맞춤기술찾기

이전대상기술

다이캐스트성형용 용탕주입시 발생되는 잔탕 제거방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015122988
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 수평사출방식을 채택하고 있는 다이캐스팅 및 스퀴즈 캐스팅 기술의 용탕주입방법에 관한 것이다.본 발명은 사출슬리이브 내부로의 용탕주입시 금형 공간의 게이트와 사출플랜저로 둘러싸인 사출슬리이브 내부의 전체공간이 용탕으로 가득 채워지게하여 사출슬리이브 내부에 가스등이 전혀 존재하지 않도록한 상태에서 사출플랜저를 전진시켜 용탕의 금형공간에로의 사출이 이루어지도록 한 다이캐스트 성형용 용탕주입방법 및 그 장치에 관한 것이다.본 발명의 방법은 사출슬리이브 내로의 용탕주입단계에서 게이트와 사출슬리이브로 둘러싸인 사출슬리이브 내부가 가스나 공기등이 전혀 존재하지 않도록 용탕을 가득 채움에 의해 용탕의 사출시 용탕내부로 가스등이 혼입이 방지되어 건전한 다이캐스트 제품을 얻을 수 있는 이점이 있다.
Int. CL B22D 17/00 (2006.01)
CPC B22D 17/2015(2013.01) B22D 17/2015(2013.01)
출원번호/일자 1019930020440 (1993.10.04)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0096703-0000 (1996.03.08)
공개번호/일자 10-1995-0011009 (1995.05.15) 문서열기
공고번호/일자 1019950014490 (19951202) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1993.10.04)
심사청구항수 5

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이호인 대한민국 서울특별시송파구
2 김기배 대한민국 서울특별시중랑구
3 김용준 대한민국 서울특별시용산구
4 정희철 대한민국 서울특별시은평구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1993.10.04 수리 (Accepted) 1-1-1993-0106186-62
2 특허출원서
Patent Application
1993.10.04 수리 (Accepted) 1-1-1993-0106185-16
3 출원심사청구서
Request for Examination
1993.10.04 수리 (Accepted) 1-1-1993-0106187-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1995.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1993-0045395-26
5 의견서
Written Opinion
1995.09.28 수리 (Accepted) 1-1-1993-0106189-09
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1995.09.28 수리 (Accepted) 1-1-1993-0106188-53
7 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application
1995.11.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1993-0045396-72
8 등록사정서
Decision to grant
1996.03.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1993-0045397-17
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

사출제어장치(15)에 의해 제어되는 사출피스톤(20)과 연결설치된 사출플랜저(13)가 사출슬리이브(24)내의 전공간에 가득 채워지도록 주입된 용탕을 용탕주입구(25)를 지나기 전까지 저속으로 가압시키다가 사출플랜저(13)가 용탕주입구(25)를 지나는 위치에서부터 고속으로 가압하여 금형공간(29)으로 용탕(39)의 사출이 이루어지도록 하는 다이캐스팅 용탕주입방법에 있어서, 사출플랜저(13)의 저속사출시 용탕주입구(25)를 통해 외부로 토출되는 용탕(39)을 일시적으로 급탕관(30)에 잔류시키고, 사출플랜저(13)의 고슥사출시 급탕관(30)에 잔류되어 있던 잔탕(39a)이 사출슬리이브 내부로 낙하되도록 한 후, 용탕주입후 복귀되는 사출플랜저(13)가 사출슬리이브(24)의 내부로 낙하되어 응고된 잔탕(39c)을 사출슬리이브(24)의 후방측 저면에 형성된 잔탕배출구(31)로 제거시키도록 한 것을 특징으로 하는 다이캐스트 성형용 용탕주입시 발생되는잔탕의 제거방법

2 2

사출슬리이브(24) 내부로 주입된 용탕(39)을 사출플랜저(13)로 가압하여 금형공간(29)으로 용탕(39)의 사출이 이루어지도록 하는 수평사출방식의 다이캐스팅 장치에 있어서

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.