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대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015122884
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 감광제는 빛의 강도에 의해 감광되는 정도가 다르기 때문에 일정한 강도의 빛을 일정시간 조사하여야만 원하는 형태의 감광 패턴을 얻을 수 있다.종래 레이저 등의 광원에서 방출되는 빛은 강도가 공간상에서 가우시안 분포를 갖을 수 밖에 없으며 렌즈를 투과하였을 때도 마찬가지로 가우시안 분포를 갖게 되어, 광원을 감광제에 조사하면 감광 패턴은 조사된 광원의 강도 분포에 따라 달라지게 되어 균일한 영역이 매우 좁은 영역으로 제한될 수밖에 없었다.본 발명은 이러한 광원의 분포를 가우시안 형태에서 균일한 강도 분포로 변경하기 위하여 가우시안 분포의 특정 지점에 평탄화 광 강도 기준점을 두어 이에 맞추어 역가우시안 필터에 투과시킴으로써 광원의 강도 분포를 평탄화하는 방법에 관한 것으로, 작은 구경의 광학계를 이용하여서도 렌즈의 유효면적 이하의 대면적 회절격자를 제작할 수 있어 종래의 방법에서 사용되는 대구경 렌즈 및 거울 등의 광학계 비용을 절감할 수 있어 매우 경제적이다.홀로그래픽 격자, 가우시안 빔, 균일 빔, 역 가우시안 분포도, ND 필터, 자외선 레이저.
Int. CL G02B 26/02 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020000078678 (2000.12.19)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2002-0049493 (2002.06.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.12.19)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강병권 대한민국 경기도수원시팔달구
2 이석 대한민국 서울특별시관악구
3 박윤호 대한민국 경기도의정부시
4 김선호 대한민국 경기도고양시일산구
5 우덕하 대한민국 서울특별시구로구
6 양정수 대한민국 서울특별시마포구
7 송종한 대한민국 서울특별시서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이종일 대한민국 서울특별시 영등포구 당산로**길 **(당산동*가) 진양빌딩 *층(대일국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.12.19 수리 (Accepted) 1-1-2000-0272180-48
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
3 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent		 2002.03.08 수리 (Accepted) 1-1-2002-5061237-77
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.09.10 수리 (Accepted) 9-1-2002-0018819-56
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0376488-26
7 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2002.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2002-0423260-70
8 의견서
Written Opinion		 2003.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2003-0019776-30
9 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2003.01.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2003-0019777-86
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2003.04.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0129305-09
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2003.10.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0391532-80
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

홀로그래픽 격자 생성시 가우시안 빔을 평탄화하여 광 강도가 균일한 영역을 적당한 강도가 유지되는 유효면적의 크기로 확대한 상태에서 시료에 균일하게 입사함을 특징으로 하는 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법

2 2

청구항 1에 있어서, 상기 가우시안 빔의 평탄화가 피크 강도의 기준 영역을 선택할 때, 중심 부분에서의 투과율이나 반사율을 기준%로 하고 가장자리로 갈수록 투과율이나 반사율을 기준%보다 증가시켜 입사빔의 강도가 기준%인 경우, 100% 투과하거나 반사되도록 하는 투과 부재나 반사 부재에 의해 이루어짐을 특징으로 하는 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법

3 3

청구항 1에 있어서, 상기 가우시안 빔의 평탄화가 역가우시안 형태의 투과 필터에 의해 이루어짐을 특징으로 하는 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법

4 4

청구항 1에 있어서, 상기 가우시안 빔의 평탄화가 역가우시안 형태의 반사 거울에 의해 이루어짐을 특징으로 하는 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법

5 5

청구항 3 또는 청구항 4에 있어서, 상기 투과 필터나 반사 거울은 광학 평면이 유지됨을 특징으로 하는 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성방법

6 6

단일 파장 자외선의 빛을 투사하는 자외선 레이저와, 상기 자외선 빛을 핀홀에 집속하는 대물렌즈와, 상기 레이저 빛을 집속하여 확대하는 핀홀과, 상기 확대된 빔을 평행하게 하여 시료에 평행하게 조사하는 조준 렌즈와, 상기 시료의 다른 한쪽에 부착되어 시료에 입사된 빛과 반사된 빛이 특정한 각도를 갖게 하는 거울로 이루어지는 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성장치에 있어서,

상기 조준 렌즈와 시료 사이에 역가우시안 투과 필터나 역가우시안 반사 거울 중 어느 하나가 위치됨을 특징으로 하는 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성장치

7 7

청구항 6에 있어서, 상기 역가우시안 투과 필터는 역가우시안 ND(Neutral Density) 필터임을 특징으로 하는 대면적 홀로그래픽 회절격자 생성장치

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1 US20020075533 US 미국 FAMILY

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1 US2002075533 US 미국 DOCDBFAMILY
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