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(a) 말단에 생체 분자의 도입이 가능한 표면 개질제를 준비하는 단계;(b) 고상 표면을 전처리하는 단계;(c) 상기 단계 (a)에서 준비된 표면 개질제로 상기 고상 표면을 개질하는 단계;를 포함하되,상기 단계 (a)에서, 폴리비닐피롤리돈(Polyvinylpyrrolidone, PVP)과 글루타알데히드(Glutaraldehyde, GA)를 반응시켜 하기 화학식 1로 표시되는 표면 개질제를 제조하는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법:[화학식 1](단, 상기 화학식에서 n : m = α : 1-α 이며, 0 003c# α 003c# 1 임)
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제 1항에 있어서,상기 단계 (b)에서, 상기 고상의 표면과 아민기 도입 물질을 반응시켜 아민기를 도입하는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 3항에 있어서,상기 아민기 도입 물질은 시스테아민, 페닐아민, 아미노티오페놀, 아릴옥시알킬아민, 3-멀캡토프로필트리매톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-메틸-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-메틸-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-아미노에틸-3-아미노프로필트리에톡시실란, 4-아미노사이클로트리메톡시실란, 4-아미노사이클로트리에톡시실란, p-아미노페닐트리메톡시실란 및 p-아미노페닐트리에톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 1항에 있어서,상기 고상은 금속, 세라믹 또는 고분자로 이루어진 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 5항에 있어서,상기 금속은 강(steel), 티타늄(Ti), 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 팔라듐(Pd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 5항에 있어서,상기 세라믹은 산화규소(SiO2), 산화티타늄(TiO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화니오븀(Nb2O5), 수산화인회석(hydroxyapatite) 및 유리(glass)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 5항에 있어서,상기 고분자는 폴리스티렌(PS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리술폰(polysulfone), 폴리에테르술폰(polyethersulfone), 니트로셀룰로오즈(nitrocellulose), 나일론(nylon) 및 폴리비닐리덴플루오리드(polyvinylidene fluoride)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 3항에 있어서,상기 단계 (b)에서는, 유리 플레이트의 표면을 피라나 용액(piranha solution)과 반응시킨 후 알코올과 반응시켜 히드록실기를 도입하고, 3-아미노프로필디메틸에톡시실란을 이용하여 유리 플레이트 표면에 아민기를 도입하는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 3항에 있어서,상기 단계 (b)에서는, 금(Au) 플레이트를 알코올과 반응시켜 표면에 히드록실기를 도입하고, 시스테아민(MEA)을 이용하여 금 플레이트 표면에 아민기를 도입하는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 3항에 있어서,상기 단계 (b)에서는, 실리카 입자를 알코올과 3-멀캡토프로필트리매톡시실란(MPTS)과 반응시켜 표면에 티올기를 도입하고, 아민기를 가지는 양자점을 티올기가 표면에 도입된 실리카 입자에 부착시켜 실리카 입자 표면에 아민기를 도입하는 것을 특징으로 하는 생체분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 3항에 있어서,상기 단계 (b)에서는, 폴리스티렌(PS) 플레이트 표면을 산소 플라즈마 처리한 후 테트라에틸올쏘실리케이트(TEOS)와 반응시켜 표면에 히드록실기를 도입하고, 3-아미노프로필디메틸에톡시실란(APMES)과 반응시켜 폴리스티렌 플레이트 표면에 아민기를 도입하는 것을 특징으로 하는 생체분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 1항에 있어서,상기 단계 (c)는 상기 고상 표면에 상기 표면 개질제를 첨가하여 교반하는 방법으로 반응시키는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 1항에 있어서,상기 단계 (c)를 거친 후 글루타알데히드를 첨가하여 고상 표면과 반응시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 생체 분자의 도입을 위한 고상 표면 개질방법
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제 1항 및 제 3항 내지 제 8항 중 어느 한 항의 방법에 의해 표면이 개질된 나노입자
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제 1항 및 제 3항 내지 제 8항 중 어느 한 항의 방법에 의해 표면이 개질된 시트
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