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팔라듐 촉매를 제조하기 위한 활성탄의 전처리 방법

  • 기술번호 : KST2015120629
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 염화불화탄소(CFC)를 탈염소수소화하여 이의 대체물질인 불화탄화수소(HFC)를 제조하는데 유용한 팔라듐 촉매(Pd/C)를 제조하기 위한 활성탄의 전처리 방법에 관한 것으로, 이에 의하여 제조되는 촉매의 활성 및 선택도를 높이는 것이 목적이다. 촉매의 담체인 활성탄을 순차적으로 HF 수용액과 HCl 수용액으로 처리한다. 촉매는 전처리한 활성탄을 상온에서 팔라듐 이온에 함침시키는 단계와; 80∼200℃에서 건조시키는 단계와; 공기 분위기하에 300∼500℃에서 소성하는 단계를 거쳐 제조한다.염화불화탄소, CFC, 불화탄화수소, HFC, 탈염소수소화, 팔라듐 촉매, Pd/C, 활성탄, 담체, 전처리
Int. CL C01B 31/08 (2006.01)
CPC B01J 37/0207(2013.01) B01J 37/0207(2013.01) B01J 37/0207(2013.01)
출원번호/일자 1020000019470 (2000.04.14)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0365582-0000 (2002.12.09)
공개번호/일자 10-2001-0100302 (2001.11.14) 문서열기
공고번호/일자 (20021226) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 보정승인
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.04.14)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안병성 대한민국 서울특별시송파구
2 박영호 대한민국 서울특별시노원구
3 박건유 대한민국 서울특별시성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 강연승 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(역삼동) 성지하이츠*차빌딩 ****호(아이피포스트특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.04.14 수리 (Accepted) 1-1-2000-0073544-07
2 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2000.08.11 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2000-0168412-84
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2001.12.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.01.25 수리 (Accepted) 9-1-2002-0034905-50
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.02.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0059589-37
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2002.04.24 수리 (Accepted) 1-1-2002-0122327-14
8 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.05.17 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0150863-65
9 의견서
Written Opinion		 2002.05.17 수리 (Accepted) 1-1-2002-0150856-45
10 등록결정서
Decision to grant		 2002.12.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0433139-89
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

염화불화탄소(CFC)의 탈염소수소화 반응에 사용되는 팔라듐 촉매(Pd/C)의 제조에 사용되는 활성탄을 전처리함에 있어서, 활성탄을 농도 0

2 2

삭제
3 3

제1항에 있어서, HF 수용액 및 HCl 수용액에 의한 처리가 활성탄을 넣고 각각 20시간 이상 교반하는 것에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 활성탄의 전처리 방법

4 4

제1항에 있어서, HF 수용액 및 HCl 수용액으로 처리한 후, 각각 수소이온농도(pH)가 3∼6사이가 될 때까지 활성탄을 증류수로 세척하는 것을 특징으로 하는 활성탄의 전처리 방법

5 5

제1항에 있어서, HF 수용액 및 HCl 수용액으로 처리한 후, 활성탄을 수소이온농도(pH)가 5 이상이 될 때까지 증류수로 세척하는 것을 특징으로 하는 활성탄의 전처리 방법

6 6

제1항 내지 제5항의 어느 한 항에 의하여 전처리된 활성탄을 사용하여 함침법으로 팔라듐 촉매를 제조함에 있어서, 상온에서 팔라듐 전구체를 활성탄에 함침시키는 단계와; 80∼200℃에서 건조시키는 단계와; 공기 분위기하에 300∼500℃에서 소성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 팔라듐 촉매(Pd/C)의 제조방법

7 7

제6항의 방법에 의해 제조되는 CCl2F2를 수소화시켜 CH2F2를 제조하는 공정에 사용되는 촉매

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.