요약 |
본 발명은 다음 일반식(Ⅰ)로 표시되는 신규한 에스테르계 세파로스포린과 약제학적으로 허용되는 그 염 및 그 제조방법에 관한 것이다.식 중, R1은 수소 또는 트리틸, 3급 부톡시카보닐, 벤질, 클로로아세틸, 트리클로로아세틸, 벤질옥시카르보닐, 파라-메톡시벤질옥시 카르보닐, 포르밀, 트리플르오르아세틸기이고, R2는 탄소수 1~4의 알킬기 또는 탄소수 3~7의 시클로알킬기 또는 페닐, 할로페닐 니트로페닐, 저급알콕시 페닐기이고, R3은 탄소수 1~4의 알킬기 또는 탄소수 3~7의 시클로알킬기 또는 페닐, 할로페닐 니트로페닐, 저급알콕시 페닐기이고, R3은 탄소수 1~4의 알킬기 또는 탄소수 3~7의 시클로알킬기 또는 페닐, 할로페닐, 니트로페닐, 저급알콕시페닐기임.본 발명의 일반식(Ⅰ)의 화합물은 광범위한 항균작용을 나타내므로 세파로르포린계 의약품으로 유용하다. 본 발명의 일반식(Ⅰ) 화합물의 제조공정은 다음과 같다.식 중, R1, R2, R3는 상기에서 정의한 바와같고, X는 할로겐원자 또는 메탄술폰네이트, 파라-톨루엔 술포네이트이고, Q는 수소, 나트륨, 칼륨, 칼슘원자, 트리에틸아민, 디시클로헥실아민, 아닐린, 디메틸아닐린임.
|