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기판;상기 기판의 상면에 형성된 제1절연막;상기 제1절연막의 상면에 소정의 패턴으로 형성된 하부 어드레스 전극;상기 하부 어드레스 전극의 상면에 형성된 제2절연막;상기 제2절연막의 상면에 소정의 패턴으로 형성된 상부 어드레스 전극;중앙부가 상기 상부 어드레스 전극의 상면에 연결되고 양측부가 상기 기판에 대하여 오목한 형상을 갖는 도전성 박막 형태의 마이크로 셔터; 및상기 하부 어드레스 전극과 상기 상부 어드레스 전극에 전기적으로 연결된 어드레싱 회로를 포함하는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 제작한 마이크로 셔터 디바이스
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제1항에 있어서, 상기 하부 어드레스 전극은 ITO를 포함하는 투명 전극으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 제작한 마이크로 셔터 디바이스
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제1항에 있어서, 상기 상부 어드레스 전극과 상기 마이크로 셔터는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 금(Au) 중의 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 제작한 마이크로 셔터 디바이스
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제1항에 있어서,상기 마이크로 셔터는 U 자형, 반원형, 반타원형 중 어느 하나의 형상을 갖는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 제작한 마이크로 셔터 디바이스
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제1항에 있어서,상기 기판의 하부면에 상기 하부 어드레스 전극에 대응하게 형성되는 다수의 마이크로 렌즈;를 추가로 포함하는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 제작한 마이크로 셔터 디바이스
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기판 위에 제1절연막을 도포하는 제1단계;상기 제1절연막의 상면에 소정의 패턴을 갖는 하부 어드레스 전극을 형성하는 제2단계;상기 하부 어드레스 전극의 상면에 제2절연막을 도포하는 제3단계;상기 제2절연막의 상면에 증착, 패터닝, 식각 공정을 사용하여 소정의 패턴을 갖는 상부 어드레스 전극을 형성하는 제4단계;중앙부가 상기 상부 어드레스 전극의 상면에 연결되고 양측부가 상기 기판에 대하여 오목한 형상을 갖는 도전성 박막 형태의 마이크로 셔터를 형성하는 제5단계;를 포함하고,상기 제5단계는(a) 상기 상부 어드레스 전극과 상기 제2절연막 위에 1차 폴리머 막을 형성하고, 상기 1차 폴리머 막 상에 상기 상부 어드레스 전극에 대응하는 패턴을 갖는 제1 포토마스크를 배치하고, 입사되는 광을 산란시켜 임의의 방향으로 진행하는 광으로 바꾸는 디퓨저를 상기 제1 포토마스크 상에 설치하는 단계;(b) 상기 디퓨저에 광을 조사함으로써 상기 1차 폴리머 막을 노광한 후 식각하여 상기 기판에 대하여 오목한 형상을 갖는 1차 폴리머 패턴을 형성하는 단계;(c) 상기 1차 폴리머 패턴 상에 도전성 박막을 도포하는 단계;(d) 상기 도전성 박막 상에 2차 폴리머 막을 형성하고, 상기 도전성 박막의 오목한 형상에 대응하는 패턴을 갖는 제2 포토마스크를 이용하여 상기 도전성 박막의 오목한 형상 위에 2차 폴리머 패턴을 형성하는 단계;(e) 상기 2차 폴리머 패턴을 마스크로 하여 상기 2차 폴리머 패턴 사이의 도전성 박막을 제거하는 단계; 및(f) 상기 1차 및 2차 폴리머 패턴을 제거하는 단계를 포함하는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 마이크로 셔터 디바이스를 제작하는 방법
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제6항에 있어서, 상기 하부 어드레스 전극은 ITO를 포함하는 투명 전극으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 마이크로 셔터 디바이스를 제작하는 방법
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제6항에 있어서, 상기 상부 어드레스 전극과 상기 마이크로 셔터는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 금(Au) 중의 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 마이크로 셔터 디바이스를 제작하는 방법
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제6항에 있어서,상기 마이크로 셔터는 U 자형, 반원형, 반타원형 중 어느 하나의 형상을 갖는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 마이크로 셔터 디바이스를 제작하는 방법
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제6항에 있어서,상기 기판의 하부면에 상기 하부 어드레스 전극에 대응하는 다수의 마이크로 렌즈를 형성하는 제6단계;를 추가로 포함하는, 폴리머 패턴을 몰드로 사용하여 마이크로 셔터 디바이스를 제작하는 방법
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