요약 | 본 발명은 메탄을 포함하는 기체를 플라즈마 상태로 만들어 아연산화물을 반응성 이온식각하는 것을 특징으로 한다. 이 때, 메탄을 사용하는 이유는, 아연성분이 메탄의 CH 라디칼과 결합하여 휘발성이 큰 유기금속 기체의 형태로 제거되도록 함으로써 반응성 이온식각의 효율을 증대시키기 위함이다. 상기 메탄을 포함하는 기체에 수소가 더 포함되는 것이 바람직한데, 이는 수소에 의해 산소가 수산화물(OH) 또는 산소(O2)의 형태로 제거되어 식각률이 더 커지기 때문이며, 또한 수소 비활성화(hydrogen passivation) 효과에 의해 아연산화막의 광학적 특성이 좋아지기 때문이다. 본 발명에 의하면, 매우 높은 식각률을 얻을 수 있을 뿐만 아니라 수소 비활성화 효과로 인하여 박막의 광학적 특성이 향상되게 된다. 따라서, 광전소자 및 전자소자 개발 등 그 응용범위가 크다. 또한, 이방성 식각 특성도 좋다. 건식식각, 반응성 이온식각, 화합물 반도체, 아연산화물, 수소 비활성화 |
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Int. CL | H01L 21/3065 (2006.01) |
CPC | H01L 21/465(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020000047356 (2000.08.17) |
출원인 | 광주과학기술원, 한국과학기술연구원 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2002-0014202 (2002.02.25) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 거절 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2000.08.17) |
심사청구항수 | 3 |