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오르토-이치-부틸페놀의제조방법

  • 기술번호 : KST2015119776
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 감마 알루미나 촉매를 사용한 삼상 고정층 기포형 반응기에서 페놀을 1-부텐으로 알킬화 시킴으로서 오르토-이차-부틸페놀(OSBP)을 연속적으로 제조하는 방법에 관한 것으로 그 특징은 페놀에 비해 1-부텐을 과량으로 주입하고 페놀 체류시간을 조절하여 반응하여 페놀의 전환율을 높히고 부가적으로 반응기의 온도와 압력을 높히 유지시켜 2,6-디-이차-부틸페놀(2,6-DSBP)을 선택적으로 얻을 수 있다.
Int. CL C07C 39/06 (2006.01)
CPC C07C 37/14(2013.01) C07C 37/14(2013.01) C07C 37/14(2013.01)
출원번호/일자 1019920002047 (1992.02.12)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1993-0017853 (1993.09.20) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1992.02.12)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이윤용 대한민국 서울특별시강남구
2 노경호 대한민국 서울특별시강남구
3 조성용 대한민국 서울특별시성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1992.02.12 수리 (Accepted) 1-1-1992-0011486-14
2 특허출원서
Patent Application
1992.02.12 수리 (Accepted) 1-1-1992-0011485-79
3 출원심사청구서
Request for Examination
1992.02.12 수리 (Accepted) 1-1-1992-0011487-60
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1995.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1992-0003644-93
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
1995.05.26 수리 (Accepted) 1-1-1992-0011488-16
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
1995.06.23 수리 (Accepted) 1-1-1992-0011489-51
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
1995.07.22 수리 (Accepted) 1-1-1992-0011490-08
8 지정기간연장승인서
Acceptance of Extension of Designated Period
1995.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1992-0003645-38
9 거절사정서
Decision to Refuse a Patent
1995.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1992-0003646-84
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

삼상 고정층 기포형 반응기에서 감마알루미나 촉매를 사용하여 1몰의 페놀과 1-부텐 1

2 2

제1항에 있어서, 반응온도가 200-220℃인 것을 특징으로 하는 제조방법

3 3

제2항에 있어서, 반응압력이 18-23 bar인 것을 특징으로 하는 제조방법

4 4

제1항에 있어서, 페놀의 최적 체류시간이 30분에서 120분까지인 것을 특징으로 하는 제조방법

5
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.