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3차원 MEMS 집광계와 제조방법 및 그 집광계를 이용한디스플레이소자

  • 기술번호 : KST2015120859
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 3차원 MEMS 집광계와 제조방법 및 그 집광계를 이용한 디스플레이 소자에 관한 것으로서, 더 상세하게는 디스플레이 소자의 백라이트 램프에서 발산되어 나오는 광이 글라스 기판까지 전달되는 경로에서 손실되는 광손실을 감소시켜서 광의 전체 효율을 향상시킬 수 있는 3차원 MEMS 집광계와 제조방법 및 그 집광계를 이용한 디스플레이 소자에 관한 것이다.본 발명에 따른 집광계는 상하 개구율에 차이가 나는 피드혼이 다수개 종횡으로 형성된 직각도파관 구조를 갖는 것을 특징으로 하고, 이 집광계는 디스플레이 소자에 적용되어 상하 개구율 차이 원리로 인한 집광 역할로 광의 경로상에서 손실되는 광손실을 감소시키게 된다.MEMS 집광계, 피드혼, 개구율 차이, 광효율, 백라이트 유니트
Int. CL G02F 1/1335 (2006.01)
CPC G02F 1/1335(2013.01) G02F 1/1335(2013.01) G02F 1/1335(2013.01) G02F 1/1335(2013.01) G02F 1/1335(2013.01)
출원번호/일자 1020010088281 (2001.12.29)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2003-0059420 (2003.07.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.12.29)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문성욱 대한민국 경기도 남양주시 도농로 **,
2 박종연 대한민국 서울특별시 송파구
3 박종오 대한민국 서울특별시서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이종일 대한민국 서울특별시 영등포구 당산로**길 **(당산동*가) 진양빌딩 *층(대일국제특허법률사무소)
2 조희연 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2001.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2001-0355175-23
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2003.07.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2003.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2003-0033985-58
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2003.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0319833-40
6 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2003.10.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2003-0390696-33
7 의견서
Written Opinion
2003.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2003-0390695-98
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.04.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0161801-18
9 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2004.06.25 수리 (Accepted) 1-1-2004-0277395-67
10 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.07.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0331012-53
11 의견서
Written Opinion
2004.07.26 수리 (Accepted) 1-1-2004-0331013-09
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2005.01.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0015340-71
13 명세서 등 보정서 (심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2005.03.10 보정각하 (Rejection of amendment) 7-1-2005-0004704-88
14 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment
2005.04.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0169559-84
15 심사전치출원의 심사결과통지서
Notice of Result of Reexamination
2005.04.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0169560-20
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

상하 개구율에 차이가 나는 피드혼이 다수개 종횡으로 형성된 직각도파관 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 3차원 MEMS 집광계

2 2

청구항 1에 있어서, 상기 하부 개구율이 상부 개구율보다 큰 것을 특징으로 하는 3차원 MEMS 집광계

3 3

반도체 기판에 전기 도금을 위한 시드층을 형성하는 공정과,

상기 시드층의 상부에 희생층을 제조하기 위해 감광수지를 도포하여 감광막을 형성하는 공정과,

상기 감광막의 상부에 패턴이 형성된 마스크를 위치시키고 빛을 조사하는 공정과,

상기 빛의 전사에 의해 혼모양의 감광막 구조물을 형성하는 공정과,

전기도금을 하여 금속막의 구조물을 제조하는 공정과,

CMP 공법으로 상기 금속막 구조물을 평탄화하는 공정과,

희생층인 상기 감광막을 제거하는 공정을,

포함하는 3차원 MEMS 집광계의 제조방법

4 4

청구항 3에 있어서, 상기 감광막의 제거는 건식 방법인 플라즈마 얘셔를 이용함을 특징으로 하는 3차원 MEMS 집광계의 제조방법

5 5

램프, 램프커버, 반사판, 도광판, 확산판, 상하 프리즘판, 보호판으로 이루어진 백라이트 유니트 상부에, 박막 트랜지스터가 하부에 소정거리 이격을 두고 배치된 액정판이 위치되는 디스플레이 소자에 있어서:

상기 보호판과 액정판 사이에 상하 개구율에 차이가 나는 피드혼이 형성된 집광계가 개재됨을 특징으로 하는 집광계를 이용한 디스플레이 소자

6 6

청구항 5에 있어서, 상기 집광계가 박막 트랜지스터의 직하부에 위치됨을 특징으로 하는 집광계를 이용한 디스플레이 소자

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP15202567 JP 일본 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP2003202567 JP 일본 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.