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프레온가스대체물질을이용한레이저유도건식에칭방법

  • 기술번호 : KST2015120072
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 레이저 유도(induced) 건식 에칭 방법에 사용되는 에칭 가스로, 종래의 CFC 대신 CHCIF2 및 C2H2F4 가스를 이용한 레어저 유도 건식 에칭 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법에서는 CFC 대신 염소기가 상대적으로 적은 CHCIF2 및 C2H2F4을 사용함으로써, 오존층 파괴와 같은 환경 오염을 방지할 수 있다.
Int. CL H01L 21/304 (2006.01)
CPC H01L 21/30621(2013.01)
출원번호/일자 1019950039872 (1995.11.06)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1997-0030411 (1997.06.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1995.11.06)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 민석기 대한민국 서울특별시영등포구
2 김무성 대한민국 서울특별시서대문구
3 이천 대한민국 서울특별시서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination
1995.11.06 수리 (Accepted) 1-1-1995-0158540-54
2 특허출원서
Patent Application
1995.11.06 수리 (Accepted) 1-1-1995-0158538-62
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1995.11.06 수리 (Accepted) 1-1-1995-0158539-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1998.07.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1995-0083929-67
5 의견서
Written Opinion
1998.08.28 수리 (Accepted) 1-1-1995-0158542-45
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1998.08.28 수리 (Accepted) 1-1-1995-0158541-00
7 거절사정서
Decision to Refuse a Patent
1998.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1995-0083930-14
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

에칭 가스로 CHCIF2 및 C2H2F4를 사용하는 레이저 유도 건식 에칭 방법

2 2

제1항에 있어서, 레이저 빔을 현미경을 사용하여 집속시키는 방법

3
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.