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다음의 일반식 (I)로 표시되는, 보호된 N-히드록시페닐말레이미드의 중합체: (I) 식 중, R은 H, 테트라하이드로피라닐, -COOR3, (SiR4)3 또는 t-부틸기를 나타내고, R3와 R4는 각각 메틸, t-부틸 또는 C2-C3 알킬을 나타내며, R1과 R2는 각각 독립적으로 수소, C1-C6 알킬, C1-C6 알콕시 알킬, C1-C6 히드록시 알킬 또는 C1-C6 할로겐화 알킬을 나타내며, 각 단량체의 비율은 단량체의 총 몰분율 x+y+z+p를 기준으로 하여 x의 몰분율이 0
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제 1 항에 있어서, 상기 R이 테트라하이드로피라닐, -COOR3, (SiR4)3 또는 t-부틸기를 나타내고, R3와 R4는 각각 메틸, t-부틸 또는 C2-C3 알킬이고, 평균 분자량이 5,000 - 100,000인 중합체
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프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA), 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 락테이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트 및 시클로헥산온으로 구성된 군에서 선택되는 유기 용매, 상기 유기 용매에 대하여 0
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제 1 항에 따른 N-히드록시페닐말레이미드 공중합체를 포함하는, 193nm 및 157nm 파장의 엑시머 레이저를 사용하는 반도체 초미세회로 제작을 위한 노광공정에 사용되는 유기 반사 방지막
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