1 |
1
포스핀기를 포함하는 고분자 담체상에 ZnX2(이때, X는 할로겐 원자) 화합물이 지지되어 있는 것임을 특징으로 하는 고분자 지지촉매
|
2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 Zn가 1 ∼ 20 중량% 지지되어 있는 것임을 특징으로 하는 고분자 지지촉매
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
제 1 항에 있어서, 상기 포스핀기 함유 고분자는 폴리(비닐벤질클로라이드)와 리튬금속을 반응시켜 고분자의 탄소와 리튬 결합을 갖는 물질을 합성한 후, R2PX(R=페닐, CH3, CH3CH2, 사이클로헥실/ X=할로겐 원자)와 반응시켜 얻은 것임을 특징으로 하는 고분자 지지촉매
|
5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 포스핀기 함유 고분자는 메리필드레진과 리튬금속을 반응시켜 고분자의 탄소와 리튬 결합을 갖는 물질을 합성한 후, R2PX(R=페닐, CH3, CH3CH2, 사이클로헥실/ X=할로겐 원자)와 반응시켜 얻은 것임을 특징으로 하는 고분자 지지촉매
|
6 |
6
촉매하에서 알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 반응시켜 다음 화학식 1를 갖는 알킬렌카보네이트를 제조하는 방법에 있어서, 상기 촉매로는 포스핀기를 포함하는 고분자 담체상에 ZnX2(이때, X는 할로겐 원자) 화합물이 지지되어 있는 고분자 지지촉매를 사용하는 것을 특징으로 하는 알킬렌카보네이트 제조방법 :화학식 1상기 화학식 1에서, R1은 수소, 탄소수 1∼4개의 알킬기 또는 페닐기 이다
|
7 |
7
제 6 항에 있어서, 상기 촉매는 담체와 ZnX2(이때, X는 할로겐 원자) 화합물의 혼합물 또는 이들의 화학적 결합물인 것을 특징으로 하는 알킬렌카보네이트 제조방법
|
8 |
8
제 6 항에 있어서, 상기 촉매의 사용량이 알킬렌옥사이드에 대해 0
|
9 |
9
제 6 항에 있어서, 상기 반응의 반응온도가 80 ∼ 140 ℃인 것을 특징으로 하는 알킬렌카보네이트 제조방법
|
10 |
10
제 6 항에 있어서, 상기 반응의 반응압력이 10 ∼ 100 기압인 것을 특징으로 하는 알킬렌카보네이트 제조방법
|
11 |
11
제 6 항에 있어서, 상기 반응은 용매를 사용하지 않는 것을 특징으로 하는 알킬렌카보네이트 제조방법
|
12 |
12
제 6 항에 있어서, 상기 반응용매로는 생성되는 알킬렌카보네이트와 동일한 물질을 사용하는 것을 특징으로 하는 알킬렌카보네이트 제조방법
|
13 |
13
제 12 항에 있어서, 상기 용매가 에틸렌카보네이트 또는 프로필렌카보네이트인 것을 특징으로 하는 알킬렌카보네이트 제조방법
|
14 |
13
제 12 항에 있어서, 상기 용매가 에틸렌카보네이트 또는 프로필렌카보네이트인 것을 특징으로 하는 알킬렌카보네이트 제조방법
|