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유리 기판과; 상기 유리기판 상에 형성되는 투명전극과; 상기 투명전극 상에 BaTiO3와 Si3N4가 순차적으로 증착되는 이층 구조로 이루어지는 제1절연층과; 상기 제1절연층 상에 ZnS 모체에 Pr과 Mn 이원중심을 첨가한 ZnS:Pr, Mn으로 이루어지는 발광층과; 상기 발광층상에 형성되는 Si3N4/BaTiO3로 이루어지는 제2절연층과; 상기 제2절연층 상에 형성되는 보호층과; 서로 분리되어 소정간격 이격되도록 상기 보호층 상에 형성된 알루미늄 전극;으로 이루어져 상기 알루미늄 전극과 투명전극으로 교류전압이 인가되도록 구성됨을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자
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제1항에 있어서, 상기 보호층은 SiOxYy 절연막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자
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유리기판 상에 ITO 투명전극을 형성하는 공정과; RF 반응성 스퍼터링 장치를 이용한 스퍼터링법으로 상기 투명전극 상에 BaTiO3가 적층되고 상기 BaTiO3 상에는 Si3N4가 적층된 이층구조를 갖도록 제1절연층을 형성하는 공정과; 상기 제1절연층 상에 ZnS 모체에 Pr과 Mn 이원중심을 첨가한 ZnS:Pr, Mn으로 이루어지는 발광층을 형성하는 공정과; 상기 발광층의 박막 결정성 향상을 위하여 상기 패턴이 형성된 기판 전면을 진공열처리하는 공정과; 상기 발광층 상에 Si3N4/BaTiO3의 단일층으로 제2절연층을 형성하는 공정과; 상기 제2절연층 상에 반응성 스퍼터링법으로 보호층을 형성하는 공정 및; 상기 보호층 상에 열증착법으로 알루미늄을 증착한 후 리프트-오프 공정으로 패터닝하여 서로 소정간격 이격되도록 알루미늄 전극을 형성하는 공정;으로 이루어는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 전계발광소자의 제1 및 제2절연층은 BaTiO3 등과 같은 강유전체계의 박막으로도 형성 가능한 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 제1 및 제2절연층은 직경 3인치 두께 1/8인치의 Si3N4와 BaTiO3 세라믹 소결체를 이용한 스퍼터링 타게트로 형성되는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 제1 및 제2절연층은 진공도 10-3-10-2 torr범위내의 기판온도 120℃ 상태에서 형성되는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 제1 및 제2절연층은 O2/Ar=0-40% 내의 스퍼터링 분위기 하에서 RF 파워 밀도 2-6W/cm2로 형성되는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 발광층은 순도 4N을 갖는 Pr과 Mn을 각각 1
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제8항에 있어서, E-빔법으로 증착된 상기 발광층은 300-600nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 열처리 공정은 상기 ZnS:Pr, Mn 박막의 결정성 향상 및 발광중심인 Pr과 Mn의 효과적인 확산을 위해 진공도 1×10-5 torr로 기판온도 450℃에서 1시간 동안 실시하는 것을 특징으로 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 보호층은 SiOXNY로 형성되는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제3항 또는 제11항에 있어서, 상기 보호층은 1500Å의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 발광층은 Pr과 Mn 이원중심의 농도를 가변하여 색도 조절을 실시하는 것을 특징으로 하는 백색발광용 전계발광소자의 제조방법
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