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다공성 키토산 구슬 및 그의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015120592
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기공의 크기가 크고 표면 및 내부에 비교적 균일한 크기의 기공을 함유하는 다공성 키토산 구슬 및 그의 제조 방법과, 상기 다공성 키토산 구슬을 세포 배양용 기질(matrix)로 사용하는 용도에 관한 것으로, 구체적으로 키토산 용액, 수용성 키토산 용액 또는 이들의 혼합 용액을 저온의 유기용매 또는 액체 질소에 적하하여 온도 차이에 의한 상분리에 의해 기공의 크기를 조절하는 다공성 키토산 구슬의 제조 방법과, 상기 방법에 의해 제조되며 표면 및 내부에 5 ~ 200 ㎛의 비교적 크고 균일한 크기의 기공을 갖는 다공성 키토산 구슬 및 이를 동·식물 세포 배양용 기질로 사용하는 용도에 관한 것이다. 본 발명의 다공성 키토산 구슬은 넓은 표면적을 가지기 때문에 많은 세포를 흡착시킬 수 있고, 기존의 스폰지 형태에 비해 세포의 주입이 용이하며, 또한 세포의 기능을 오래 유지시키기에 매우 유용한 3차원적 구조를 가지므로, 기존의 기질보다 휠씬 효율적인 세포 배양이 가능하여 간, 췌장 등의 대사기관 또는 연골, 골 등의 대체를 위한 연구 뿐 아니라 단백질, 항생제, 항암제, 다당류, 생리활성 물질, 동물 호르몬, 식물 호르몬 등을 얻기 위한 연구시에 효율적으로 이용할 수 있다.
Int. CL C12N 1/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1019990060034 (1999.12.21)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0375422-0000 (2003.02.26)
공개번호/일자 10-2001-0063154 (2001.07.09) 문서열기
공고번호/일자 (20030310) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.12.21)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정서영 대한민국 경기도 고양시 일산구
2 배은희 대한민국 서울특별시 용산구
3 권익찬 대한민국 서울특별시 노원구
4 최귀원 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1999.12.21 수리 (Accepted) 1-1-1999-0177204-67
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document		 1999.12.22 수리 (Accepted) 1-1-1999-5428171-08
3 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items		 1999.12.22 수리 (Accepted) 1-1-1999-0177743-54
4 신규성(출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Certificate of Novelty(Special Provisions for Application)		 1999.12.22 수리 (Accepted) 1-1-1999-5428170-52
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
6 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items		 2000.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2000-0253529-99
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2001.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0369104-11
8 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2002.02.28 수리 (Accepted) 1-1-2002-0061415-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
10 의견서
Written Opinion		 2002.03.26 수리 (Accepted) 1-1-2002-5076700-56
11 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.03.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0088615-60
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.08.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0289581-56
13 의견서
Written Opinion		 2002.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2002-5219351-80
14 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.09.03 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0288717-54
15 등록결정서
Decision to grant		 2003.02.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0058932-62
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

삭제
2 2

세포배양용 기질로서, 상기 기질의 재료가 키토산, 수용성 키토산 및 이들의 혼합물로 구성되는 군에서 선택되는 물질이고, 상기 기질이 내부 및 외부에 균일한 기공을 갖는 다공성 구슬형태이고, 상기 기공의 크기가 30-150 ㎛이고, 배양될 세포가 상기 기질에 흡착에 의해 부착되어 내부 기공 및 기질 표면에서 성장하는 것을 것을 특징으로 하는 세포 배양용 기질

3 3

삭제
4 4

제2항의 세포 배양용 기질을 4 - 6시간의 전배양에 적용시켜 흡착에 의해 배양용 세포를 기질에 부착시킨 후, 배양액을 일정주기로 교체하여 상기 세포를 내부 기공 및 기질 표면에서 성장시키는 단계를 포함하는 세포를 배양하는 방법

5 5

1) 아세트산 수용액에 키토산을 용해시킨 키토산 용액, 탈이온수에 수용성 키토산을 용해시킨 수용성 키토산 용액 또는 상기 키토산 용액과 수용성 키토산 용액의 혼합 용액을 제조하는 단계,

2) 단계 1의 용액을 -5 ∼ -65℃의 저온의 유기용매에 적하하여 구슬 형태로 제조하는 단계, 및

3) 단계 2의 키토산 구슬을 동결 건조하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 세포 배양용 다공성 키토산 구슬의 제조 방법

6 6

제 5항에 있어서, 단계 1의 키토산은 평균 분자량이 30,000 ∼ 100,000이고, 수용성 키토산은 평균 분자량이 100,000 ∼ 400,000인 것을 특징으로 하는 다공성 키토산 구슬의 제조 방법

7 7

제 5항에 있어서, 단계 1의 아세트산 수용액은 1

8 8

제 5항에 있어서, 단계 1의 키토산 용액은 키토산 농도가 0

9 9

제 5항에 있어서, 수용성 키토산 용액은 키토산 농도가 0

10 10

제 5항에 있어서, 단계 1의 키토산과 수용성 키토산의 혼합용액은 키토산과 수용성 키토산의 중량비가 2:8내지 8:2인 것을 특징으로 하는 다공성 키토산 구슬의 제조 방법

11 11

제 5항에 있어서, 단계 2의 유기용매는 클로로사이클로헥산, 클로로펜탄, n-헥산, 디클로로메탄, 클로로포름 또는 에틸아세테이트로 구성되는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 다공성 키토산 구슬의 제조 방법

12 12

제 5항에 있어서, 단계 2의 유기용매는 -5 ∼ -25℃의 저온을 유지하는 것을 특징으로 하는 다공성 키토산 구슬의 제조 방법

13 13

제 5항에 있어서, 저온을 유지하기 위해 드라이아이스나 냉각기를 이용하여 -5 ∼ -65℃로 유지된 에탄올을 이용하는 것을 특징으로 하는 다공성 키토산 구슬의 제조 방법

14 14

1) 아세트산 수용액에 키토산을 용해시킨 키토산 용액, 탈이온수에 수용성 키토산을 용해시킨 수용성 키토산 용액 또는 상기 키토산 용액과 수용성 키토산 용액의 혼합 용액을 제조하는 단계,

2) 단계 1의 용액을 -5 ∼ -65℃의 저온의 유기용매에 적하하여 구슬 형태로 제조하는 단계,

3) 단계 2의 키토산 구슬을 동결 건조하는 단계,

4) 동결건조된 다공성 키토산 구슬을 중화한 후 산과 유기용매를 제거하고 멸균하는 단계,

5) 배양용액으로 치환하고 다시 동결 건조한 다음 다공성 키토산 구슬을 4 - 6시간의 전배양에 적용시켜 흡착에 의해 배양용 세포를 기질에 부착시키는 단계, 및

6) 배양액을 일정주기로 교체하여 상기 세포를 키토산 구슬의 내부 기공 및 기질 표면에서 성장시키는 단계를 포함하는 세포를 배양하는 방법

15 15

삭제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN1411471 CN 중국 FAMILY
2 EP01272529 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP15518926 JP 일본 FAMILY
4 US20030119157 US 미국 FAMILY
5 US20070148770 US 미국 FAMILY
6 WO2001046266 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 AU1900301 AU 오스트레일리아 DOCDBFAMILY
2 AU1900301 AU 오스트레일리아 DOCDBFAMILY
3 AU762250 AU 오스트레일리아 DOCDBFAMILY
4 AU762250 AU 오스트레일리아 DOCDBFAMILY
5 CA2395245 CA 캐나다 DOCDBFAMILY
6 CN1173031 CN 중국 DOCDBFAMILY
7 CN1411471 CN 중국 DOCDBFAMILY
8 EP1272529 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
9 EP1272529 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
10 IL150042 IL 이스라엘 DOCDBFAMILY
11 IL150042 IL 이스라엘 DOCDBFAMILY
12 JP2003518926 JP 일본 DOCDBFAMILY
13 JP2003518926 JP 일본 DOCDBFAMILY
14 JP2003518926 JP 일본 DOCDBFAMILY
15 RU2002119401 RU 러시아 DOCDBFAMILY
16 RU2234514 RU 러시아 DOCDBFAMILY
17 US2003119157 US 미국 DOCDBFAMILY
18 US2007148770 US 미국 DOCDBFAMILY
19 WO0146266 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
20 WO0146266 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.