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광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치에 있어서, 단일 활성층을 포함하는 단색의 반사형 홀로그래픽 광학 소자를 형성하는 수단, 상기 활성층을 부풀리기 위한 용액으로 채워져 상기 광학 소자를 수용하는 수용 수단, 상기 용액이 상기 활성층내로 확산되는 속도를 조정하여 상기 활성층의 부풀림을 제어하는 활성층 부풀림 제어 수단, 상기 활성층의 부풀림에 따른 상기 광학 소자의 반사 대역폭의 변화를 검지하는 반사 대역폭 검지 수단, 및 상기 검지 수단에 의해 상기 반사 대역폭이 원하는 값이 되었음을 검지하였을 때, 상기 활성층의 부풀림을 순간적으로 저지하는 활성층 부풀림 저지 수단 을 포함하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 단색의 반사형 홀로그래픽 광학 소자 형성 수단은 광원 및 상기 광원으로부터의 기준파를 확산시키는 확산 수단을 포함하며, 상기 확산 수단을 투과한 빔을 사용하여 상기 광학 소자에 대한 기록을 하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 단색의 반사형 홀로그래픽 광학 소자 형성 수단은 단일 파장의 레이저를 사용하여 상기 단색의 반사형 홀로그래픽 광학 소자에 대한 간섭 무늬의 기록을 행하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 용액은 원하는 반사 대역폭의 가장 긴 파장까지 상기 광학 소자의 반사 대역폭을 천이시킬 수 있는 용액인 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제3항에 있어서, 상기 레이저 파장은 원하는 반사 대역폭의 가장 짧은 파장 이하의 파장인 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제4항에 있어서, 상기 용액은 상기 천이 과정을 순간적으로 저지시키는 것을 가능하게 하며, 그 천이된 상태를 유지하게 할 수 있는 용액인 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제6항에 있어서, 상기 천이 과정의 순간적인 저지는 상기 반사 대역폭이 최대가 되는 순간에 이루어지는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제2항에 있어서, 상기 확산 수단의 크기는 재생상의 크기 및 감광 물질을 기초로 설정되어 스펙클 잡음을 최소화할 수 있는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 활성층 부풀림 제어 수단은 상기 용액의 온도를 조절함으로써 상기 확산 속도를 조정하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 반사 대역폭 검지 수단은 분광기를 포함하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 활성층 부풀림 저지 수단은, 포토폴리머의 경우에는 자외선 조사에 의해, DCG의 경우에는 마이크로 웨이브 조사에 의해 상기 활성층의 부풀림을 저지하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 장치
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광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법에 있어서, 단일 활성층을 포함하는 단색의 반사형 홀로그래픽 광학 소자를 형성하는 단계, 상기 단색의 반사형 홀로그래픽 광학 소자를 상기 활성층을 부풀리기 위한 용액에 담그는 단계, 상기 용액이 상기 활성층내로 확산되는 속도를 조정하여 상기 활성층의 부풀림을 제어하는 단계, 상기 활성층의 부풀림에 따른 상기 광학 소자의 반사 대역폭의 변화를 검지하는 단계, 및 상기 반사 대역폭이 원하는 값이 되었음을 검지하였을 때, 상기 활성층의 부풀림을 순간적으로 저지하는 단계 를 포함하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 단색의 반사형 홀로그래픽 광학 소자 형성 단계는 광원으로부터의 기준파를 확산시키는 확산 수단을 투과한 빔을 사용하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 단색의 반사형 홀로그래픽 광학 소자 형성 단계는 단일 파장의 레이저를 사용하여 상기 광학 소자에 대한 간섭 무늬의 기록을 행하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 용액은 원하는 반사 대역폭의 가장 긴 파장까지 상기 광학 소자의 반사 대역폭을 천이시킬 수 있는 용액인 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제14항에 있어서, 상기 레이저 파장은 원하는 반사 대역폭의 가장 짧은 파장 이하의 파장인 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제15항에 있어서, 상기 용액은 상기 천이 과정을 순간적으로 저지시키는 것을 가능하게 하며, 그 천이된 상태를 유지하게 할 수 있는 용액인 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제17항에 있어서, 상기 천이 과정의 순간적인 저지는 상기 반사 대역폭이 최대가 되는 순간에 이루어지는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 확산 수단의 크기는 재생상의 크기 및 감광 물질을 기초로 설정되어 스펙클 잡음을 최소화할 수 있는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 활성층 부풀림 제어 단계는 상기 용액의 온도를 조절함으로써 상기 확산 속도를 조정하는 단계를 포함하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 반사 대역폭 검지 단계는 분광기를 사용하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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제12항에 있어서, 상기 활성층 부풀림 저지 단계는, 포토폴리머의 경우에는 자외선 조사에 의해, DCG의 경우에는 마이크로 웨이브 조사에 의해 상기 활성층의 부풀림을 저지하는 광대역 천연색 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제조 방법
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