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진공 플라즈마 챔버용 코팅막 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015121073
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 진공 플라즈마 챔버 또는 그 내부에 장착되는 부품을 모재로 하여, 상기 모재를 전해액에 침지하고, 상기 모재에 고전압의 직류 전류를 가하여 모재 표면에 지속적으로 마이크로 아크 또는 플라즈마를 형성하면서 산화물 코팅막을 형성하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법 및 이에 따른 코팅막을 제공한다. 본 발명에 따르면, 기존의 아노다이징 표면 코팅에 비해 경도가 2-3배 이상 향상되고 내부 기공이 감소되며, 내구성이 향상된 코팅막을 형성할 수 있다. 마이크로 방전, 아노다이징, 플라즈마 챔버
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01)
CPC H01J 37/32486(2013.01)
출원번호/일자 1020040080034 (2004.10.07)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2006-0031135 (2006.04.12) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.10.07)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 석현광 대한민국 서울 도봉구
2 김기배 대한민국 서울 성북구
3 손명찬 대한민국 서울 구로구
4 김현태 대한민국 서울 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2004-0455842-06
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2006.01.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2006.02.20 수리 (Accepted) 9-1-2006-0012892-88
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0177312-92
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2006.05.29 수리 (Accepted) 1-1-2006-0380996-50
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2006.07.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0408980-12
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공 플라즈마 챔버 또는 그 내부에 장착되는 부품을 모재로 하여, 상기 모재를 전해액에 침지하고, 상기 모재에 고전압의 직류 전류를 가하여 모재 표면에 지속적으로 마이크로 아크 또는 플라즈마를 형성하면서 산화물 코팅막을 형성하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 모재에 인가되는 고전압은 200V 이상인 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 전해액은 수산화 칼륨 또는 수산화 나트륨과 같은 수산화 알칼리 금속의 수용액, 알칼리 금속의 산소산염을 포함하는 용액, 또는 Na2SiO3, NaAl2, H2SO4, NaF-Na2CO3 등을 포함하는 용액 중에서 선택되는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 코팅막은 Al2O3, ZrO2, MgO, TiO2 또는 이들을 포함하는 복합체인 것을 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 모재에 코팅막을 형성하기 전에 물리적/화학적 세정(cleaning), 표면 거칠기 형성 등의 전처리 공정을 수행하거나, 코팅막 형성후 연마 또는 표면 거칠기 형성 등의 후처리 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 고전압의 직류 전류는 완전 직류, 반파 정류한 직류, 직류와 교류를 결합하여 형성된 변형 직류 전류를 포함하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 모재가 대면적인 경우, 둘 이상의 부분으로 나누어 각각에 코팅막을 형성한 후, 각 부분을 결합하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 각 부분은 코팅층 형성 후 체결이 용이하도록 결합부에 단차, 홈, 키홀을 구비하거나 이음매 부분에 제3의 보호물을 구비하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 코팅막 형성 후, 코팅막 내부의 기공을 불화금속염, 유기산염, Si, SiO2, 폴리머 등의 이종 물질로 충진하는 단계를 추가로 포함하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 모재가 대면적인 경우, 모재의 일부분을 마스킹하여 1차로 코팅하고, 마스킹된 부분을 2차로 코팅하는 순차적인 방법에 의하여 코팅막을 형성하는 것을 특징으로 하는 진공 플라즈마 챔버용 코팅막 제조방법
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제1항에 의하여 제조된 진공 플라즈마 챔버용 코팅막
12 11
제1항에 의하여 제조된 진공 플라즈마 챔버용 코팅막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.