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다공성의 비이온성 고분자 흡착제에 고정화된 오스뮴테트록사이드

  • 기술번호 : KST2015120889
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고분자 흡착제에 고정화된 오스뮴 테트록사이드 (OsO4)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다공성이면서 비이온성인 고분자 흡착체 표면에 오스뮴 테트록사이드를 고정함으로써, 기존의 올레핀계 화합물로부터 다이하이드록시화 반응 (dihydroxylation)에서 촉매로 사용하여 광학 순도가 높은 이웃한 다이올을 고수율로 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 단순 여과를 통해 회수할 수 있으며 재사용이 가능하여 매우 경제적이다. 오스뮴 테트록사이드, 다공성, 비이온성, 고분자 흡착제, 다이하이드록시화 반응, 재사용
Int. CL B01J 20/02 (2006.01)
CPC B01J 31/06(2013.01) B01J 31/06(2013.01) B01J 31/06(2013.01) B01J 31/06(2013.01) B01J 31/06(2013.01) B01J 31/06(2013.01)
출원번호/일자 1020020038929 (2002.07.05)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2004-0004862 (2004.01.16) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.07.05)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송충의 대한민국 서울특별시노원구
2 노은주 대한민국 서울특별시서초구
3 양정운 대한민국 부산광역시영도구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2002.07.05 수리 (Accepted) 1-1-2002-0215247-18
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2003.12.22 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.01.13 수리 (Accepted) 9-1-2004-0002676-74
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2004.11.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0484708-12
5 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2005.05.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0218743-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1

다공성의 비이온성 고분자 흡착제 표면에 오스뮴 테트록사이드가 흡착되어 있는 고분자 흡착제-오스뮴 테트록사이드 복합체

2 2

제 1항에 있어서, 고분자 흡착제가 스틸렌, 디비닐벤젠, 아크릴레이트, 메타아크릴레이트 단량체를 포함하는 공중합체인 것을 특징으로 하는 복합체

3 3

제 1항 또는 제 2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고분자 흡착제의 표면적이 200∼1500 m2/g이고, 기공 크기가 50∼1000 Å이고, 그리고 입자 크기가 20∼200 ㎛인 것을 특징으로 하는 복합체

4 4

제 1항에 있어서, 상기 복합체가 고분자 흡착제에 대하여 오스뮴 테트록사이드가 0

5 5

다공성의 비이온성 고분자 흡착제를 용매에 넣어 균일하게 분산시키는 단계 (단계 1); 및

여기에 오스뮴 테트록사이드 수용액을 첨가하여 반응시키는 단계 (단계 2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 제 1항의 고분자 흡착제-오스뮴 테트록사이드 복합체의 제조방법

6 6

제 5항에 있어서, 상기 용매가 물, C1∼C4의 알코올 및 이들의 혼합용매로 이루어진 그룹 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 제조방법

7 7

제 6항에 있어서, 단계 2의 반응이 0∼60 ℃에서 2∼6 시간동안 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법

8 8

제 1항의 다공성 비이온 고분자 흡착체에 고정화된 오스뮴 테트록사이드를 올레핀의 비대칭 다이하이드록시화 반응에 촉매로 적용하여 이웃한 다이올 화합물을 제조하는 방법

9 9

제 8항에 있어서, 상기 복합체가 올레핀의 비대칭 다이하이드록시화 반응 수행 후 간단히 여과를 통해 회수하여 재사용이 가능한 것을 특징으로 하는 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.