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실리콘막의두께조절방법및장치

  • 기술번호 : KST2015119886
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 비동방성 식각을 이용한 실리콘막의 제조시 식각용 액내에서 실리콘막의 두께를 비파괴적으로 관찰 및 조절하는 실리콘막의 두께 조절방법 및 장치에 관한 것이다.본 발명은 회로부가 미리 형성된 실리콘 기판을 식각용액중에서 식각하여 실리콘막을 형성함에 있어 회로부가 식각용액으로부터 보호되도록 하는 한편 식각에 의해 형성된 실리콘막의 두께 관찰조절을 함에 따라 실리콘막에 대한 정밀한 두께 조절이 가능하다는 이점이 있다.
Int. CL H01L 21/66 (2006.01)
CPC H01L 21/30604(2013.01) H01L 21/30604(2013.01) H01L 21/30604(2013.01)
출원번호/일자 1019920016394 (1992.09.08)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0099526-0000 (1996.05.15)
공개번호/일자 10-1994-0008035 (1994.04.28) 문서열기
공고번호/일자 1019960002284 (19960214) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1992.09.08)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오명환 대한민국 서울특별시도봉구
2 주병권 대한민국 서울특별시서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1992.09.08 수리 (Accepted) 1-1-1992-0089966-89
2 출원심사청구서
Request for Examination		 1992.09.08 수리 (Accepted) 1-1-1992-0089968-70
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1992.09.08 수리 (Accepted) 1-1-1992-0089967-24
4 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application		 1996.01.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1992-0029406-31
5 등록사정서
Decision to grant		 1996.05.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1992-0029407-87
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

식각용액이 담긴 챔버내에서 전면에 회로부가 형성된 실리콘기판의 배면을 식각하여 실리콘막을 제조하는 방법에 있어서, 식각용액으로부터 회로부의 보호가 이루어지도록 한 상태에서 실리콘기판의 배면을 식각하여 실리콘막을 형성한 후 식각용액중에서 실리콘막에 광을 투과시켜 그 두께를 측정 및 조절함을 특징으로 하는 실리콘막의 두께 조절방법

2 2

제1항에 있어서, 회로부의 보호는 실리콘기판의 상부에 투명한 유리판을 설치하여 실리콘기판과 유리판사이의 접촉외주연부를 접착제로 밀봉함으로써 이루어짐을 특징으로 하는 실리콘막의 두께 조절방법

3 3

제2항에 있어서, 회로부의 보호는 실리콘기판의 전면에 산화막 또는 질화막등의 식각용액에 대해 내성을 지닌 박막을 증착시킴에 의해 이루어짐을 특징으로 하는 실리콘막의 두께 조절방법

4 4

제1항에 있어서, 식각용액으로 비등방성 식각용액을 사용함을 특징으로 하는 실리콘막의 두께 조절방법

5 5

내부에 식각용액(11) 채워지고 외부에 가열기(5)가 설치된 밀폐형 챔버(12)의 상부로부터 실리콘기판(1)을 지지하기 위한 기판홀더(14)가 회전가능하게 관통형성되고, 기판홀더(14)의 챔버(11) 외측 회전반경측으로 챔버(11) 내부와 연통된 관찰용 채널(20)이 돌출형성되며, 관찰용 채널(20)을 사이에 두고 광원(22)과 관찰용 렌즈(21)가 대향된 위치에 설치되어 구성됨을 특징으로 하는 실리콘막의 두께 조절장치

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.