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베타 메틸 베일리스-힐만 생성물 및 인듐을 이용한 그제조방법

  • 기술번호 : KST2015120836
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 베일리스-힐만 생성물 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로는 베타위치가 치환된 베일리스-힐만 생성물 및 인듐을 이용하여 통상적인 방법으로는 제조하기 어려운 상기 베일리스-힐만 생성물을 온화한 조건과 용이한 방법으로 제조하는 방법에 관한 것이다. 베이리스-힐만. 인듐
Int. CL C07D 307/12 (2006.01)
CPC C07C 67/313(2013.01) C07C 67/313(2013.01)
출원번호/일자 1020020002789 (2002.01.17)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0478901-0000 (2005.03.16)
공개번호/일자 10-2003-0062542 (2003.07.28) 문서열기
공고번호/일자 (20050328) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.01.17)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조용서 대한민국 서울특별시동대문구
2 김유승 대한민국 서울특별시강남구
3 고훈영 대한민국 경기도성남시분당구
4 최경일 대한민국 서울특별시노원구
5 배애님 대한민국 서울특별시송파구
6 차주환 대한민국 서울특별시노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2002-0014806-16
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.03.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.04.09 수리 (Accepted) 9-1-2004-0017762-43
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0164916-85
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2004.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2004-0285795-59
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.07.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0341025-25
8 의견서
Written Opinion
2004.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2004-0341027-16
9 등록결정서
Decision to grant
2004.12.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0563140-65
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음의 화학식 I로 표현되는 화합물
2 2
제 1 항에 있어서, 다음의 화학식으로 표현되는 이성체
3 3
제 1 항에 있어서, 다음의 화학식으로 표현되는 이성체
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 R1이 메틸기 또는 에틸기인 화합물
8 8
제 1 항에 있어서, 메틸 2-[(4-클로로-페닐)-히드록시-메틸]-부테-2-노에이트, 메틸 2-[(4-플루오로-페닐)-히드록시-메틸]-부테-2-노에이트, 메틸 2-(히드록시-파라-톨릴-메틸)-부테-2-노에이트, 메틸 2-[히드록시-(4-메톡시-페닐)-메틸]-부테-2-노에이트, 메틸 2-[히드록시-(4-메틸설포닐-페닐)-메틸]-부테-2-노에이트, 메틸 2-[(2,4-디메톡시-페닐)-히드록시-메틸]-부테-2-노에이트, 메틸 2-(히드록시-나프탈렌-2-일-메틸)-부테-2-노에이트, 메틸 2-(퓨란-3-일-히드록시-메틸)-부테-2-노에이트, 에틸 2-[(4-클로로-페닐)-히드록시-메틸]-부테-2-노에이트, 에틸 2-[(4-플루오로-페닐)-히드록시-메틸]-부테-2-노에이트, 에틸 2-(히드록시-파라-톨릴-메틸)-부테-2-노에이트, 에틸 2-[히드록시-(4-메톡시-페닐)-메틸]-부테-2-노에이트, 에틸 2-[히드록시-(4-메틸설포닐-페닐)-메틸]-부테-2-노에이트, 에틸 2-[(2,4-디메톡시-페닐)-히드록시-메틸]-부테-2-노에이트, 에틸 2-(히드록시-나프탈렌-2-일-메틸)-부테-2-노에이트 및 에틸 2-(퓨란-3-일-히드록시-메틸)-부테-2-노에이트로 구성되는 군 중에서 선택된 화합물
9 9
(1) 다음의 반응식 1과 같이, 용매에 화학식 II로 표현되는 화합물과 화학식 III으로 표현되는 화합물을 혼합하고, 상기 혼합물에 인듐금속을 첨가하여 교반시키고, 산과 반응시킨 후 추출하여 화학식 IV로 표현되는 화합물을 제조하는 단계로서, 상기 용매로 물을 단독으로 사용하거나, 에탄올, 메탄올, 이소프로판올, 아세톤, 디옥산, 아세토니트릴, 클로로포름, 디클로로메탄, 테트라하이드로퓨란, 에틸아세테이트 및 N,N-디메틸포름아미드로 구성된 군 중에서 선택된 유기 용매와 물을혼합하여 사용하고 반응 온도를 0 내지 50 ℃로 하여 수행하는 단계, 및 (2) 다음의 반응식 2와 같이, 용매에 상기 화학식 IV로 표현되는 화합물을 넣고 염기를 첨가하여 0 내지 50 ℃에서 반응시킴으로써, 화학식 IV로 표현되는 화합물에서 화학식 I로 표현되는 화합물을 제조하는 단계를 포함하는, 베타메틸 베일리스-힐만 생성물의 제조방법
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 R이 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1-6 개의 알킬, 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 2-6 개의 알케닐 또는 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 2-6 개의 아키닐 중에서 선택된 알킬, 치환되거나 치환되지 않은 페닐, 또는 2 또는 3-티에닐, 2 또는 3-퓨라닐, 2 또는 3-피롤릴중에서 선택된 질소, 황 등을 포함하며 탄소수 3-7 개인 헤테로 고리 화합물인 방법
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 R1이 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 1-6 개의 알킬, 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 2-6 개의 알케닐 또는 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 2-6 개의 아키닐 중에서 선택된 알킬, 치환되거나 치환되지 않은 페닐, 또는 2 또는 3-티에닐, 2 또는 3-퓨라닐, 2 또는 3-피롤릴중에서 선택된 질소, 황 등을 포함하며 탄소수 3-7 개인 헤테로 고리 화합물인 방법
12 12
제 9 항에 있어서, 상기 R 또는 R1이 Cl, Br, F, CF3, NO2 또는 CH3CH2O 중에서 선택된 1 또는 2 개의 치환기로 치환된 방향족 원자단인 빙법
13 13
삭제
14 14
제 11 항에 있어서, 상기 단계 (1)의 용매로서 물과 에탄올, 메탄올, 이소프로판올, 아세톤, 디옥산, 아세토니트릴, 클로로포름, 디클로로메탄, 테트라하이드로퓨란, 에틸아세테이트 및 N,N-디메틸포름아미드 중에서 선택된 한 가지의 유기용매를 부피비로 1:1 ~ 4:1의 비율로 혼합하여 사용하는 방법
15 15
제 9 항에 있어서, 상기 단계 (1)의 화학식 (III)으로 표현되는 화합물을 화학식 (II)로 표현되는 화합물 1 당량에 대하여 1 ~ 5 당량으로 사용하는 방법
16 16
제 9 항에 있어서, 상기 단계 (1)에 첨가되는 산으로서 염산, 브롬산 또는 아세트산을 사용하는 방법
17 17
제 9 항에 있어서, 상기 단계 (2)에 첨가되는 염기로서 DBU(1,8-디아자비시클로[5
18 18
제 9 항에 있어서, 상기 단계 (2)의 염기를 화학식 IV로 표현되는 화합물 1 당량에 대하여 1 ~ 5 당량으로 사용하는 방법
19 19
제 9 항에 있어서, 상기 단계 (2)의 용매로서 아세토니트릴, 클로로포름, 디클로로메탄, 테트라하이드로퓨란, 벤젠, 톨루엔, 에틸아세테이트 또는 N,N-디메틸포름아미드를 사용하는 방법
20 20
삭제
21 21
제 9 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제 (1)단계와 제 (2) 단계의 반응시간을 각각 10 ~ 100 분으로 하여 수행하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.