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유리기판 표면에 자외선(UV)를 조사함과 동시에 산소 기체를 흘려줌으로써 유리기판 표면을 개질하는 단계; 상기 유리기판 표면에 실리카 솔(silica sol)을 코팅하여 1차 막을 형성하는 단계; 상기 1차 막 상에 상기 실리카 솔을 코팅하되, 상기 실리카 솔의 용매를 포함하는 습윤젤(wet gel) 상태의 2차 막을 형성하는 단계; 및상기 습윤젤 내 용매를 치환함과 동시에 표면을 개질하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 유리기판 표면의 개질 단계 후 유리기판 표면의 젖음성(wettablilty)은 5°미만인 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 2차 막은 수차례에 걸쳐 코팅과 건조를 반복하여 형성하는 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 2차 막은 점도를 조절하여 1회 코팅하여 형성하는 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 용매치환 및 표면개질 단계는, IPA(이소프로필알콜)/TMCS(trimethylchlorosilane)/n-Hexane 용액에 상기 습윤젤 상태의 막을 딥핑(dipping)하는 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 IPA와 TMCS의 몰비는 1:1이고, n-Hexane과 TMCS의 부피비는 10:1 이상인 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 용매치환 및 표면개질 단계를 거친 막을 용매에 넣고 상압에서 끓인 후 건조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 용매는 n-Heptane 용매인 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 상압 건조 단계를 거친 막을 다시 상온의 n-Heptane 용매에 넣어 스트레스를 완화시키고 자연 건조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 실리카 솔의 출발 물질은 금속 알콕사이드 또는 물유리인 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 1차 막의 두께를 100㎚ 이하로 하는 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 에어로젤 후막의 두께를 100㎛ 이상으로 하는 것을 특징으로 하는 에어로젤 후막의 제조방법
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