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다유기실릴에틸벤젠유도체 및 그들의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015120199
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 화학식 1의 벤젠유도체와 화학식 11의 비닐클로로실란을 반응하여 화학식 3의 실릴알킬화 벤젠을 제조하고 이를 적절한 반응경로를 통하여 화학식 4로 표시되는 신규한 다유기실릴에틸벤젠유도체를 제조하는 것이다.본 발명의 화학식 4의 신규한 다유기실릴에틸벤젠유도체는 실릴에틸기에 다양한 유기 관능기가 결합된 구조이므로 유기관능기의 종류와 성질에 따라 실리콘산업에 유용한 출발물질 또는 중간체로 사용할 수 있을 것으로 기대된다.화학식 4에 있어서, R1은 수소, 메틸, 에틸, 노르말-프로필, 노르말-부틸 혹은 유기실릴에틸기를 나타낸다. R2와 R3는 각각 수소, 메틸, 혹은 유기실릴에틸기를 나타낸다. m은 1에서 6까지의 정수를 나타낸다. n은 2 또는 3의 정수이다. 그리고 A는 수소, 메틸, C1~4의 알콕시, 아세톡시, 비닐, 알릴, 에티닐, 페닐, 벤질, 시클로펜틸, 인데닐, 또는 풀루오레닐기이다. 그러나 A가 시클로펜틸, 인데닐, 또는 풀루오레닐기의 경우에는 n이 3의 경우가 제외된다. n이 2인 경우에는 A가 시클로펜틸, 인데닐, 또는 풀루오레닐기의 조합이 가능하다. R1, R2, R3 모두가 수소의 경우에는 m이 1 또는 2가 제외된다. R1이 수소, 메틸, 에틸, 노르말-프로필, 또는 노르말-부틸기의 경우에는 m이 1 또는 2의 경우가 제외된다.화학식 1에 있어서, R1은 수소, 메틸, 에틸, 노르말-프로필, 또는 노르말-부틸기를 나타낸다. R2와 R3는 각각 수소 또는 메틸기를 나타낸다.화학식 2에 있어서, n은 2 또는 3의 정수이며 m'는 4에서 10까지의 정수를 나타낸다.화학식 3에 있어서, R1은 수소, 메틸, 에틸, 노르말-프로필, 노르말-부틸 혹은 유기실릴에틸기를 나타낸다. R2와 R3는 각각 수소, 메틸, 혹은 유기실릴에틸기를 나타낸다. m은 1에서 6까지의 정수를 나타낸다. 그리고 n은 2 또는 3의 정수이다.
Int. CL C07F 7/08 (2006.01)
CPC C07F 7/127(2013.01)
출원번호/일자 1019960032166 (1996.08.01)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0184384-0000 (1998.12.18)
공개번호/일자 10-1998-0013614 (1998.05.15) 문서열기
공고번호/일자 (19990515) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1996.08.01)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정일남 대한민국 서울특별시 송파구
2 조은정 대한민국 서울특별시 양천구
3 한준수 대한민국 서울특별시 광진구
4 유복렬 대한민국 경기도 고양시 일산

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination
1996.08.01 수리 (Accepted) 1-1-1996-0114448-76
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1996.08.01 수리 (Accepted) 1-1-1996-0114447-20
3 특허출원서
Patent Application
1996.08.01 수리 (Accepted) 1-1-1996-0114446-85
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1998.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1996-0046907-96
5 의견서
Written Opinion
1998.11.24 수리 (Accepted) 1-1-1996-0798388-88
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1998.11.24 수리 (Accepted) 1-1-1996-0798401-95
7 등록사정서
Decision to grant
1998.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1996-0452792-99
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체

[화학식 4]

2

화학식 3으로 표시되는 실릴알킬벤젠유도체를 질소가스와 테트라하이드로퓨란용매 존재하에 리튬알루미늄하이드라이드 환원제로 환원시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

3 3

제2항에 있어서, 리튬알루미늄하이드라이드를 화학식 3의 실릴알킬벤젠유도체에 대해 몰비로 4~10배를 사용하는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

4 4

제2항에 있어서, 반응온도를 0~50℃에서 반응시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

5 5

화학식 3으로 표시되는 실릴알킬벤젠유도체에 질소개스와 테트라하이드로퓨란용매 존재하에 메틸마그네슘클로라이드, 비닐마그네슘클로라이드, 알릴마그네슘클로라이드, 에티닐마그네슘클로라이드, 페닐마그네슘클로라이드 및 벤질마그네슘클로라이드 군 중에서 한가지를 선택하여 이것과 반응시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

6 6

제5항에 있어서, 메틸마그네슘클로라이드, 비닐마그네슘클로라이드, 알릴마그네슘클로라이드, 에티닐마그네슘클로라이드, 페닐마그네슘클로라이드 및 벤질마그네슘클로라이드 군 중에서 한가지를 화학식 3의 실릴알킬벤젠유도체의 각 클로로기에 대해 당량비로 1~5배 사용하는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

7 7

제5항에 있어서, 반응온도를 0~60℃에서 반응시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

8 8

화학식 3으로 표시되는 실릴알킬벤젠유도체에 질소개스와 테트라하이드로퓨란용매 존재하에 인데닐리튬, 풀루오레닐리튬 및 사이클로펜틸나트륨 군 중에서 한가지를 선택하고 이것과 반응시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

9 9

제8항에 있어서, 인데닐리튬, 풀루오레닐리튬 및 사이클로펜틸나트륨 군 중에서 한가지를 화학식 3의 실릴알킬벤젠유도체의 각 클로로기에 대해 당량비로 1~2배 사용하는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

10 10

제8항에 있어서, 반응온도를 -78~-5℃로 유지하는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

11 11

제8항에 있어서, 15~25℃에서 18~48시간 동안 반응시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

12 12

화학식 3으로 표시되는 실릴알킬벤젠유도체에 질소개스와 테트라하이드로퓨란용매 존재하에 메탄올, 에탄올, 프로판올 및 부탄올 군 중에서 한가지를 선택하고 이것과 피리딘으로 반응시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

13 13

화학식 3으로 표시되는 실릴알킬벤젠유도체와 무수 아세트 산을 질소개스 존재하에 반응시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

14 14

제14항에 있어서, 무수 아세트 산을 화학식 3의 실릴알킬벤젠유도체에 대해 몰비로 50~200배를 사용하는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

15 15

제14항에 있어서, 반응온도를 80~120℃에서 반응시키는 것이 특징인 화학식 4로 표시되는 다유기실릴에틸벤젠유도체의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.