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스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹 후막 제조방법

  • 기술번호 : KST2015120628
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법에 관한 것으로, 유기 바인더 및 용제로 구성된 비이클을 제조하고, 상기 비이클에 세라믹 분말을 분산시켜 페이스트를 제조하고, 상기 페이스트로 스크린 프린팅법에 의해 일정한 두께의 후막을 프린팅하고, 프린팅된 후막을 건조한 후 유기바인더를 제거하고, 프린팅된 후막 표면에 졸 또는 졸과 유사한 용액을 도포하여 상기 후막으로 스며들도록 함침시키고, 상기 후막을 스피닝하여 여분의 졸 또는 졸과 유사한 용액을 제거하고, 상기 후막을 건조하여 중간 열처리를 하고, 상기 후막을 소결하는 단계를 포함하여 이루어지는 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법을 제공한다. 본 발명에 의하면 패터닝 공정이 필요없이 기존의 스크린 프린팅 방법을 이용하여 저온에서 보다 치밀한 세라믹 후막을 원하는 패턴 크기로 제조하는 것이 가능하다. 따라서 저온소결 및 후막의 치밀화로 인하여 압전 소자및 초전 소자 등의 마이크로 디바이스 제조에 유용하게 이용될 수 있다.
Int. CL H01L 41/187 (2006.01) C04B 41/81 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020000025622 (2000.05.13)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0369118-0000 (2003.01.09)
공개번호/일자 10-2001-0104157 (2001.11.24) 문서열기
공고번호/일자 (20030124) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.05.13)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태송 대한민국 서울특별시마포구
2 김용범 대한민국 서울특별시동대문구
3 정형진 대한민국 서울특별시강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2000.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2000-0095922-67
2 신규성(출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Certificate of Novelty(Special Provisions for Application)
2000.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2000-5157056-14
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2002.03.26 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2002.04.23 수리 (Accepted) 9-1-2002-0000581-19
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2002.05.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0183051-17
7 의견서
Written Opinion
2002.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2002-0245147-98
8 등록결정서
Decision to grant
2002.12.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0465191-37
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

유기 바인더 및 용제로 구성된 비이클(Vehicle)을 제조하고,

상기 비이클에 세라믹 분말을 분산시켜 페이스트(paste)를 제조하고,

상기 페이스트로 스크린 프린팅법에 의해 일정한 두께의 후막을 프린팅하고,

프린팅된 후막을 건조한 후 유기바인더를 제거하고,

프린팅된 후막 표면에 졸(sol) 또는 졸과 유사한 용액(solution)을 도포하여 상기 후막으로 스며들도록 함침시키고,

상기 후막을 스피닝(spinning)하여 여분의 졸 또는 졸과 유사한 용액을 제거하고,

상기 후막을 건조하여 중간 열처리를 하고,

상기 후막을 700 ~ 1200℃의 온도에서 소결하는 단계를 포함하여 이루어지는 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

2 2

제1항에 있어서, 상기 졸과 유사한 용액은 PZT성분을 함유한 알콕사이드(alkoxide), 수화물(hydrate), 카보네이트(carbonate) 등의 금속유기물(metal organic) 등을 단독으로 혹은 혼합된 상태로, 또는 용매에 단순히 용해시킨 용액을 포함하는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

3 3

제1항에 있어서, 상기 졸 또는 졸과 유사한 용액은 상기 세라믹 분말과 동일한 성분인 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

4 4

제1항에 있어서, 상기 졸 또는 졸과 유사한 용액은 상기 세라믹 분말과 다른 성분인 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

5 5

제1항에 있어서, 스크린 프린팅에 의해 일정 두께의 후막을 형성하고 졸 또는 졸과 유사한 용액을 후막 표면에 함침시킨 후, 이 과정을 2회 이상 반복적으로 실시하여 상기 후막을 치밀화 시키는 것을 특징으로 하는 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

6 6

제1항에 있어서, 상기 소결시 소결온도는 800 ~ 900℃의 범위인 것을 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

7 7

제1항에 있어서, 상기 후막의 두께는 1 ~ 200㎛의 범위인 것을 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

8 8

유기 바인더 및 용제로 구성된 비이클을 제조하고,

상기 비이클에 세라믹 분말을 분산시켜 페이스트를 제조하고,

상기 페이스트로 스크린 프린팅법에 의해 일정한 두께의 후막을 프린팅하고,

프린팅된 후막을 건조한 후 유기바인더를 제거하고,

상기 후막을 소결하고,

상기 후막 표면에 졸 또는 졸과 유사한 용액을 도포하여 상기 후막으로 스며들도록 함침시키고,

상기 후막을 600 ~ 700℃의 온도에서 소결하는 단계를 포함하여 이루어지는 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

9 9

유기 바인더 및 용제로 구성된 비이클을 제조하고,

상기 비이클에 세라믹 분말을 분산시켜 페이스트를 제조하고,

상기 페이스트로 스크린 프린팅법에 의해 일정한 두께의 후막을 프린팅하고,

프린팅된 후막을 건조한 후 유기바인더를 제거하고,

프린팅된 후막 표면에 졸 또는 졸과 유사한 용액을 도포하여 상기 후막으로 스며들도록 함침시키고,

상기 후막을 스피닝하여 여분의 졸 또는 졸과 유사한 용액을 제거하고,

상기 후막을 건조하여 중간 열처리를 하고,

상기 후막을 소결하고,

상기 후막 표면에 졸 또는 졸과 유사한 용액을 다시 도포하여 상기 후막으로 스며들도록 함침시키고,

상기 후막을 소결하는 단계를 포함하여 이루어지는 스크린 프린팅에 의한 고밀도 세라믹후막 제조방법

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP01285102 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 EP01285102 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP03917426 JP 일본 FAMILY
4 JP15533596 JP 일본 FAMILY
5 US06749798 US 미국 FAMILY
6 US20020171182 US 미국 FAMILY
7 WO2001088222 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 AT400673 AT 오스트리아 DOCDBFAMILY
2 DE60134737 DE 독일 DOCDBFAMILY
3 EP1285102 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
4 EP1285102 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
5 EP1285102 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
6 JP2003533596 JP 일본 DOCDBFAMILY
7 JP2003533596 JP 일본 DOCDBFAMILY
8 JP2003533596 JP 일본 DOCDBFAMILY
9 JP3917426 JP 일본 DOCDBFAMILY
10 US2002171182 US 미국 DOCDBFAMILY
11 US6749798 US 미국 DOCDBFAMILY
12 WO0188222 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
13 WO0188222 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.