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하폐수 및 반송슬러지 내에 포함되어 있는 아질산성 질소와 질산성 질소를 탈질하는 전탈질조; 상기 전탈질조로부터 유입수를 공급받아 유입수 내에 포함되어 있는 인을 방출하는 혐기조; 상기 혐기조의 말단에 구비되어 상기 혐기조로부터 방출되는 인을 회수하는 인 여과조; 및상기 인 여과조의 후단에 순차적으로 구비되는 제 1 간헐포기조와 제 2 간헐포기조를 포함하여 이루어지며, 상기 제 2 간헐포기조 내에 침지식 막분리장치가 더 구비되며, 상기 혐기조 내의 003c#인을 방출한 슬러지003e# 및 003c#인이 축적된 유출수003e#는 상기 인 여과조로 공급되며, 상기 인 여과조 내에 인을 흡착, 회수하는 여재가 구비되는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리장치
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하폐수 및 반송슬러지 내에 포함되어 있는 아질산성 질소와 질산성 질소를 탈질하는 전탈질조; 상기 전탈질조로부터 유입수를 공급받아 유입수 내에 포함되어 있는 인을 방출하는 혐기조; 상기 혐기조의 말단에 구비되어 상기 혐기조로부터 방출되는 인을 회수하는 인 여과조; 및상기 인 여과조의 후단에 순차적으로 구비되는 제 1 간헐포기조와 제 2 간헐포기조를 포함하여 이루어지며, 상기 제 2 간헐포기조 내에 침지식 막분리장치가 더 구비되며, 상기 혐기조 내의 원수는 고액분리과정에 의해 003c#인을 방출한 슬러지003e#와 003c#인이 축적된 상징액003e#으로 분리되며, 혐기조 하부의 003c#인을 방출한 슬러지003e#는 상기 제 1 간헐포기조로 공급되며, 혐기조 상부의 003c#인이 축적된 상징액003e#은 상기 인 여과조로 공급되며, 상기 인 여과조 내에 인을 흡착, 회수하는 여재가 구비되는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 인 여과조 내의 여재는 황토여재로 구성되는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리장치
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4
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 간헐포기조와 제 2 간헐포기조 각각은 포기와 비포기상태로 교번 운전되며, 상기 제 1 간헐포기조와 제 2 간헐포기조의 운전 상태는 서로 반대인 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리장치
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 침지식 막분리장치는, 평막형 또는 중공사막형의 여과막과, 상기 여과막의 외면에 구비되는 부직포를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리장치
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7
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 침지식 막분리장치는 상기 제 2 간헐포기조의 포기상태에서만 동작하여 처리수를 생산하는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리장치
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8
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 간헐포기조 내의 슬러지는 상기 전탈질조로 반송되며, 상기 슬러지의 반송은 상기 제 2 간헐포기조의 포기상태에서만 진행되는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리장치
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제 4 항에 있어서, 상기 제 1 간헐포기조와 제 2 간헐포기조는, 포기상태에서 유기성 질소 및 암모니아성 질소를 아질산성 및 질산성 질소로 전환하며, 비포기상태에서 아질산성 및 질산성 질소를 질소 가스로 환원하는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리장치
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전탈질조, 혐기조, 인 여과조, 제 1 간헐포기조, 제 2 간헐포기조가 순차적으로 배치된 하폐수처리장치를 이용한 하폐수처리방법에 있어서, 상기 전탈질조에 하폐수 및 반송슬러지가 공급된 상태에서, 아질산성 질소와 질산성 질소의 탈질 과정이 진행되는 단계; 상기 전탈질조로부터 상기 혐기조로 유입수가 공급되며, 유입수 내의 인이 방출되는 단계; 상기 혐기조 내의 003c#인을 방출한 슬러지003e# 및 003c#인이 축적된 유출수003e#가 상기 인 여과조로 공급되는 단계; 및상기 제 1 간헐포기조와 제 2 간헐포기조가 포기상태와 비포기상태로 교번 운전되며, 포기상태시 유기성 질소 및 암모니아성 질소가 아질산성 및 질산성 질소로 전환하며, 비포기상태시 아질산성 및 질산성 질소가 질소 가스로 환원되는 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 제 2 간헐포기조 내에 침지식 막분리장치가 더 구비되며, 상기 제 2 간헐포기조가 포기상태시 상기 침지식 막분리장치에 의한 처리수 생산 과정이 진행되는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리방법
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전탈질조, 혐기조, 인 여과조, 제 1 간헐포기조, 제 2 간헐포기조가 순차적으로 배치된 하폐수처리장치를 이용한 하폐수처리방법에 있어서, 상기 전탈질조에 하폐수 및 반송슬러지가 공급된 상태에서, 아질산성 질소와 질산성 질소의 탈질 과정이 진행되는 단계; 상기 전탈질조로부터 상기 혐기조로 유입수가 공급되며, 유입수 내의 인이 방출되는 단계; 상기 혐기조 내에서 고액분리에 의해 003c#인이 방출된 슬러지003e#와 003c#인이 축적된 상징액003e#으로 분리되고, 혐기조 하부의 인이 방출된 슬러지는 상기 제 1 간헐포기조로 공급되며, 혐기조 상부의 인이 축적된 상징액은 상기 인 여과조로 공급되는 단계; 및상기 제 1 간헐포기조와 제 2 간헐포기조가 포기상태와 비포기상태로 교번 운전되며, 포기상태시 유기성 질소 및 암모니아성 질소가 아질산성 및 질산성 질소로 전환하며, 비포기상태시 아질산성 및 질산성 질소가 질소 가스로 환원되는 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 제 2 간헐포기조 내에 침지식 막분리장치가 더 구비되며, 상기 제 2 간헐포기조가 포기상태시 상기 침지식 막분리장치에 의한 처리수 생산 과정이 진행되는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리방법
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제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 제 2 간헐포기조가 포기상태시 제 2 간헐포기조 내의 슬러지는 상기 전탈질조로 반송되는 것을 특징으로 하는 인 여과조 및 막분리장치를 이용한 하폐수처리방법
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