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자기 베어링 장치 및 그 제어방법

  • 기술번호 : KST2015118505
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 실시예는, 제1 회전자 주위에서 제1 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 제1 회전자를 둘러싸는 형상으로 이루어지는 제1 코어, 및 제1 코어에 권취되되 제1 코어 및 제1 회전자가 자기포화 상태에 도달하기 위한 전류를 인가받은 후에 제1 코어에 소정 크기 이상의 자속밀도가 유지되도록 하는 범위 내의 전류를 인가받아 제1 코어가 소정 크기 이상의 자속밀도를 가지는 전자기력이 발생하도록 동작하는 제1 코일을 포함하여 제1 회전자를 지지하는 제1 고정자; 및 제2 회전자 주위에서 제2 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 제2 회전자를 둘러싸는 형상으로 이루어지는 제2 코어, 및 제2 코어에 권취되되 인가되는 전류의 값에 따라 제2 코어의 자속밀도가 변하는 비율이 소정 크기 이상인 구간의 자속밀도를 가지는 전자기력이 제2 코어에 발생하도록 하는 전류가 인가되는 제2 코일을 포함하여 제2 회전자를 지지하는 제2 고정자를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치를 제공한다.
Int. CL F16C 32/04 (2006.01)
CPC F16C 32/0459(2013.01) F16C 32/0459(2013.01) F16C 32/0459(2013.01) F16C 32/0459(2013.01)
출원번호/일자 1020120133223 (2012.11.22)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1438403-0000 (2014.09.01)
공개번호/일자 10-2014-0075824 (2014.06.20) 문서열기
공고번호/일자 (20140917) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 보정승인
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.11.22)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임춘택 대한민국 대전 유성구
2 이정익 대한민국 대전 유성구
3 최수용 대한민국 대전광역시 유성구
4 태춘반 베트남 대전시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이철희 대한민국 서울특별시 강남구 도곡로**길 **(역삼동) 베리타스빌딩, *-*층(베리타스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2012-0965567-94
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.10.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.11.14 수리 (Accepted) 9-1-2013-0095530-86
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0827777-53
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0088140-00
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.02.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0198224-38
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-0294134-57
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.04.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0401059-19
10 지정기간연장관련안내서
Notification for Extension of Designated Period		 2014.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0071678-46
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.05.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0495019-18
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.05.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-0494967-08
13 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2014.06.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0410713-18
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.08.07 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0749607-91
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.08.07 수리 (Accepted) 1-1-2014-0749602-63
16 등록결정서
Decision to grant		 2014.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0588820-79
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
동축상에 위치하는 제1 회전자 및 제2 회전자를 포함하는 샤프트를 지지하는 자기 베어링 장치에 있어서,상기 제1 회전자 주위에서 상기 제1 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 상기 제1 회전자를 둘러싸는 형상으로 이루어지는 제1 코어 및 상기 제1 코어에 권취되는 제1 코일을 포함하며, 상기 제1 코일에 인가되는 전류에 의해 상기 제1 코어에서 발생하는 전자기력을 이용하여 상기 제1 회전자를 지지하는 제1 고정자; 및상기 제2 회전자 주위에서 상기 제2 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 상기 제2 회전자를 둘러싸는 형상으로 이루어지는 제2 코어 및 상기 제2 코어에 권취되는 제2 코일을 포함하며, 상기 제2 코일에 인가되는 전류에 의해 상기 제2 코어에서 발생하는 전자기력을 이용하여 상기 제2 회전자를 지지하는 제2 고정자를 포함하되,상기 제1 코어는 상기 제1 회전자의 방사상 방향에 반대되는 방향으로 상기 제1 회전자를 향하여 돌출된 적어도 2개의 돌출부를 포함하며, 상기 적어도 2개의 돌출부 중에서 어느 하나의 돌출부는 상기 적어도 2개의 돌출부 중 다른 어느 하나의 돌출부와 서로 다른 극을 가지는 전자기력이 발생하도록 상기 제1 코일이 권취되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서,상기 제2 코어는 상기 제2 회전자의 방사상 방향에 반대되는 방향으로 상기 제2 회전자를 향하여 돌출된 적어도 2개의 돌출부를 포함하되, 상기 적어도 2개의 돌출부 중에서 어느 하나의 돌출부는 상기 적어도 2개의 돌출부 중 다른 어느 하나의 돌출부와 서로 다른 극을 가지는 전자기력이 발생하도록 상기 제2 코일이 권취되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
4 4
제 1항에 있어서,상기 제1 코일은 상기 제1 코어 및 상기 제1 회전자가 자기포화 상태에 도달하기 위한 전류를 인가받은 후에 상기 제1 코어에 상기 제1 코어에 대한 히스테리시스(Hysteresis) 곡선상의 잔류자기(Residual Magnetism)와 자기포화점(Saturated Point) 사이의 자속밀도가 유지되도록 하는 범위 내의 전류를 인가받아 상기 제1 코어가 상기 제1 회전자를 지지하기 위한 전자기력을 발생하도록 동작하는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
5 5
제 4항에 있어서,상기 제1 코어 및 상기 제1 회전자가 자기포화 상태에 도달하기 위한 전류를 인가받은 후에 상기 제1 코일에 인가되는 전류는 상기 제1 회전자에 가해지는 정하중의 크기에 따라 제어되는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
6 6
제 1항에 있어서,상기 제2 코일에는 상기 제2 코일에 인가되는 전류의 값에 따라 상기 제2 코어의 자속밀도가 변화는 비율이 소정 크기 이상인 구간의 자속밀도를 가지는 전자기력이 상기 제2 코어에 발생하도록 하는 전류가 인가되며,상기 제2 코일에 인가되는 전류의 값에 따라 상기 제2 코어의 자속밀도가 변하는 비율이 소정 크기 이상인 구간은 상기 인가되는 전류의 값과 상기 제2 코어의 자속밀도가 서로 비례하여 증가하는 상기 제2 코어에 대한 히스테리시스 곡선상의 리니어 영역(Linear Region)인 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
7 7
제 6항에 있어서,상기 제2 코일은 상기 리니어 영역에 해당하는 전류를 인가받아 상기 제2 코어가 상기 리니어 영역 내 자속밀도를 가지는 전자기력이 발생하도록 동작하고, 상기 제2 코어는 상기 리니어 영역 내 자속밀도를 가지는 전자기력을 발생하여 상기 제2 회전자에 가해지는 동하중을 지지하는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
8 8
제 7항에 있어서,상기 제2 코일에 인가되는 전류는 상기 제2 회전자에 가해지는 동하중의 크기에 따라 제어되는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
9 9
제1 회전자를 포함하는 샤프트를 지지하는 자기 베어링 장치에 있어서,상기 제1 회전자 주위에서 상기 제1 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 상기 제1 회전자를 둘러싸는 형상으로 이루어지는 제1 코어 및 상기 제1 코어에 권취되는 제1 코일을 포함하며, 상기 제1 코일에 인가되는 전류에 의해 상기 제1 코어에서 발생하는 전자기력을 이용하여 상기 제1 회전자에 가해지는 정하중을 지지하는 제1 고정자를 포함하되,상기 제1 코어는 상기 제1 회전자의 방사상 방향에 반대되는 방향으로 상기 제1 회전자를 향하여 돌출된 적어도 2개의 돌출부를 포함하며, 상기 적어도 2개의 돌출부 중에서 어느 하나의 돌출부는 상기 적어도 2개의 돌출부 중 다른 어느 하나의 돌출부와 서로 다른 극을 가지는 전자기력이 발생하도록 상기 제1 코일이 권취되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
10 10
제 9항에 있어서,상기 제1 코일은 상기 제1 코어 및 상기 제1 회전자가 자기포화 상태에 도달하기 위한 전류를 인가받은 후에 상기 제1 코어에 상기 제1 코어에 대한 히스테리시스 곡선상의 잔류자기와 자기포화점 사이의 자속밀도가 유지되도록 하는 범위 내의 전류를 인가받아 상기 제1 코어가 상기 제1 회전자에 가해지는 정하중을 지지하기 위한 전자기력을 발생하도록 동작하며,상기 제1 코어 및 상기 제1 회전자가 자기포화 상태에 도달하기 위한 전류를 인가받은 후에 상기 제1 코일에 인가되는 전류는 상기 제1 회전자에 가해지는 정하중의 크기에 따라 제어되는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
11 11
동축상에 위치하는 제1 회전자 및 제2 회전자를 포함하는 샤프트를 지지하는 회전구동 장치에 있어서,상기 제1 회전자 주위에서 상기 제1 회전자와 면하여 위치하고 상기 제1 회전자를 둘러싸는 고리형상으로 이루어진 제1 코어 및 상기 제1 코어에 권취되는 제1 코일을 포함하며, 상기 제1 코일에 인가되는 전류에 의해 상기 제1 코어에서 발생하는 전자기력을 이용하여 상기 제1 회전자에 가해지는 정하중을 지지하는 제1 고정자; 및상기 제2 회전자 주위에서 상기 제2 회전자와 면하여 위치하고 상기 제2 회전자를 둘러싸는 고리형상으로 이루어지는 제2 코어 및 상기 제2 코어에 권취되는 제2 코일을 포함하며, 상기 제2 코일에 인가되는 전류에 의해 상기 제2 코어에서 발생하는 전자기력을 이용하여 상기 제2 회전자에 가해지는 동하중을 지지하는 제2 고정자를 포함하되,상기 제1 코어는 상기 제1 회전자의 방사상 방향에 반대되는 방향으로 상기 제1 회전자를 향하여 돌출된 적어도 2개의 돌출부를 포함하며, 상기 적어도 2개의 돌출부 중에서 어느 하나의 돌출부는 상기 적어도 2개의 돌출부 중 다른 어느 하나의 돌출부와 서로 다른 극을 가지는 전자기력이 발생하도록 상기 제1 코일이 권취되어 있는 것을 특징으로 하는 회전구동 장치
12 12
동축상에 위치하는 제1 회전자 및 제2 회전자를 포함하는 샤프트를 지지하는 자기 베어링 장치에 있어서,상기 제1 회전자 주위에서 상기 제1 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 상기 제1 회전자를 중심으로 방사상으로 위치하는 하나 이상의 제1 코어 및 상기 제1 코어에 권취되는 제1 코일을 포함하며, 상기 제1 코일에 인가되는 전류에 의해 상기 제1 코어에서 발생하는 전자기력을 이용하여 상기 제1 회전자에 가해지는 정하중을 지지하는 제1 고정자; 및상기 제2 회전자 주위에서 상기 제2 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 상기 제2 회전자를 중심으로 방사상으로 위치하는 하나 이상의 제2 코어 및 상기 제2 코어에 권취되는 제2 코일을 포함하며, 상기 제2 코일에 인가되는 전류에 의해 상기 제2 코어에서 발생하는 전자기력을 이용하여 상기 제2 회전자에 가해지는 동하중을 지지하는 제2 고정자를 포함하되,상기 제1 코어는 상기 제1 회전자의 방사상 방향에 반대되는 방향으로 상기 제1 회전자를 향하여 돌출된 적어도 2개의 돌출부를 포함하며, 상기 적어도 2개의 돌출부 중에서 어느 하나의 돌출부는 상기 적어도 2개의 돌출부 중 다른 어느 하나의 돌출부와 서로 다른 극을 가지는 전자기력이 발생하도록 상기 제1 코일이 권취되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
13 13
삭제
14 14
제 12항에 있어서,상기 제2 코어는 상기 제2 회전자의 방사상 방향에 반대되는 방향으로 상기 제2 회전자를 향하여 돌출된 적어도 2개의 돌출부를 포함하되, 상기 적어도 2개의 돌출부 중에서 어느 하나의 돌출부는 상기 적어도 2개의 돌출부 중 다른 어느 하나의 돌출부와 서로 다른 극을 가지는 전자기력이 발생하도록 상기 제2 코일이 권취되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 베어링 장치
15 15
삭제
16 16
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17 17
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18 18
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19 19
삭제
20 20
샤프트에 포함된 제1 회전자 주위에서 상기 제1 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 상기 제1 회전자를 둘러싸는 형상으로 이루어지는 제1 코어 및 상기 제1 코어에 권취된 제1 코일을 포함한 제1 고정자 및 상기 샤프트에 포함된 제2 회전자 주위에서 상기 제2 회전자와 소정 간격을 두고 위치하여 상기 제2 회전자를 둘러싸는 형상으로 이루어지는 제2 코어 및 상기 제2 코어에 권취된 제2 코일을 포함한 제2 고정자를 구비하되, 상기 제1 코어는 상기 제1 회전자의 방사상 방향에 반대되는 방향으로 상기 제1 회전자를 향하여 돌출된 적어도 2개의 돌출부를 포함하며, 상기 적어도 2개의 돌출부 중에서 어느 하나의 돌출부는 상기 적어도 2개의 돌출부 중 다른 어느 하나의 돌출부와 서로 다른 극을 가지는 전자기력이 발생하도록 상기 제1 코일이 권취되어 있는 자기 베어링 장치를 이용하여 생성된 전자기력으로 상기 샤프트를 지지하는 제어방법에 있어서,상기 제1 코어 및 상기 제1 회전자를 자기포화 상태에 도달시키기 위한 전류가 상기 제1 코일에 인가되는 과정;상기 제1 코어에 상기 제1 코어에 대한 히스테리시스 곡선상의 잔류자기와 자기포화점 사이의 자속밀도인 제1 자속밀도가 유지되도록 하는 범위 내의 전류가 상기 제1 코일에 인가되는 과정;상기 제1 코어가 상기 제1 자속밀도를 가지는 전자기력을 발생하고, 발생한 전자기력을 통해 상기 제1 회전자에 가해지는 정하중을 지지하는 과정;상기 제2 코일에 인가되는 전류의 값에 따라 상기 제2 코어의 자속밀도가 변하는 비율이 소정 크기 이상인 구간의 자속밀도를 가지는 전자기력이 상기 제2 코어에 발생하도록 하는 전류가 상기 제2 코일에 인가되는 과정;상기 제2 코일에 인가되는 과정을 통해 인가된 전류에 대응하는 자속밀도를 가지는 전자기력이 상기 제2 코어에 발생하고, 발생한 전자기력을 통해 상기 제2 회전자에 가해지는 동하중을 지지하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 샤프트를 지지하는 제어방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 KAIST 원자력 및 양자공학과 한국원자력연구원 원자력연구개발사업 헬륨 가스 터보머신 기초기술 개발