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용액의 점도 변화를 이용한 박막의 두께 조절 방법

  • 기술번호 : KST2015120510
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 졸-겔법(sol-gel)에 의해 박막을 제조하는 방법에 있어서, 졸의 가수 분해 과정에서 일어나는 현상인 졸의 시간에 따른 점도 변화를 이용하는 것을 포함하는 박막의 두께 조절 방법에 관한 것이다. 본 발명을 이용하여 통상의 졸-겔법에 의해 코팅되는 두께의 200 % 이상까지 단 한번의 공정으로 두껍게 코팅할 수 있고, 또한 박막의 두께를 10 nm 수준으로 정밀하게 조절할 수 있다.본 발명을 이용하여 두껍고 정확한 두께의 박막이 요구되는 광학 소자, 전자 소자 등을 용이하게 제조할 수 있다.졸-겔법, 담금법, 회전법, 점도 변화, 막 두께
Int. CL B05D 5/00 (2006.01)
CPC B05D 1/185(2013.01) B05D 1/185(2013.01) B05D 1/185(2013.01) B05D 1/185(2013.01)
출원번호/일자 1019990000903 (1999.01.15)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0324645-0000 (2002.02.01)
공개번호/일자 10-2000-0050796 (2000.08.05) 문서열기
공고번호/일자 (20020227) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.01.15)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박,재관 대한민국 서울특별시노원구
2 김,인태 대한민국 경기도성남시분당구
3 조,운조 대한민국 경기도의정부시
4 김,윤호 대한민국 서울특별시노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원서
Patent Application
1999.01.15 수리 (Accepted) 1-1-1999-0001750-47
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document
1999.01.16 수리 (Accepted) 1-1-1999-5009841-18
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
4 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
1999.03.10 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-1999-0019494-18
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2000.11.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2000.12.13 수리 (Accepted) 9-1-2000-0006068-79
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2001.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0049514-11
10 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2001.04.30 수리 (Accepted) 1-1-2001-0098889-07
11 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2001.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2001-0127719-24
12 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2001.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2001-0161424-58
13 의견서
Written Opinion
2001.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2001-0189284-07
14 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2001.07.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2001-0189283-51
15 등록결정서
Decision to grant
2002.01.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0009850-44
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

졸-겔법에 의해 박막을 제조하는 방법에 있어서, 졸의 가수 분해 과정에서 일어나는 현상인 졸의 시간에 따른 점도 변화를 이용하되, 일정 시간 경과하여 졸의 점도가 증가하기 시작하여 겔화 되기까지의 점도 영역을 이용하는 것을 특징으로 하는 박막의 두께 조절 방법

2 2

제1항에 있어서, 단한번의 코팅 공정으로 박막의 두께를 200 % 이상까지 두껍게 코팅하는 것인 방법

3 3

제2항에 있어서, 기존의 두께 한계인 200∼300 nm보다 200 % 이상 두꺼운 600∼800 nm의 박막을 코팅하는 것인 방법

4 4

제1항에 있어서, 박막의 두께를 10 nm 수준으로 정밀하게 조절하는 것인 방법

5 5

제4항에 있어서, 기존의 200∼300 nm 영역에서부터 본 발명의 600∼800 nm 두께까지 연속적으로 박막 두께를 10 nm 두께 차이로 정밀하게 조절하는 것인 방법

지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
패밀리 정보가 없습니다

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 TWI238290 TW 대만 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.