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하기 일반식(II)의 실릴화합물과 하기 일반식(III)의 세팔로스포린을 유기용매와 산 또는 염기 존재하에 반응시키는 것을 특징으로 하는 하기 일반식(I)로 표시되는 실릴세팔로스포린 화합물의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 용매로 물, 아세톤, 디옥산, 아세토니트릴, 클로로포름, 메틸벤클로리드, 테트라하이드로퓨란, 에틸아세테이트, N,N-디메틸포름아미드 중에서 선택하여 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 실릴세팔로스포린 화합물의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 염기로 알칼리 금속히드록시드, 알칼리금속아세테이트, 트리-저급 알킬아민, 피리딘, N-저급-알킬모르포린, N, N-디(저급)-알킬벤질아민, N, N-디-(저급)-알킬아닐린 중에서 선택하여 반응시키는 것을 특징으로하는 일반식(I)의 실릴세팔로스포린 화합물의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 반응온도를 0℃ 내지 25℃에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 실릴세팔로스포린 화합물의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 일반식(I)의 실릴세팔로스포린 화합물의 2위치의 보호기를 산 존재하에 제거하는 것을 특징으로하는 일반식(I)의 실릴세팔로스포린 화합물의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 일반식(I)의 실릴세팔로스포린 화합물의 4위치의 카르복실산을 염기 존재하에 반응시키는 것을 특징으로하는 일반식(I)의 실릴세팔로스포린의 수용성 염의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 산으로 포름산, 아세트산, 프로피온산, 트리플루오르아세트산, 염산, 황산, 염화브롬산 중에서 선택하여 반응시키는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 실릴세팔로스포린 화합물의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 염기로 나트륨 2-에틸헥실노에이트를 사용하는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 실릴세팔로스포린 화합물의 제조방법
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