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이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015121592
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이산화티타늄을 분리막에 고정시킴에 있어서 분리막의 비표면적이 감소되거나 분리막의 투과성능이 저하되는 것을 억제함과 함께 이산화티타늄 및 분리막에 의한 미량오염물질 제거 효율을 극대화할 수 있는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법은 003c#분리막 상에 고분자 나노구조체를 적층하는 단계003e#; 003c#이산화티타늄 나노구조체를 형성하는 단계003e#; 및 003c#열압착을 통해 이산화티타늄 나노구조체를 분리막에 고정하는 단계003e#를 포함하여 이루어지며, 상기 003c#분리막 상에 고분자 나노구조체를 적층하는 단계003e#는, 고분자 전구체를 포함한 혼합용액 및 분리막을 준비하는 과정과, 상기 혼합용액을 전기방사하여 분리막 상에 고분자 나노선을 증착하는 과정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL B01D 69/12 (2006.01) B01D 71/34 (2006.01) B01D 71/02 (2006.01) B01D 69/02 (2006.01)
CPC B01D 69/127(2013.01) B01D 69/127(2013.01) B01D 69/127(2013.01) B01D 69/127(2013.01)
출원번호/일자 1020120069109 (2012.06.27)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1370006-0000 (2014.02.26)
공개번호/일자 10-2014-0006188 (2014.01.16) 문서열기
공고번호/일자 (20140306) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.06.27)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍석원 대한민국 서울 서초구
2 유하나 대한민국 경기 포천시
3 수브라마니얀 라마순다람 인도 서울 성북구
4 이재상 대한민국 경기도 평택시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 씨제이인스트루먼트 주식회사 서울특별시 중랑구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0512506-17
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.02.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.03.06 수리 (Accepted) 9-1-2013-0011806-35
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.08.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0595261-86
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0933228-72
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.10.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0933227-26
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
8 등록결정서
Decision to grant
2014.02.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0126676-87
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
003c#분리막 상에 고분자 나노구조체를 적층하는 단계003e#; 003c#이산화티타늄 나노구조체를 형성하는 단계003e#; 및 003c#열압착을 통해 이산화티타늄 나노구조체를 분리막에 고정하는 단계003e#를 포함하여 이루어지며, 상기 003c#분리막 상에 고분자 나노구조체를 적층하는 단계003e#는, 고분자 전구체를 포함한 혼합용액 및 분리막을 준비하는 과정과, 상기 혼합용액을 전기방사하여 분리막 상에 고분자 나노선을 증착하는 과정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 나노구조체는 상기 분리막과 이산화티타늄 나노구조체 사이에 구비되어, 상기 이산화티타늄 나노구조체에 접착력을 부여하는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 전구체는 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF)인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 전구체는 폴리프로필렌(PP), 폴리이미드(PA) 폴리술폰(PSF), 폴리에테르술폰(PES), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리페닐렌술포이드(PPS) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 전구체를 포함한 혼합용액은 고분자 전구체, 아세톤 및 N,N-디메틸포름아미드(N,N-diemthylformamide)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 003c#이산화티타늄 나노구조체를 형성하는 단계003e#는, 이산화티타늄 전구체를 포함한 혼합용액 및 기판을 준비하는 과정과, 상기 혼합용액을 전기방사하여 기판 상에 이산화티타늄 나노선을 증착하는 과정과, 이산화티타늄 나노구조체의 결정상 비율을 조절하는 과정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
7 7
제 6 항에 있어서, 이산화티타늄 나노구조체의 결정상 비율을 조절하는 과정은, 아나타제 결정상과 루타일 결정상의 비율을 8:2∼7:3의 무게비로 조절하는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
8 8
제 6 항에 있어서, 이산화티타늄 나노구조체의 결정상 비율을 조절하는 과정은, 이산화티타늄 나노구조체가 적층된 분리막을 500∼600℃에서 소성하는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 이산화티타늄 전구체를 포함한 혼합용액은 산화티타늄 전구체, 에탄올 및 점도조절용 고분자결합제를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
10 10
제 6 항에 있어서, 상기 이산화티타늄 전구체를 포함한 혼합용액의 전기방사시 분사량은 3∼5ml/min인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
11 11
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 전구체를 포함한 혼합용액의 전기방사시 분사량은 1∼5ml/min인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
12 12
제 1 항에 있어서, 상기 분리막은 다수의 기공이 형성된 분리막으로서, 금속 재질, 세라믹 재질, 폴리머 재질 중 어느 한 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
13 13
제 1 항에 있어서, 상기 003c#열압착을 통해 이산화티타늄 나노구조체를 분리막에 고정하는 단계003e#는, 상기 003c#분리막 상에 고분자 나노구조체를 적층하는 단계003e#를 통해 얻어진 분리막의 고분자 나노구조체 상에 003c#이산화티타늄 나노구조체를 형성하는 단계003e#를 통해 얻어진 이산화티타늄 나노구체를 적층한 후, 25∼50MPa의 압력과 150∼250℃의 온도에서 5∼15분간 프레스로 분리막 양단을 열압착하는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막의 제조방법
14 14
분리막; 상기 분리막 상에 적층된 고분자 나노구조체; 및 상기 분리막의 고분자 나노구조체 상에 적층된 이산화티타늄 나노구조체를 포함하여 이루어지며, 상기 고분자 나노구조체는 상기 분리막과 이산화티타늄 나노구조체 사이에 구비되어, 상기 이산화티타늄 나노구조체에 접착력을 부여하며, 상기 이산화티타늄 나노구조체의 결정상은 아나타제와 루타일의 비율이 8:2∼7:3의 무게비인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막
15 15
제 14 항에 있어서, 상기 고분자 전구체는 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF)인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막
16 16
제 14 항에 있어서, 상기 고분자 전구체는 폴리프로필렌(PP), 폴리이미드(PA) 폴리술폰(PSF), 폴리에테르술폰(PES), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리페닐렌술포이드(PPS) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막
17 17
제 14 항에 있어서, 상기 분리막은 다수의 기공이 형성된 분리막으로서, 금속 재질, 세라믹 재질, 폴리머 재질 중 어느 한 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이산화티타늄 나노구조체가 결합된 분리막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.