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저온 소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물 및 그의제조 방법

  • 기술번호 : KST2015121181
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식 1 또는 2의 조성을 갖는 비스무스계 세라믹 조성물 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.<화학식 1>Bi1-xAxNbO4<화학식 2>BiNb1-xBxO4상기 식에서,A는 Sm 또는 Dy이고, B는 Sb 또는 P이며, x는 0 < x ≤0.1이다.또한, 본 발명에 따른 세라믹 조성물은 소결 조제로서 CuO 및(또는) V2O5를 더 포함할 수 있다.본 발명에 따른 조성물은 높은 유전율 및 품질계수 및 안정된 공진주파수의 온도계수를 가지며, 880 내지 960℃의 낮은 온도 범위에서 소성이 가능하여 소결 온도가 낮은 Ag, Cu 전극을 내부전극으로 사용할 수 있어 비교적 가격이 저렴한 다층형 마이크로파 유전체 소자 제조에 사용될 수 있다.마이크로파 유전체 세라믹 조성물, 저온동시소성, 유전율, 품질계수, 공진주파수의 온도계수, 전극
Int. CL C04B 35/495 (2006.01)
CPC H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01) H01B 3/12(2013.01)
출원번호/일자 1020060029572 (2006.03.31)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0582983-0000 (2006.05.17)
공개번호/일자 10-2006-0041194 (2006.05.11) 문서열기
공고번호/일자 (20060525) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자 10-2004-0030517 (2004.04.30)
관련 출원번호 1020040030517
심사청구여부/일자 Y (2006.03.31)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오영제 대한민국 서울 영등포구
2 임혁 대한민국 서울 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허분할출원서
Divisional Application of Patent
2006.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2006-0228963-22
2 등록결정서
Decision to grant
2006.05.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0269884-65
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1
하기 화학식 2의 조성을 갖는 저온 소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물
2 2
제1항에 있어서, 소결 조제로서 0
3 3
Sb2O5 또는 H3PO4와, Bi2O3 및 Nb2O5을 습식 혼합한 후 건조하고 열처리하는 단계를 포함하는, 제1항에 기재된 세라믹 조성물의 제조 방법
4 4
제1항에 기재된 세라믹 조성물에 소결 조제로서 CuO 및 V2O5를 첨가하여 습식 혼합 및 건조한 후 소결하는 단계를 포함하는, 제2항에 기재된 세라믹 조성물의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.