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연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법

  • 기술번호 : KST2015121217
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에서는 연료 프로세서용 가스 분배 판으로서, 상기 가스 분배 판은, 복수 개의 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 전 가스의 흐름 경로인 제1 가스 흐름 채널과, 복수 개의 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 후 가스의 흐름 경로인 제2 가스 흐름 채널을 구비하고, 상기 제1 가스 흐름 채널 및 상기 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판에서 서로 독립적으로 형성되며, 상기 제1 및 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판의 일 측면 또는 양 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면 메탄올 개질 마이크로 반응기와 같은 연료 프로세서에 사용되는 반응기에서의 가스 분배 시, 가스 유량의 많고 적음에 관계없이 가스의 분배를 균일하게 조절하여 촉매에 전체적으로 가스가 접촉할 수 있도록 함으로써 국부적 발열을 제어하고 반응열의 분포를 균일하게 할 수 있다. 연료프로세서, 메탄올개질반응, 가스분배기, 미세채널, 구멍, 다공성촉매
Int. CL F17D 3/00 (2006.01) F17D 1/02 (2006.01)
CPC F17D 1/04(2013.01)F17D 1/04(2013.01)F17D 1/04(2013.01)F17D 1/04(2013.01)F17D 1/04(2013.01)F17D 1/04(2013.01)
출원번호/일자 1020060063980 (2006.07.07)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0816361-0000 (2008.03.18)
공개번호/일자 10-2008-0004976 (2008.01.10) 문서열기
공고번호/일자 (20080324) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.07.07)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 남석우 대한민국 서울특별시 동대문구
2 김영천 대한민국 서울특별시 동대문구
3 한지승 대한민국 서울 서초구
4 임태훈 대한민국 서울특별시 송파구
5 한종희 대한민국 서울특별시 강남구
6 윤성필 대한민국 경기도 성남시 분당구
7 이재영 대한민국 인천 부평구
8 조은애 대한민국 서울 성북구
9 김형준 대한민국 경기 수원시 영통구
10 하흥용 대한민국 서울특별시 노원구
11 함형철 대한민국 서울특별시 성북구
12 이상엽 대한민국 서울 도봉구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.07.07 수리 (Accepted) 1-1-2006-0488885-90
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.02.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.03.13 수리 (Accepted) 9-1-2007-0014452-94
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.03.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0150842-36
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2007.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0375708-45
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2007.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2007-0454948-72
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.07.23 수리 (Accepted) 1-1-2007-0533324-89
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2007-0575796-88
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.08.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0575804-66
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2007.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0695748-24
11 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2008.02.22 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2008-0007091-16
12 등록결정서
Decision to grant
2008.03.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0126928-91
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
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연료 프로세서용 가스 분배 판의 일측 또는 양측에 촉매가 장착된 연료 프로세서용 가스 분배 장치이고, 상기 가스 분배 판은, 복수 개의 제1 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 전 가스의 흐름 경로인 제1 가스 흐름 채널;과, 복수 개의 제2 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 후 가스의 흐름 경로인 제2 가스 흐름 채널;을 구비하고, 상기 제1 가스 흐름 채널 및 상기 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판에서 서로 독립적으로 형성되며, 상기 제1 및 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판의 일 측면 또는 양 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 가스 분배 판 두 장이 대향하여 접합된 가스 분배 판 접합체의 일측 또는 양측에 촉매가 장착되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 두 장의 가스 분배 판들 중 한 장의 가스 분배 판의 제1 가스 흐름 채널과 제2 가스 흐름 채널의 형성 위치 및 상기 두 장의 가스 분배 판들 중 나머지 한 장의 가스 분배 판의 제1 가스 흐름 채널과 제2 가스 흐름 채널의 형성 위치는 서로 좌우가 반대인 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치
8 8
제 6 항에 있어서, 상기 가스 분배 판 두 장의 어느 하나 또는 둘에는 가스 분배 판 두 장의 접합을 용이하게 하도록 소정 두께로 함몰된 라인이 형성되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치
9 9
제 5 항에 있어서,상기 가스 분배 장치는 상기 촉매를 지지하는 지지 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치
10 10
제 9 항에 있어서,상기 촉매 장착 시 상기 지지 부재와 상기 가스 분배 판 사이의 거리를 일정하게 유지하게 하는 일정 거리 유지 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치
11 11
제 5 항에 있어서,상기 촉매는 다공성 니켈-크롬(Ni-Cr) 판에 세리아(CeO)와 백금(Pt)이 함침된 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치
12 12
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