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한외여과막을 이용한 외압형 전여과 흐름식 물.공기 역세정 방식의 정수처리 방법

  • 기술번호 : KST2015120196
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 [청구범위] 와압형 전여과 흐름 상태로 원수(law water)를 힌외여과막에 급 수하 정상 운전 단계, 상기 막의 내부에서 외부로 물을 투과시켜 여과막 물 역세정하는 단계, 상기 막의 외부로 공기를 공급하여 공기 역세 하는 단계, 상기 막에 공기를 주입하여 배수하 는 단계 및 상기 막에 물을 공급하는 통수 단계를 포함하는 정수처리 방법
Int. CL C02F 1/44 (2006.01)
CPC C02F 1/444(2013.01) C02F 1/444(2013.01) C02F 1/444(2013.01) C02F 1/444(2013.01) C02F 1/444(2013.01) C02F 1/444(2013.01) C02F 1/444(2013.01)
출원번호/일자 1019960027019 (1996.07.04)
출원인 한국과학기술연구원, 하이트진로 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1998-0009128 (1998.04.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1996.07.04)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
2 하이트진로 주식회사 대한민국 서울특별시 강남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김만근 대한민국 서울특별시 영등포구
2 장문석 대한민국 서울특별시 서초구
3 정두식 대한민국 부산광역시 사하구
4 김재진 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))
2 조현실 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **, 한라클래식빌딩 *층 (역삼동)(한성국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1996.07.04 수리 (Accepted) 1-1-1996-0098143-80
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1996.07.04 수리 (Accepted) 1-1-1996-0098144-25
3 출원심사청구서
Request for Examination
1996.07.04 수리 (Accepted) 1-1-1996-0098145-71
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1998.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1996-0040212-33
5 거절사정서
Decision to Refuse a Patent
1998.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1996-0430867-10
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2003.08.20 수리 (Accepted) 4-1-2003-0046476-18
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.07.11 수리 (Accepted) 4-1-2006-5097592-33
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.07 수리 (Accepted) 4-1-2011-5245095-09
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.10.01 수리 (Accepted) 4-1-2018-5198006-16
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