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레이저광을 발생하는 레이저와; 상기 레이저에 의하여 발생된 레이저광의 포커싱(Focusing)과 스캐닝(Scanning)을 하기 위한 광 어셈블리와; 상기 레이저광에 의하여 발생된 플라즈마의 증착원이 되는 타겟과; 상기 타겟을 장착시켜 주는 타겟 홀더와; 상기 타겟에 펄스 모드의 고전압을 공급해 주는 고전압 펄스 발생부와; 상기 고전압 펄스 발생부에서 출력되는 고전압 펄스를 상기 타겟에 공급해 주는 고전압 피드스루와; 상기 레이저에 의하여 발생된 펄스 모드의 레이저광에 의하여 발생된 타겟의 플라즈마를 사용하여 코팅 또는 표면 개질의 대상이 되는 모재와; 상기 모재를 장착시켜 주는 모재 홀더와; 상기 타겟, 타겟 홀더, 모재, 모재 홀더를 그 내부에 수용하면서 일정 진공도를 유지시켜 주는 진공 챔버와; 상기 진공 챔버의 진공도를 일정하게 유지시켜 주는 진공 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 단일 소스를 이용한 코팅과 표면처리 장치
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청구항 2(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 2항에 있어서, 상기 레이저는 펄스 폭, 펄스 주기 그리고 펄스 에너지의 조절이 가능한 펄스 모드 레이저광을 출력함으로써, 상기 타겟의 플라즈마 인텐시티 조절을 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 단일 소스를 이용한 코팅과 표면 처리 장치
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제 1∼3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 타겟에 공급되는 고전압 펄스 발생부의 고전압 펄스와 레이저의 펄스간의 동기가 가능하며 레이저 펄스와 고전압 펄스간의 동기 지연 시간(delay time)의 조절이 가능한 것을 특징으로 하는 단일 소스를 이용한 코팅과 표면 처리 장치
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청구항 5(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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청구항 6(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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청구항 7(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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청구항 8(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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일정 진공도를 갖는 진공 챔버에 단일 소스 플라즈마 생성원이 되는 타겟과, 상기 타겟에 의하여 생성된 플라즈마가 증착되는 모재를 설정하는 단계와; 상기 타겟에 고전압 펄스를 공급하면서, 상기 타겟에 펄스 모드의 레이저 광을 조사함으로써, 플라즈마를 생성하는 것을 특징으로 하는 단일 소스를 이용한 코팅과 표면 처리 방법
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제 9항에 있어서, 상기 단일 소스에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 단순 증착, 이온 주입, IBAD(Ion Implantation, Ion Beam Assisted Deposition), IBED(Ion Beam Enhanced Deposition), 증착/이온주입 중에서 어느 한 방식을 선택하여 수행하는 방법과, 상기 방법 중에서 적어도 한 방법 이상의 방법을 선택하여 임의의 순서로 조합하여 수행하는 것이 가능한 것을 특징으로 하는 단일 소스를 이용한 코팅과 표면 처리 방법
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청구항 11(은)는 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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