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이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법 및 이에의해 제조된 표면에 잔물결 패턴이 형성된 폴리머와, 그응용들

  • 기술번호 : KST2015121292
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폴리머 표면에 이온 빔을 비스듬히 조사하여 상기 폴리머 표면에 잔물결 (ripple) 패턴을 형성하는 방법을 제공한다. 특히, 폴리머 재료로서 플렉서블 일렉트로닉스 (flexible electronics) 분야에서 기판으로 사용되는 폴리이미드를 사용하고, 이온 빔의 입사각 및 조사 시간을 조절하여 폴리머 표면의 형상을 제어하는 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 간단한 이온 빔 조사법을 사용하여 폴리머 표면의 형상을 원하는 방향으로 제어할 수 있다.또한, 표면 형상이 제어된 플렉서블 일렉트로닉스 기판 위에 금속 박막을 증착시킴으로써 금속 박막을 비대칭적으로 배열할 수 있고, 금속 박막과 폴리머 간 접합력을 증진시킬 수 있다. 또한, 잔물결 패턴이 형성된 폴리머 위에 반도체 분야에서 사용되는 액정 (liquid crystal)을 배열하여 그 방향성을 조절함으로써 새로운 타입의 LCD 장치를 만들 수 있다. 폴리이미드, 이온 빔, 잔물결 패턴, 표면 개질, 플렉서블 일렉트로닉스, 폴리머, 액정
Int. CL H01J 37/317 (2006.01) H01J 37/30 (2006.01) H01L 21/265 (2006.01)
CPC H01J 37/304(2013.01) H01J 37/304(2013.01) H01J 37/304(2013.01) H01J 37/304(2013.01)
출원번호/일자 1020070056900 (2007.06.11)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0851892-0000 (2008.08.06)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080813) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.06.11)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문명운 대한민국 서울 관악구
2 한준현 대한민국 서울 동대문구
3 이광렬 대한민국 서울특별시 서초구
4 한승희 대한민국 서울 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주) 컴파스 시스템 서울특별시 구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2007.06.11 수리 (Accepted) 1-1-2007-0422531-53
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.12.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2008-0003838-91
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2008.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0062030-27
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.04.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0240825-92
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2008-0240822-55
7 등록결정서
Decision to grant
2008.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0396172-91
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
폴리머 표면에 이온 빔을 비스듬하게 조사하여 상기 폴리머 표면에 잔물결 (ripple) 패턴을 형성하되, 상기 이온 빔의 조사 시간을 조절하여 상기 잔물결 패턴이 서로 다른 2 이상의 주기를 갖는 계층적 구조 (hierarchical structure)를 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 잔물결 패턴을 특정 방향으로 배향시키는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 이온 빔의 입사각, 조사 시간, 가속 전압의 크기 중 적어도 하나를 조절하여 상기 잔물결 패턴의 폭과 높이를 조절하는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 이온 빔의 조사 시간을 조절하여 상기 잔물결 패턴의 단면 형상의 비대칭성을 조절하는 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 상기 이온 빔 조사가 이루어지는 챔버 내 압력 범위는 1
7 7
제1항에 있어서, 상기 이온 빔의 전압 범위는 100 V∼30
8 8
제1항에 있어서, 상기 이온 빔의 전류 범위는 1 ㎀∼10 ㎁인 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 폴리머는 폴리이미드 (polyimide)이고, 이온 빔의 입사각은 35°이상 90° 미만인 것을 특징으로 하는 이온 빔을 이용한 폴리머 표면 형상의 제어 방법
10 10
제1항의 방법에 의해 제조된 폴리머로서,상기 폴리머의 표면에 특정 방향으로 배향된 잔물결 패턴이 형성되되, 상기 잔물결 패턴은 서로 다른 2 이상의 주기를 갖는 계층적 구조 (hierarchical structure)를 갖는 것을 특징으로 하는 표면에 잔물결 패턴이 형성된 폴리머
11 11
표면에 이온 빔의 비스듬한 조사에 의해 특정 방향으로 배향된 잔물결 패턴이 형성된 폴리머와,상기 폴리머의 표면 위에 형성되며, 상기 잔물결 패턴에 의해 비대칭적으로 배열된 금속 박막을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 연성 동박 적층 기판
12 12
제10항에 따른 표면에 잔물결 패턴이 형성된 폴리머와,상기 폴리머 표면의 특정 방향으로 배향된 잔물결 패턴에 의해 특정 방향으로 배열되는 액정 (liquid crystal)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.