맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

진폭 마스크를 이용한 제파 필터 제조 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015120313
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 복수의 진폭 마스크를 이용하여 다양한 장주기 격자 필터를 제조하기 위한 제파 필터 제조 방법 및 장치가 개시되어 있다. 본 발명에 따른 제파 필터 제조 방법은, 제파 필터를 제조하는 방법에 있어서, 광원과 제파 필터 재료 사이에 소정 주기의 격자가 형성된 복수의 진폭 마스크를 서로 평행하게 배치하는 단계; 상기 복수의 진폭 마스크 중 적어도 하나를 상기 격자의 길이 방향에 수직한 방향으로 소정량만큼 이동시키는 단계; 및 상기 광원으로부터 상기 제파 필터 재료 상에 광을 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하며, 제파 필터 제조 장치는, 제파 필터 재료 상에 광을 조사하여 소정 격자 주기를 가진 제파 필터를 제조하는 장치에 있어서, 광원; 소정 주기의 격자가 형성된 복수의 진폭 마스크; 및 상기 복수의 진폭 마스크에 형성된 각각의 격자들이 서로 중첩되도록 상기 복수의 진폭 마스크 중 적어도 하나를 소정의 방향으로 이동시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명은 복수의 진폭 마스크를 중첩시키는 간단한 방식으로 진폭 마스크의 격자 주기를 변화시켜 다양한 격자 주기를 가진 제파 필터를 제공한다.
Int. CL G02B 5/20 (2006.01)
CPC G02B 6/02142(2013.01) G02B 6/02142(2013.01) G02B 6/02142(2013.01) G02B 6/02142(2013.01) G02B 6/02142(2013.01)
출원번호/일자 1019980000279 (1998.01.08)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0267516-0000 (2000.07.05)
공개번호/일자 10-1999-0065145 (1999.08.05) 문서열기
공고번호/일자 (20001016) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1998.01.08)
심사청구항수 4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이상배 대한민국 서울특별시 도봉구
2 장주녕 대한민국 서울특별시 성북구
3 최상삼 대한민국 서울특별시 용산구
4 곽경호 대한민국 경기도 수원시 팔달구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 삼성전자 주식회사 대한민국 경기도 수원시 팔달구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination		 1998.01.08 수리 (Accepted) 1-1-1998-0000919-53
2 특허출원서
Patent Application		 1998.01.08 수리 (Accepted) 1-1-1998-0000917-62
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1998.01.08 수리 (Accepted) 1-1-1998-0000918-18
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
10 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2000.06.16 수리 (Accepted) 9-1-2000-9001472-94
11 등록사정서
Decision to grant		 2000.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0148602-30
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

제파 필터를 제조하는 방법에 있어서,

광원과 제파 필터 재료 사이에 소정 주기의 격자가 형성된 복수의 진폭 마스크를 서로 평행하게 배치하는 단계;

상기 복수의 진폭 마스크 중 적어도 하나를 상기 격자의 길이 방향에 수직한 방향으로 소정량만큼 이동시키는 단계; 및

상기 광원으로부터 상기 제파 필터 재료 상에 광을 조사하는 단계

를 포함하는 것을 특징으로 하는 제파 필터 제조 방법

2 2

제파 필터를 제조하는 방법에 있어서,

광원과 제파 필터 재료 사이에 소정 주기의 격자가 형성된 복수의 진폭 마스크를 배치하되, 각각의 격자들이 서로 중첩되게 상기 복수의 진폭 마스크를 배치하는 단계; 및

상기 광원으로부터 상기 복수의 진폭 마스크의 중첩된 격자들을 통해 상기 제파 필터 재료 상에 광을 조사하는 단계

를 포함하는 것을 특징으로 하는 제파 필터 제조 방법

3 3

제파 필터 재료 상에 광을 조사하여 소정 격자 주기를 가진 제파 필터를 제조하는 장치에 있어서,

광원;

소정 주기의 격자가 형성된 복수의 진폭 마스크; 및

상기 복수의 진폭 마스크에 형성된 각각의 격자들이 서로 중첩되도록 상기 복수의 진폭 마스크 중 적어도 하나를 소정의 방향으로 이동시키기 위한 수단

을 포함하며,

상기 복수의 진폭 마스크 및 상기 제파 필터 재료는 상기 광원의 광로 상에 차례로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 제파 필터 제조 장치

4 4

제3항에 있어서, 상기 이동 수단은 수 μm 내지 수 십 μm의 이동 정밀도를 가진 마이크로 스테이지인 것을 특징으로 하는 제파 필터 제조 장치

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.