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전자소자에 전사되어 금속전극을 형성할 패턴화된 금속필름의 제조방법에 있어서, 기판(100)을 세정 및 표면처리하는 단계;상기 기판(100)의 일면에 표면에너지 조절층(300)을 적층하는 단계;상기 표면에너지 조절층(300)의 상면에 금속박막(410)을 적층하는 단계; 및상기 금속박막(410)에 패턴을 형성하는 단계;를 포함하되,상기 패턴이 형성된 상기 금속필름은 상기 전자소자에 직접 전사되어 상기 금속전극을 형성하고, 상기 표면에너지 조절층(300)은 SAM 공정에 의해 적층되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 전자소자는 유기발광다이오드, 유기태양전지, 유기트랜지스터 및 유연한 인쇄회로기판 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 기판(100)의 세정은 피라나 용액 또는 과산화수소 용액으로 세정하고,상기 표면처리는 오존, O2 플라즈마, N2 플라즈마 및 Ar 플라즈마 중 어느 하나를 사용한 표면처리인 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 금속박막(410)은 스퍼터링 공정, 열증착 공정, 화학기상증착 공정 및 전자빔증착 공정 중 어느 하나의 공정에 의해 적층되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 기판(100)은 리지드한 기판이고,상기 리지드한 기판은 유리기판인 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 표면에너지 조절층(300)은 옥타데실 트리클로로실란, 퍼플루로옥틸 트리클로로실란 및 퍼플루로데실 트리클로로실란 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 패턴은 레이져 에칭 공정, 스크린 인쇄 공정, 나노임프린팅 공정 및 포토리소그래피 공정 중 어느 하나의 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 기판(100)은 유연한 기판이고,상기 유연한 기판은 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 플라스틱 기판은 폴리비닐 클로라이드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리이스터 및 폴리에틸렌 나프탈레이트 중 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 표면에너지 조절층(300)은,불소계 수지 고분자를 상기 기판(100)에 코팅하거나 또는,불소계 수지 필름을 상기 기판(100)에 합지하는 방법에 의해 적층되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 11항에 있어서,상기 불소계 수지는 불화 에틸렌 프로필렌, 폴리비닐리덴 플로라이드 및 폴리테트라 플루오로에틸렌 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 유연한 기판상의 금속박막(410)에 패턴 형성은,스크린 인쇄 공정, 그라비아 인쇄 공정, 플렉소 인쇄 공정 및 옵셋 인쇄 공정 중 어느 하나의 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴화된 금속필름의 제조방법
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