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초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

  • 기술번호 : KST2015117592
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 탄소성분인 음극봉에 음전압을 인가하고, 가공대상물에 양전압을 인가한 후 일정크기의 용기에 담긴 전해액에 수장하여 길이에 따른 직경변화가 일정한 초미세 전극을 얻기 위해 인가되는 전류량을 조절하여 전해가공하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법에 관한 것이다. 이때, 상기 가공대상물은 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위해 아세톤과 증류수를 이용하여 초음파로 세척한다. 그리고, 상기 전해액은 그 몰수가 4∼6 Mol인 수산화칼륨용액인 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법을 들 수 있다.초미세전극, 전해가공, 확산층 효과
Int. CL B23H 3/00 (2006.01) B23H 1/04 (2006.01) C25B 11/02 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020000058440 (2000.10.05)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0379748-0000 (2003.03.28)
공개번호/일자 10-2002-0027072 (2002.04.13) 문서열기
공고번호/일자 (20030411) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.10.05)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김수현 대한민국 대전광역시유성구
2 임영모 대한민국 경기도용인시구
3 임형준 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손은진 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로**길*, *층(대치동 삼성빌딩)(특허법인 아이퍼스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.10.05 수리 (Accepted) 1-1-2000-0208253-48
2 신규성(출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Certificate of Novelty(Special Provisions for Application)		 2000.10.06 수리 (Accepted) 1-1-2000-5305667-73
3 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2001.01.15 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2001-0009099-80
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.04.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.05.20 수리 (Accepted) 9-1-2002-0004919-41
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.07.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0261302-91
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.09.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0311403-64
8 의견서
Written Opinion		 2002.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2002-0311399-68
9 등록결정서
Decision to grant		 2003.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0074513-10
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1

음전압이 인가된 음극봉이 전해액 내에 수장되고, 양전압이 인가된 가공대상물이 상기 전해액으로 이송될 때 처음으로 전류가 흐르기 시작하는 접촉점을 측정하고, 전압을 제거한 후 상기 접촉점을 기준으로 상기 가공대상물의 가공할 길이만큼만을 전해액에 수장하는 준비단계;

상기 가공대상물의 가공할 직경, 상기 가공대상물의 전기화학등가부피상수, 전류밀도, 가공시간간격을 설정하고, 상기 가공대상물과, 상기 음극봉을 상기 전해액 내로 수장하는 조건설정단계;

전압을 인가하여 상기 가공대상물이 가공됨에 따라 변화되는 표면적과, 인가되는 전류와, 인가되는 상기 전류에 따른 전기량과, 가공됨에 따라 변화되는 상기 가공대상물의 직경을 계산하고, 가공에 따라 표면장력으로 인하여 발생되는 부가적인 가공부피(Vp)(㎣)를 표면장력으로 인한 접촉길이(h)(mm)와, 가공됨에 따라 변화되는 직경(D)(mm)과, 원래 가공대상물의 직경(Do)(mm)으로 이루어진 πh(-2D2-DoD+3Do2 )/15에 의해 계산하면서 전해가공이 진행되는 가공단계(S30); 및

상기 가공단계가 상기 가공대상물의 직경이 가공할 직경에 근사화될 때까지 반복되다가 상기 가공할 직경에 도달했을 때 가공을 종료하는 가공종료단계;로 이루어져 구성되는 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

2 2

제 1항에 있어서,

상기 가공단계(S30)에서 가공됨에 따라 변화되는 상기 가공대상물의 표면적은 Am=π[LD +h(D0+2D)/3] 에 의해 계산되고,

여기서, Am은 가공됨에 따라 변화되는 상기 가공대상물의 표면적(mm2);

L은 가공할 상기 가공대상물의 길이(mm)

h는 표면장력으로 인한 상기 가공대상물의 접촉길이(mm);

D는 가공됨에 따라 변화되는 상기 가공대상물의 직경(mm);

Do는 상기 가공대상물의 원래 직경(mm);인 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

3 3

제 1항에 있어서,

상기 가공단계(S30)에서 가공이 진행됨에 따라 인가되는 상기 전류량은 i=AmJ에 의해 계산되고,

여기서, i는 단위시간당 인가하는 전류(C/sec);

Am은 가공됨에 따라 변화되는 상기 가공대상물의 표면적(mm2);

J는 전류밀도(C/mm2sec);인 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

4 4

제 1항에 있어서,

상기 가공단계(S30)에서 상기 전기량은 Qt=Qp+iΔt에 의해 계산되고,

여기서, Qt는 총가공시간동안 인가되는 전기량(C);

Qp는 전단계 전기량(C);

Δt는 가공시간변화량(sec);인 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

5 5

제 1항에 있어서,

상기 가공단계(S30)에서 가공됨에 따라 변화되는 상기 가공대상물의 직경은

π(D0-D)[L(D0+D)/4+h(3D0+2D)/15]/αe=Qt에 의해 계산되고,

여기서, D는 가공됨에 따라 변화되는 상기 가공대상물의 직경(mm);

Do 는 상기 가공대상물의 원래 직경(mm);

Qt는 총가공시간동안 인가되는 총전기량(C);

L은 가공할 상기 가공대상물의 길이(mm);

h는 표면장력으로 인한 상기 가공대상물의 접촉길이(mm);

αe는 상기 가공대상물의 전기화학등가부피상수(mm3/C);인 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

6 6

제 1항에 있어서,

상기 가공단계(30)에서는 상기 가공대상물 수장부위의 금속이온들의 용해 및 확산 속도가 인가되는 전류량에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

7 7

제 1항에 있어서,

상기 음극봉은 재질이 탄소인 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

8 8

제 1항에 있어서,

상기 전해액은 수산화칼륨용액인 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

9 9

제 8항에 있어서,

상기 전해액의 몰수는 4∼6 Mol인 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

10 10

제 1항에 있어서,

상기 가공대상물은 상기 준비단계(S10) 이전에 가공 전에 표면의 이물질을 제거하기 위하여 아세톤과 증류수로 상기 가공대상물 표면을 초음파 세척하는 것을 특징으로 하는 초미세 원통형 전극제작을 위한 전해가공방법

11 11

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