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고순도훼로실리콘의제조방법

  • 기술번호 : KST2015119740
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내용 없음
Int. CL C22C 38/02 (2006.01)
CPC C21C 7/04(2013.01) C21C 7/04(2013.01)
출원번호/일자 1019860000381 (1986.01.22)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0032131-0000 (1990.03.12)
공개번호/일자 10-1987-0007295 (1987.08.18) 문서열기
공고번호/일자 1019890004863 (19891130) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1986.01.22)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박찬수 대한민국 서울시종로구
2 심재동 대한민국 서울시강동구
3 현도빈 대한민국 서울시영등포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 문기상 대한민국 서울특별시 강남구 삼성로 *** (삼성동, 우창빌딩)(문앤문국제특허법률사무소)
2 조기호 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, ***호 코디특허법률사무소 (역삼동, 한빛빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 동부한농화학 주식회사 대한민국 서울특별시 강남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1986.01.22 수리 (Accepted) 1-1-1986-0002195-25
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1986.01.22 수리 (Accepted) 1-1-1986-0002196-71
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1986.01.22 수리 (Accepted) 1-1-1986-0002197-16
4 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application		 1989.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1986-0001430-86
5 등록사정서
Decision to grant		 1990.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1986-0001432-77
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

통상의 방법으로 제조한 용융 훼로 실리콘을 레이들에 직접 수탕하여 SiO240-70%, CaO10-40%, MgO5-20%, CaF25-20%로 조성된 정련제를 첨가하고 산화성 가스를 취입한 다음 표면에 생성된 슬라그의 일부를 제거하고 다시 상기의 정련제를 첨가한 후 산화성 가스를 취입하고 슬라그를 제거하는 고순도 훼로실리콘의 제조방법

2 2

제 1 항에 있어서, 산화성 가스로 산소 5-30%, 질소 70-95%인 혼합가스를 사용하는 고순도 훼로실리콘의 제조방법

3 3

제 1 항에 있어서,용융 훼로실리콘 100부에 대하여 제1항의 조성을 갖는 정련제를 처음에 5-15부 다음에 3-8부를 첨가하는 고순도 훼로실리콘의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.