요약 | 본 발명은 부가 단량체 단일선구물질을 이용한 13 족 질화물 박막의 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 13족 질화물 박막의 단일선구물질인 R2(N3)M:D과 기질로는 값이 싼 규소 웨이퍼를 사용하여 낮은 증착 온도인 350∼450℃에서 경제적으로 적층 성장한 질화물의 제조와 대면적의 박막 증착이 가능하다. 형성된 박막을 분석한 결과 13 족 원소 (Al, Ga, In) 와 질소가 1 : 1 의 조성비로 구성되었으며 (0002) 방향으로 적층 성장하였음을 확인하였다. 본 발명은 낮은 온도에서 성막이 가능하여 우수한 질화물 박막제조에 유리하고, 기판인 규소가 반도체이므로 후속 전극 제조공정을 개선할 수 있으며, 기판의 대구경화 및 최종 소자 분리가 용이해지는 등의 장점이 있다. |
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Int. CL | C23C 16/34 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020000002958 (2000.01.21) |
출원인 | 한국과학기술원 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2001-0075977 (2001.08.11) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 취하 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2000.01.21) |
심사청구항수 | 4 |