[KST2015121943][한국과학기술연구원] |
산화막 제거 방법과 이 방법에 사용된 스퍼터링 장치, 산화막 제거 방법을 이용한 전자소자의 제조방법 및 산화막 제거 방법이 적용되어 형성된 전자소자 |
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[KST2018003374][한국과학기술연구원] |
III-V족 화합물의 면방향 의존성을 이용한 에피택셜 리프트오프에 의한 반도체 소자의 제조 방법(METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE BY EPITAXIAL LIFT-OFF USING PLANE DEPENDENCY OF III-V COMPOUND) |
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[KST2018016220][한국과학기술연구원] |
가시광선 광원을 이용한 ITO 박막의 표면 평탄화 방법 및 장치 |
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[KST2018003698][한국과학기술연구원] |
전압을 인가하여 에피택셜 리프트오프 공정을 고속화하기 위한 반도체 소자의 제조 방법 및 식각 장비(METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND ETCHING APPARATUS FOR MAKING EPITAXIAL LIFT-OFF PROCESS FASTER BY APPLYING VOLTAGE) |
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[KST2016020794][한국과학기술연구원] |
반도체 기판의 텍스쳐링 방법, 이 방법에 의해 제조된 반도체 기판 및 이를 포함하는 태양전지(METHOD FOR TEXTURING OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURED BY THE METHOD AND SOLAR CELL COMPRISING THE SAME) |
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[KST2015123067][한국과학기술연구원] |
반도체생산 공정에서 배출되는 함불소가스를 효과적으로 분해하기 위한 흡착농축시스템과 결합된 열분해복합공정 |
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[KST2015121073][한국과학기술연구원] |
진공 플라즈마 챔버용 코팅막 및 그 제조방법 |
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[KST2015120678][한국과학기술연구원] |
아연산화물 건식식각방법 |
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[KST2014018890][한국과학기술연구원] |
연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법 |
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[KST2018003699][한국과학기술연구원] |
친수성 층을 이용하여 에피택셜 리프트오프 공정을 고속화하기 위한 반도체 소자의 제조 방법(METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE FOR MAKING EPITAXIAL LIFT-OFF PROCESS FASTER BY USING HYDROPHILIC LAYER) |
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[KST2021007431][한국과학기술연구원] |
준 무작위 나노구조로 실리콘 웨이퍼를 텍스쳐링하는 방법과, 이 방법에 의해 제조된 실리콘 웨이퍼, 및 이러한 실리콘 웨이퍼를 포함하는 태양 전지 |
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[KST2019020801][한국과학기술연구원] |
특정 파장의 광원 및 반응성 가스를 이용하여 대상물의 표면을 평탄화하는 방법 및 장치 |
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[KST2019011177][한국과학기술연구원] |
반도체 반응기 및 반도체 반응기용 금속모재의 코팅층 형성방법 |
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[KST2021007430][한국과학기술연구원] |
준 육각 나노 피라미드 구조로 텍스쳐링된 실리콘 웨이퍼 구조체와, 이를 제조하기 위한 방법, 및 이러한 실리콘 웨이퍼를 포함하는 태양전지 |
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