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광반응성 물질에 광을 조사하기 위한 광조형물 제조 장치에 있어서, 광원, 상기 광원을 선택적으로 투과시키기 위해 상태가 가변적인 물질을 포함한 마스크, 및 상기 마스크에 네가티브 패턴을 형성하기 위해 신호를 상기 마스크에 제공하는 신호 처리기 를 포함하는 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 광원은 자외선이나 가시 광선인 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 물질은 광경화성 액정인 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 마스크는 액정 패널인 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 신호 처리기는 개인용 컴퓨터인 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 광원이 조사되는 위치에 상기 광반응성 물질을 제공하기 위한 플랫폼을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 장치
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제1항에 있어서, 상기 광반응성 물질의 표면을 고르게 하기 위한 리코우터(recoater)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 장치
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플랫폼상에 광경화성 수지층을 형성하는 제1단계, 액정 패널에 네가티브 마스크 패턴을 형성하는 제2단계, 및 상기 액정 패널의 네가티브 마스크 패턴을 통해 상기 광경화성 수지층에 광을 조사하는 제3단계 를 포함하는 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 제1단계는 상기 광경화성 수지가 담겨진 수지통 내에 위치하는 상기 플랫폼을 수직으로 구동시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 제3단계는 결과적으로 상기 액정 패널의 네가티브 마스크 패턴에 대응되는 패턴으로 상기 광경화성 수지를 경화시키는 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 제1단계 내지 제3단계를 연속적으로 반복함으로써 3차원 조형물을 형성하는 것을 특징으로 하는 광조형물 제조 방법
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