에 형성된 공간 내부에 구비되되, 인접한 상기 지지체(200) 사이의 너비 및 상기 지지체(200) 높이와 상기 가변체(300)의 너비 및 높이 비율에 의해, 제조되는 3차원 미세 광학구조의 표면 형상이 오목하거나 평평하거나 또는 볼록하게 조절되는 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1항에 있어서,상기 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법은,상기 지지체 제작단계(S10) 이후 상기 기판(100)의 표면에너지를 조절하는 표면처리단계(S20)를 더 포함하여 이루어지며, 표면에너지의 조절 정도에 따라 제작된 3차원 미세광학구조의 가변체(300) 형상이 조절되는 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법은,상기 지지체(200)와 상기 기판(100) 사이에 지지체 베이스(220)를 더 포함하여 형성되는 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 3차원 미세광학구조의 제조방법은,상기 3차원 미세광학구조 형성단계(S50) 이후 형성된 3차원 미세광학구조를 몰드(10) 성형하는 몰드 제작 단계(S60);상기 몰드 제작 단계(S60)에 의해 생성된 몰드(10)에 충전물(20)을 충전하여 3차원 미세광학구조를 성형하는 충전단계(S70);상기 충전물(20)에 자외선 또는 열을 가하여 충전물(20)을 경화하는 경화단계(S80); 및상기 경화단계(S80)에 의해 성형된 3차원 미세광학구조를 상기 몰드(10)와 분리하는 분리단계(S90);를 포함하여 이루어지는 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법
7 7
제 1항에 있어서,상기 3차원 미세광학구조의 제조방법은,3차원 미세광학구조 형성단계(S50)에 의해 형성된 3차원 미세광학구조를 마스크로 이용하여 식각공정을 통해 3차원 미세광학구조의 형상을 조절하는 대면적 3차원 미세광학구조의 제조방법
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1 US2015247954 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9459381 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국과학기술원 중견연구자지원사업 자연 포토닉구조의 나노공학기반 영감기술
2 미래창조과학부 한국과학기술원 나노소재기술개발사업 메타렌즈어레이기반 대면적 고속 나노리소그래피 플렛폼 개발